专利名称：单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块，应用于平面锻件的超声波探伤。
背景技术：
超声波检测试块的作用确定检测灵敏度，测试仪器和探头的性能，调整扫描速度，评判缺陷大小。现有技术中对检测距离小于等于305mm的单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块的平底孔孔径做出了具体规定，对于检测距离大于305mm的单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块的平底孔仅做简略说明“可以要求更大的直径或齿距”，未作具体限
定。 因此，需要一种新的对比试块以满足探测大尺寸平面锻件的要求。
实用新型内容发明目的本发明的目的就是提供一种单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块，以弥补检测距离大于305mm的平面锻件超声波探伤的不足。技术方案为实现上述发明目的，本实用新型的对比试块可采用如下技术方案一种单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块，所述对比试块为圆柱体，所述对比试块的一侧底面上设置有平底孔，所述平底孔垂直于底面，所述平底孔与另一侧底面的距离为L,当L小于等于152mm时，所述对比试块的直径为50. 8mm±0. 76mm ；当L大于152mm且小于等于305mm时,所述对比试块的直径为63. 5mm±0. 76mm ;当L大于305mm时,所述对比试块的直径为7^17/ram ±0. 76mm，其中f为所述单晶探头的工作频率，所述工作频率的单位为兆赫。技术效果与现有技术相比，本实用新型的单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块的发明，克服了检测距离大于305mm的大尺寸平面锻件无法调试标定的困难，提高了单晶探头探测平面锻件的水平。优选的，所述平底孔位于对比试块一侧底面的中部。优选的，所述平底孔的深度为19mm土 I. 6mm。优选的，所述平底孔与另一侧底面的距离为L，当L小于等于38. Imm时，所述平底孔的直径为I. 6mm±0. 013mm ;当L大于38. Imm且小于等于152. 4mm时,所述平底孔的直径为3. 2mm±0. 03mm ;当L大于152. 4mm时，所述平底孔的直径为6. 4mm±0. 03mm。采用此项要求，能够大大提高单晶探头探测平面锻件的精度，高于国家和国际标准。优选的，所述对比试块的两个底面的表面平直度小于等于O. 01mm，所述对比试块的表面平行度小于等于O. 02mm。优选的，所述平底孔相对于对比试块底面的平直度和垂直度均小于等于0° 20’。优选的，所述平底孔的孔底的平整度小于等于lmm/125mm，所述平底孔的轴线距离对比试块的轴线在O. 38mm以内。[0014]优选的，所述平底孔的开口处具有平底扩孔，所述平地扩孔的直径为
6.4mm±0. 5mm,所述平底扩孔的深度为I. 6mm±0. 5mm。
图I是本实用新型单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块的主视图。图2是本实用新型单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块的仰视图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例，进一步阐明本实用新型，应理解这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围，在阅读了本实用新型之后，本领域技术人员对本实用新型的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。如图I、图2所示，本实用新型的单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块，对比试块为圆柱体，对比试块的一侧底面上设置有平底孔，平底孔垂直于底面。试块直径公差±0. 76mm,检测距离< 152mm,直径50. 8mm ； 152mm<检测距离< 305mm,直径63. 5mm ;检测距离>305mm，对比试块的直径为7、/ L,/imu其中L为检测距离，f为单晶探头的工作频率(单位MHz)。实践证明，位于工件侧壁附近的小缺陷，用与侧壁平行的声束很难检测，这是因为存在着工件侧壁干扰现象的缘故。这一干扰现象往往由经侧壁反射后的纵波(或横波)与不经反射的直射纵波之间的干扰引起的，其结果是干扰了直射声波的返回升压，使探测灵敏度下降。在脉冲反射式探伤中，一般单次脉冲持续时间所对应的声程不大于四倍的声波波长，故只要侧壁反射声束路程大于直射纵波声束路程，侧壁干扰既可避免。对于钢来说，纵波直探头离侧壁的距离d应满足下列条件Ainiii >3.5#式中为超声波探测频率，单位为兆赫。X为声程，单位为毫米。因此当检测距离大于305mm时，对比试块的直径设置为 」Γ7/ 其中L为检测距离，f为单晶探头的工作频率(单位MHz)。单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块划分为DAYYY (8630-4-XXXX)，PBYYY(8630-8-XXXX)，PCYYY(8630-16-XXXX)三套，每种类型平底孔直径分别为1.6mm，
3.2mm,6. 4mm。材料类型有8630、410、4140、4130、F22等。对比试块的金属行程，即探测距离，公差为±O. 38mm。平底孔的孔深标称值19mm± I. 6mm。对于小于等于I. 6mm的平底孔，孔径公差±0. 013mm,大于I. 6mm的孔,孔径公差±0. 03mm,由于镀层/电镀期间可能的边缘堆起，该公差仅适用于试块边缘3. 2mm以外的部分。对比试块上下底面的表面平直度在
O.Olmm内且平行度在O. 02mm内。平底孔必须竖直并和测试面垂直，(偏差)在0° 20’以内。孔底的平直度必须在lmm/125m，平底孔的轴线距离对比试块轴线在O. 38mm以内。平底扩孔的直径约为6. 4mm,深约I. 6mm。对比试块制作参数(以8630为例)
权利要求1.一种单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块，所述对比试块为圆柱体，所述对比试块的一侧底面上设置有平底孔，所述平底孔垂直于底面，所述平底孔与另一侧底面的距离为L，当L小于等于152mm时，所述对比试块的直径为50. 8mm±0. 76mm ;当L大于152mm且小于等于305mm时，所述对比试块的直径为63. 5 mm±0. 76mm ;其特征在于，当L大于305mm时，所述对比试块的直径为'7JZT7 mm±0. 76mm，其中f为所述单晶探头的工作频率，所述工作频率的单位为兆赫。
2.如权利要求I所述的单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块，其特征在于，所述平底孔位于对比试块一侧底面的中部。
3.如权利要求I所述的单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块，其特征在于，所述平底孔的深度为19_±1.6_。
4.如权利要求I所述的单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块，其特征在于，所述平底孔与另一侧底面的距离为L，当L小于等于38. Imm时，所述平底孔的直径为I. 6mm±0. 013mm ;当L大于38. Imm且小于等于152. 4mm时，所述平底孔的直径为3.2mm±0. 03mm ;当L大于152. 4mm时，所述平底孔的直径为6. 4mm±0. 03mm。
5.如权利要求I所述的单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块，其特征在于，所述对比试块的两个底面的表面平直度小于等于O. 01mm，所述对比试块的表面平行度小于等于O. 02mm。
6.如权利要求I所述的单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块，其特征在于，所述平底孔相对于对比试块底面的平直度和垂直度均小于等于0° 20’。
7.如权利要求I所述的单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块，其特征在于，所述平底孔的孔底的平整度小于等于lmm/125mm，所述平底孔的轴线距离对比试块的轴线在O.38mm 以内。
8.如权利要求I所述的单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块，其特征在于，所述平底孔的开口处具有平底扩孔，所述平地扩孔的直径为6. 4mm±0. 5mm，所述平底扩孔的深度为 I. 6mm±0. 5mm0
专利摘要本实用新型公开了一种单晶探头探测平面锻件平底孔对比试块，所述对比试块为圆柱体，所述对比试块的一侧底面上设置有平底孔，所述平底孔垂直于底面，所述平底孔与另一侧底面的距离为L，当L小于等于152mm时，所述对比试块的直径为50.8mm±0.76mm；当L大于152mm且小于等于305mm时，所述对比试块的直径为63.5mm±0.76mm；当L大于305mm时，所述对比试块的直径为mm±0.76mm，其中f为所述单晶探头的工作频率(单位MHz)。本实用新型弥补了检测距离大于305mm的大尺寸平面锻件无法调试标定的困难，提高了单晶探头探测平面锻件的水平。
文档编号G01N29/30GK202710521SQ201220147018
公开日2013年1月30日 申请日期2012年4月1日 优先权日2012年4月1日
发明者张利, 陈昌华 申请人:南京迪威尔高端制造股份有限公司