技术总结
本发明涉及一种用于测量对象(B)沿着第一轴(z)的位置的光学装置(1)，其包括：光学成像系统(5)，其包括用于收集被对象(B)散射的光辐射的物镜(53)；透射掩膜(8)，其至少具有第一小孔(81,83)和第二小孔(82,84)；分离布置(9)，其用于沿着垂直于第一轴和第二轴的第三轴(y)而在相反的方向上将来辐射的第一部分(R1)与辐射的第二部分(R2)分离；以及检测器(6)，其具有检测器平面(61)，检测器(6)适合于生成包括第一光斑(S1)和第二光斑(S2)的图像，其中，对象(B)沿着第一轴(z)相对于成像系统的对象平面的位置变化引起第一光斑(S1)和第二光斑(S2)沿着第二轴(x)相对于彼此的位置变化。
技术研发人员：文森特·克罗凯特;珍-弗朗索瓦·阿勒芒;蒂博·维埃耶
受保护的技术使用者：巴黎科学与文学联大-拉丁校区;国家科学研究中心;皮埃尔和玛利居里大学(巴黎第六大学);狄德罗-巴黎第七大学
文档号码：201611179066
技术研发日：2016.12.19
技术公布日：2017.06.27