基于结构光照明的面形测量装置和方法与流程

本发明涉及一种面形测量装置及方法，具体涉及一种基于结构光照明的面形测量装置和方法，可实现结构光照明条纹在被观测样品空间的高速轴向扫描，并且减小背景噪声和样品表秒反射率差异对测量结果的影响，属于光学显微成像与面形测量领域。

背景技术：

变焦面形测量方法通过判别被测样品在成像物镜视场内不同轴向位置成像的清晰度来获得样品表面的面形。常规变焦面形测量方法使用载物台驱动样品进行轴向扫描，扫描速度慢，效率低。并且，常规方法将不同轴向位置拍摄图片的对比度作为度量对象，获得样品表面每点的轴向响应，最大值所对应的位置即为样品表面的相对高度。然而受到背景噪声影响，对于低反射率和反射率差异较大的样品，常规方法会引入较大误差，制约了变焦面形测量方法的应用。

技术实现要素：

在下文中给出了关于本发明的简要概述，以便提供关于本发明的某些方面的基本理解。应当理解，这个概述并不是关于本发明的穷举性概述。它并不是意图确定本发明的关键或重要部分，也不是意图限定本发明的范围。其目的仅仅是以简化的形式给出某些概念，以此作为稍后论述的更详细描述的前序。

鉴于此，为了克服上述技术问题，本发明提供了一种基于结构光照明的面形测量装置和方法，不仅可以提高变焦与轴向层析速度，减小样品表面反射率差异对测量结果的影响，提高了测量系统信噪比。

方案一：本发明提供了一种基于结构光照明的面形测量，包括结构光照明模块、轴向扫描模块和探测模块：

所述结构光照明模块按照光线传播方向依次为：激光器、传导光纤、准直镜、振幅型正弦光栅和管镜一；

所述轴向扫描模块按照光线传播方向依次为：偏振分光镜一、四分之一波片一、物镜一、平面反射镜、管镜二、管镜三、偏振分光镜二、四分之一波片二和物镜二；

所述探测模块按照光线传播方向依次为：管镜四和CCD；

物镜二的下方设置被测样品。

进一步的：所述偏振分光镜一反射光偏振方向同管镜一出射光偏振方向相同。

进一步的：所述偏振分光镜二透射光偏振方向同管镜三出射光偏振方向相同。

进一步的：所述平面反射镜轴向最大移动范围等于物镜一的焦深。

进一步的：所述管镜一和管镜二焦距相等。

方案二：本发明提出的一种基于结构光照明的面形测量方法，该方法是基于方案一所述的基于结构光照明的面形测量装置实现的，具体步骤：

数据采集步骤：

步骤a、激光器一发出激发光，经过传导光纤和准直镜之后形成平行光，平行光经过振幅型正弦光栅调制后，依次经过管镜一、偏振分光镜一、四分之一波片一和物镜一(8)出射到平面反射镜，反射后的光依次经过物镜一、四分之一波片一、偏振分光镜一、管镜二、管镜三、偏振分光镜二、四分之一波片二和物镜二后出射到被测样品表面形成正弦分布的照明光；

步骤b、照射在样品表面正弦分布的光经样品表面反射后，依次经过物镜二和四分之一波片二，然后经偏振分光镜反射，最后被管镜四会聚在CCD上，获得图像；

步骤c、设置平面反射镜初始位置位于物镜一的准焦面②，则共轭正弦光位于物镜二的准焦面②’，设置平面反射镜轴向扫描范围D1+D2，则对应共轭正弦光轴向扫描范围为D1’+D2’，平面反射镜位置与共轭正弦光位置对应关系为D1/D1’＝D2/D2’＝(M1M2)²；所述D1为平面反射镜远焦位移，D1’为共轭正弦光近焦位移，D2为平面反射镜近焦位移，D2’为共轭正弦光远焦位移，M1为物镜一与管镜二的焦距比值，M2为管镜三与物镜二的焦距比值；

步骤d、设置扫描层数为N，则平面反射镜扫描步进为(D1+D2)/N，共轭正弦光轴向扫描步进为(D1’+D2’)/N，在每个轴向位置CCD进行一次图像采集，最终获得N幅图像。

数据处理步骤：

步骤e、图像分割：将CCD采集的每幅M×M大小的图像分割为J×J个L×L大小的子图；

步骤f、轴向响应计算：将相同横向位置的N个子图分别进行L阶离散傅里叶变换，求得每幅子图在频率f处的分量，得到该横向位置的轴向响应；

步骤g、峰值位置拟合：以高斯函数为目标函数，拟合轴向响应得到峰值位置，即为该点的相对高度；

步骤h、对J×J个子图进行步骤f和步骤g的操作，最终可以得到每个横向位置处样品的相对高度，获得样品面形。

进一步的：所述步骤e中J、M和L的计算关系为J＝M-L+1；

进一步的：所述步骤f中频率f＝L/k，其中k为子图中含有正弦条纹的对数；

进一步的：所述步骤f中子图在频率f处分量计算方法为其中f(x,y)为图像在(x,y)处的像素值，m、n分别为x、y所对应的频率分量。

有益效果：

本发明在常规结构光照明显微系统中增加快速轴向扫描装置，实现结构光照明条纹在被观测样品空间的高速轴向移动，提高了检测效率。并且，利用窗口傅里叶变换对不同z向位置条纹投影下拍摄的图片进行处理，通过计算每个横向位置清晰度轴向响应曲线获取样品表面面形。该发明具有装调简单，轴向扫描速度快，测量结果受样品表面反射率差异影响小和信噪比高的优点。

附图说明

图1为本发明的基于结构光照明的面形测量装置的结构示意图。

图2为本发明的基于结构光照明的面形测量方法流程图。

图3为本发明的基于结构光照明的面形测量方法数据处理流程图。

图中：1激光器一、2传导光纤一、3准直镜一、4振幅型正弦光栅、5管镜一、6偏振分光镜一、7四分之一波片一、8物镜一、9平面反射镜、10管镜二、11管镜三、12偏振分光镜二、13四分之一波片二、14物镜二、15管镜四、16CCD、17被测样品。

具体实施方式

在下文中将结合附图对本发明的示范性实施例进行描述。为了清楚和简明起见，在说明书中并未描述实际实施方式的所有特征。然而，应该了解，在开发任何这种实际实施例的过程中必须做出很多特定于实施方式的决定，以便实现开发人员的具体目标，例如，符合与系统及业务相关的那些限制条件，并且这些限制条件可能会随着实施方式的不同而有所改变。此外，还应该了解，虽然开发工作有可能是非常复杂和费时的，但对得益于本发明公开内容的本领域技术人员来说，这种开发工作仅仅是例行的任务。

在此，还需要说明的一点是，为了避免因不必要的细节而模糊了本发明，在附图中仅仅示出了与根据本发明的方案密切相关的装置结构和/或处理步骤，而省略了与本发明关系不大的其他细节。

实施例1：如附图1所示本实施例提供了一种基于结构光照明的面形测量装置，用于快速切换轴向位置实现三维层析扫描。

一种基于结构光照明的面形测量装置，包括结构光照明模块、轴向扫描模块和探测模块：

所述结构光照明模块按照光线传播方向依次为：激光器1、传导光纤2、准直镜3、振幅型正弦光栅4和管镜一5；

所述轴向扫描模块按照光线传播方向依次为：偏振分光镜一6、四分之一波片一7、物镜一8、平面反射镜9、管镜二10、管镜三11、偏振分光镜二12、四分之一波片二13和物镜二14；

所述探测模块按照光线传播方向依次为：管镜四15和CCD16；

物镜二14的下方设置被测样品17。

更为具体的：所述偏振分光镜一6反射光偏振方向同管镜一5出射光偏振方向相同。

更为具体的：所述偏振分光镜二12透射光偏振方向同管镜三11出射光偏振方向相同。

更为具体的：所述平面反射镜9轴向最大移动范围等于物镜一8的焦深。

更为具体的：所述管镜一5和管镜二10焦距相等。

实施例2：如附图2和3所示本实施例提供了一种基于结构光照明的面形测量方法，用于快速切换轴向位置实现三维面形测量。

一种基于结构光照明的面形测量方法，该方法是基于实施例1所述的基于结构光照明的面形测量装置实现的，具体步骤：

数据采集步骤：

步骤a、激光器一1发出激发光，经过传导光纤2和准直镜3之后形成平行光，平行光经过振幅型正弦光栅4调制后，依次经过管镜一5、偏振分光镜一6、四分之一波片一7和物镜一8出射到平面反射镜9，反射后的光依次经过物镜一8、四分之一波片一7、偏振分光镜一6、管镜二10、管镜三11、偏振分光镜二12、四分之一波片二13和物镜二14后出射到被测样品17表面形成正弦分布的照明光；

步骤b、照射在样品表面正弦分布的光经样品表面反射后，依次经过物镜二14和四分之一波片二13，然后经偏振分光镜12反射，最后被管镜四15会聚在CCD16上，获得图像；

步骤c、设置平面反射镜9初始位置位于物镜一8的准焦面②，则共轭正弦光位于物镜二14的准焦面②’，设置平面反射镜9轴向扫描范围D1+D2，则对应共轭正弦光轴向扫描范围为D1’+D2’，平面反射镜9位置与共轭正弦光位置对应关系为D1/D1’＝D2/D2’＝(M1M2)²；所述D1为平面反射镜9远焦位移，D1’为共轭正弦光近焦位移，D2为平面反射镜9近焦位移，D2’为共轭正弦光远焦位移，M1为物镜一8与管镜二10的焦距比值，M2为管镜三11与物镜二14的焦距比值；

步骤d、设置扫描层数为N，则平面反射镜9扫描步进为(D1+D2)/N，共轭正弦光轴向扫描步进为(D1’+D2’)/N，在每个轴向位置CCD16进行一次图像采集，最终获得N幅图像。

数据处理步骤：

步骤e、图像分割：将CCD采集的每幅M×M大小的图像分割为J×J个L×L大小的子图；

步骤f、轴向响应计算：将相同横向位置的N个子图分别进行L阶离散傅里叶变换，求得每幅子图在频率f处的分量，得到该横向位置的轴向响应；

步骤g、峰值位置拟合：以高斯函数为目标函数，拟合轴向响应得到峰值位置，即为该点的相对高度；

步骤h、对J×J个子图进行步骤f和步骤g的操作，最终可以得到每个横向位置处样品的相对高度，获得样品面形。

更为具体的：所述步骤e中J、M和L的计算关系为J＝M-L+1；

更为具体的：所述步骤f中频率f＝L/k，其中k为子图中含有正弦条纹的对数；

更为具体的：所述步骤f中子图在频率f处分量计算方法为，其中f(x,y)为图像在(x,y)处的像素值，m、n分别为x、y所对应的频率分量。

虽然本发明所揭示的实施方式如上，但其内容只是为了便于理解本发明的技术方案而采用的实施方式，并非用于限定本发明。任何本发明所属技术领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭示的核心技术方案的前提下，可以在实施的形式和细节上做任何修改与变化，但本发明所限定的保护范围，仍须以所附的权利要求书限定的范围为准。