一种便携式穿戴产品模组检测设备的制作方法

1.本实用新型涉及光学检测设备技术领域，尤其涉及一种便携式穿戴产品模组检测设备。


背景技术：

2.头戴显示设备是一种近眼显示系统，佩戴在用户的头部装置，在用户眼前呈现显示画面。头戴显示设备的鬼影现象，会严重影响使用者的沉浸感，鬼影显示是光线经过透射的折反射后，镜头的焦平面附近形成的虚像，该虚像有可能叠加在原本的实物上，或在原本的实物附近成像，这样会引起实物边缘模糊，或者重影等，这些都导致使用者无法看清实物。业界常用的方法是将组装好的头戴设备放置在专业的设备内进行检测，但这种设备体积大，功能复杂，成本高，而且vr模组组装好后，不易拆卸，不便于在生产线及质检室使用。


技术实现要素：

3.针对现有技术中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种体积小、vr模组安装方便快捷的便携式穿戴产品模组检测设备。
4.为达到以上目的，本实用新型采用如下技术方案。
5.一种便携式穿戴产品模组检测设备，包括：升降装置，与所述升降装置驱动连接的拍摄模块，与所述拍摄模块连接的图像处理装置，用于驱动待检测模组点亮显示屏幕并更换显示图像的驱动器，与所述驱动器连接且用于驱动所述驱动器做水平直线往返运动的直线模组，以及用于安装所述待检测模组的磁吸治具；在所述直线模组上设有与所述磁吸治具磁吸配合的通用底板。
6.作为上述方案的进一步说明，在所述驱动器上设有用于与所述待检测模组连接的扣合治具，所述扣合治具可转动地安装在所述驱动器上。
7.作为上述方案的进一步说明，在所述扣合治具上设有与所述待检测模组的针脚连接的接触针脚。
8.作为上述方案的进一步说明，在所述磁吸治具上设有用于固定所述磁吸治具的磁铁；所述通用底板为能被磁铁吸引的铁磁金属件。
9.作为上述方案的进一步说明，在所述磁吸治具和所述通用底板的其中一个上设有定位凸型，在另一个上设有与所述定位凸型配合的定位凹型。
10.作为上述方案的进一步说明，所述升降装置驱动连接有第二直线模组，所述升降装置在所述第二直线模组下做水平直线往返运动，所述直线模组和所述第二直线模组相互垂直设置。
11.作为上述方案的进一步说明，还包括外壳，在所述外壳上有翻盖门，所述翻盖门与所述外壳通过铰链铰接。
12.作为上述方案的进一步说明，所述图像处理装置为计算机，所述计算机设在所述外壳上。
13.作为上述方案的进一步说明，所述拍摄模块包括：鬼影相机以及设在所述鬼影相机上的相机镜头。
14.本实用新型的有益效果是：（1）磁吸治具采用磁吸快换的方式与通用底板连接，同一治具底板可以兼容vr模组的左右眼模组，人工可以离线将待检测模组安装在磁吸治具上并对待检测模组位置进行检查，降低了待检测模组被刮伤的风险，实现了单台设备可完成对vr模组左右眼的检测需求，结构简单，体积小，方便安装及更换待检测模组，降低了设备使用门槛及设备成本。（2）vr模组flex与驱动器的连接采用扣合治具的方式，不仅连接方便，且不易损伤待检测模组的flex的针脚，便于对模组进行大批量检测。
附图说明
15.图1所示为本实用新型提供的便携式穿戴产品模组检测设备立体图。
16.图2所示为本实用新型提供的便携式穿戴产品模组检测设备的磁吸治具和通用底板结构图。
17.图3所示为本实用新型提供的便携式穿戴产品模组检测设备的结构图。
18.附图标记说明。
19.1：第二直线模组，2：直线模组，3：升降装置，4：通用底板，5：扣合治具，6：驱动器，7：鬼影相机，8：相机镜头，9：磁吸治具，9.1：磁铁，9.2：定位凸型，10：外壳，11：翻盖门，12：计算机，13：气动按钮。
具体实施方式
20.在本实用新型的描述中，需要说明的是，对于方位词，如有术语“中心”，“横向
”ꢀ
、“纵向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于叙述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作，不能理解为限制本实用新型的具体保护范围。
21.此外，如有术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”特征可以明示或者隐含包括一个或者多个该特征，在本实用新型描述中，“至少”的含义是一个或一个以上，除非另有明确具体的限定。
22.在本实用新型中，除另有明确规定和限定，如有术语“组装”、“相连”、“连接”术语应作广义去理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；也可以是机械连接；可以是直接相连，也可以是通过中间媒介相连，可以是两个元件内部相连通。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述的术语在本实用新型中的具体含义。
23.在实用新型中，除非另有规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一特征和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“之下”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅是表示第一特征水平高度高于第二特征的高度。第一
特征在第二特征
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之上”、“之下”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度低于第二特征。
24.下面结合说明书的附图，对本实用新型的具体实施方式作进一步的描述，使本实用新型的技术方案及其有益效果更加清楚、明确。下面通过参考附图描述实施例是示例性的，旨在解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
25.如图1、图2所示，一种便携式穿戴产品模组检测设备，包括：升降装置3，与所述升降装置3驱动连接的拍摄模块，与所述拍摄模块连接的图像处理装置，用于驱动待检测模组点亮显示屏幕并更换显示图像的驱动器6，与所述驱动器6驱动连接的直线模组2，以及用于安装所述待检测模组的磁吸治具9；在所述直线模组2上设有与所述磁吸治具9磁吸配合的通用底板4，所述通用底板4余所述直线模组2驱动连接。
26.这样，在实际使用时，人工将待检测模组装在磁吸治具9上，然后再将磁吸治具放在通用底板4上，按驱动器6上面电源开关点亮待检测模组的屏幕，可根据需要使用驱动器上的按钮上进行切换图片。准备就绪后，人工按压启动按钮，直线模组2将待检测模组从上料位移动至待检测位，即拍摄模块的正下方，升降装置3带动拍摄模块下降至与待检测模组约1mm距离处，拍摄模块对模组开始自动检测。
27.具体的，在所述驱动器6上设有用于与所述待检测模组连接的扣合治具5，所述扣合治具5可转动地安装在所述驱动器6上，所述扣合治具5上设有用于与所述待检测模组的flex的针脚连接的接触针脚。所述扣合治具5通过flex与所述驱动器6连接。vr模组的flex与驱动器的连接采用扣合治具的方式，不仅连接方便，且不易损伤模组的flex的针脚。
28.所述磁吸治具9内部为根据模组形状仿形加工而成，治具内部仿形特征底面有两个凸型，通过两个凸型与待检测模组底面两个凹形配合来定位装配。
29.在所述磁吸治具9和所述通用底板4的其中一个上设有定位凸型9.2，在另一个上设有与所述定位凸型9.2配合的定位凹型。在所述磁吸治具9和所述通用底板4组装在一起时所述定位凸型进入到定位凹型内进行定位。在所述磁吸治具9和/或所述通用底板4上设有用于固定所述磁吸治具的磁铁9.1。所述磁吸治具9和所述通用底板4为能被磁铁吸引的铁磁金属件。
30.具体的，所述升降装置3驱动连接有第二直线模组1，所述升降装置3在所述第二直线模组1下做水平直线往返运动，所述直线模组2和所述第二直线模组1相互垂直设置，方便调节拍摄模块的位置。
31.所述拍摄模块包括：鬼影相机7以及设在所述鬼影相机7上的相机镜头8。所述鬼影相机的具体结构为本领域技术人员根据实际需要采购的，其具体结构和工作原理在这里不在赘述。
32.更为具体的，结合图3所示，还包括外壳10，在所述外壳10上有翻盖门11，所述翻盖门11与所述外壳10通过铰链铰接。所述图像处理装置位于所述外壳的顶部，所述图像处理装置为计算机12。在所述外壳10上还设有用于启动检测工序的气动按钮13，在安装好待检测模组盖好翻盖门，按压启动按钮开始检测。
33.另外需要说明的是，vr模组的左眼与右眼为中心对称结构，故用于安装vr模组的左右眼的磁吸治具需分开设计，其具体结构基本相同，只是用于安装vr模组的安装孔位不同。
34.所述直线模组、所述第二直线模组和所述升降装置都采用高精度滚珠丝杠，步进电机驱动。显然，本领域的技术人员可以采用同步带型直线模组或直线电机来代替，只要能起到驱动相应的部件做直线往复运动即可，不限于本实施例。
35.鬼影检测分析的具体方法如下：本技术中的待检测模组为vr光学模组，vr光学模组中设有微显示器和近眼光学系统，光学模组调用预存的显示图像，控制拍摄模组对光学模组的显示屏幕进行拍摄，从而获得显示屏幕经镜头成像的图像，再次拍摄图像的背景图，获得一组图片；以上操作共进行6次，分别获得六组即12张图片并储存。根据拍摄模块的六组图片，分别根据图片名称调用对应的图片进行分析，根据图像像素值过滤图像背景图得到前景图，一共获取六张前景图。通过判定查找出的内外边缘在指定文件区域范围内和指定参数的相对强度，以此进行环分类为：主环、鬼影或干扰。在每个环带上（主环、鬼影、干扰），以特定度数为增量计算像素的平均强度；输出计算模块中的数值；在前景图上绘制每个鬼影环带每个扇区处相对强度值（最亮像素的前10%的平均强度相对比值）。若相对强度值大于设定的标准,则代表该鬼影会对模组成像产生影响。
36.通过上述的结构和原理的描述，所属技术领域的技术人员应当理解，本实用新型不局限于上述的具体实施方式，在本实用新型基础上采用本领域公知技术的改进和替代均落在本实用新型的保护范围，本实用新型的保护范围应由各权利要求项及其等同物限定之。具体实施方式中未阐述的部分均为现有技术或公知常识。