1.一种微观检测铬样品的表面处理方法，其特征在于，所述表面处理方法包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(1)所述微观检测铬样品包括靶材、蒸发料或装配配件中的任意一种。
3.根据权利要求1或2所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(1)所述第一抛光处理采用400#砂纸进行；
4.根据权利要求1-3任一项所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(1)所述第二抛光处理采用1000#砂纸进行；
5.根据权利要求1-4任一项所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(1)所述第三抛光处理采用2000#砂纸进行；
6.根据权利要求1-5任一项所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(2)所述辉光放电溅射处理的电压为950-1000v。
7.根据权利要求1-6任一项所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(2)所述辉光放电溅射处理的电流为1.8-2.2ma。
8.根据权利要求1-7任一项所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(2)所述辉光放电溅射处理的温度为-195至-185℃。
9.根据权利要求1-8任一项所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(2)所述辉光放电溅射处理的时间为28-32min。
10.根据权利要求1-9任一项所述的表面处理方法，其特征在于，所述表面处理方法包括如下步骤：