1.一种用于分析薄膜的方法，所述方法包括：
2.如权利要求1所述的方法，其中，由第一测量装置执行测量所述主样品的所述总厚度以及测量所述主样品和所述多个对比样品的所述多个光学常数。
3.如权利要求2所述的方法，其中，所述第一层和所述第二层中的至少一个为具有等于或小于所述第一测量装置的测量极限的厚度的薄膜。
4.如权利要求2所述的方法，其中，所述第一测量装置为配置成使用从入射在所述主样品或所述多个对比样品中的每个上的光到从所述主样品或所述多个对比样品中的对应的一个反射的光的偏振状态上的变化的装置。
5.如权利要求1所述的方法，其中，基于所述主样品的所述光学常数与入射在所述主样品上的光的能量之间的关系和所述多个对比样品中的每个的所述光学常数与入射在所述多个对比样品中的对应的一个上的光的能量之间的关系导出所述线性关系方程。
6.如权利要求5所述的方法，其中，基于入射在所述主样品或所述多个对比样品中的每个上的所述光的特定波长区导出所述线性关系方程。
7.如权利要求1所述的方法，其中，所述主样品或所述多个对比样品中的每个的所述光学常数包括折射率或消光系数。
8.如权利要求1所述的方法，其中，
9.如权利要求1所述的方法，还包括：
10.如权利要求9所述的方法，其中，计算所述厚度包括：
11.如权利要求10所述的方法，还包括：
12.如权利要求11所述的方法，其中，由所述第二测量装置测量的所述信号强度通过电感耦合等离子体质谱、拉曼光谱、飞行时间二次离子质谱和激光诱导击穿光谱中的至少一种测量。
13.一种用于分析薄膜的装置，所述装置包括：
14.如权利要求13所述的装置，其中，所述存储器单元还存储材料量与所述光学常数之间的关系、所述材料量与材料组成比之间的关系以及所述材料量与层厚度之间的关系。
15.如权利要求13所述的装置，还包括：
16.如权利要求15所述的装置，其中，累积在所述存储器单元中的所述数据还包括从所述测量单元和所述计算单元计算的数据。
17.如权利要求15所述的装置，其中，所述子计算单元包括：
18.如权利要求15所述的装置，其中，所述测量单元或所述第一子测量单元为配置成使用从入射在所述样品或所述辅助样品上的光到从所述样品或所述辅助样品反射的光的状态上的变化的装置。