专利名称:一种近场扫描光学显微镜定位扫描成像方法
技术领域：
本发明涉及近场扫描光学显微镜探针在样品表面定位扫描成像的技术，属于扫描探针显微镜技术领域：
领域。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是在此方法中借助传统光学显微镜，并使用直径在微米尺度的发光点作为定位参考点(可采用的点光源有耦合有激光的单模光纤端面、被照明的小孔、发光面很小的半导体激光器等)。将样品与参考发光点固定于具有二维微调装置(可读数且精度为1μm)的显微镜样品台上，并且使二者处于同一高度。如采用NSOM扫描器控制样品扫描，则将样品固定在扫描器上，扫描器固定在样品台上，发光点固定于样品台上或扫描器上。光学探针和显微镜物镜固定在一起，并与显微镜成像物面处于同一高度。如采用NSOM扫描器控制探针扫描，则将探针固定在扫描器上，扫描器和显微镜物镜固定在一起。在显微镜下观测参考发光点和样品目标区域，通过微调装置分别调节至显微镜视野中心，精确测量二者的相对位移。将光学探针调节到参考发光点处，光学探针可接收参考发光点的光波。肉眼或光电探测装置监测光学探针接受到的光强，通过微调装置使光学探针调节到参考发光点中心，精确测量此时参考发光点的位置，再根据参考发光点和样品目标区域间的相对对位移，将光学探针调节至目标区域，实现光学探针定位，进行NSOM的进针及扫描成像。定位的精度取决于微调装置的机械精度(1μm)。
本发明的有益效果是，可实现NSOM定位扫描成像，定位精度可达到1μm，且结构简单。
实施例2建立微米尺度的发光点，可采用的点光源有耦合有激光的单模光纤端面、被照明的小孔、微小发光面半导体激光器等。在已有的NSOM基础上，在样品台上装配二维微调装置(可读数且精度为1μm)。将样品与参考发光点固定于具有二维微调装置(可读数且精度为1μm)的微调平台上，并且使二者处于同一高度。如采用NSOM扫描器控制样品扫描，则将样品固定在扫描器上，扫描器固定在微调平台上，发光点固定于微调平台上或扫描器上。建立一个显微成像装置并与光学探针固定架固定在一起，显微镜成像物面与光学探针尖端处于同一高度；如采用NSOM扫描器控制探针扫描，则将扫描器和显微镜物镜固定在一起。通过微调平台在显微成像装置下观测并精确测量参考发光点和样品目标区域的相对位移。将光学探针调节到参考发光点处，通过肉眼或光电探测装置监测光学探针接受到的光强，精确测量参考发光点中心的位置。根据光纤端面和样品目标区域间的相对位移，将光学探针调节至目标区域实施扫描成像。
权利要求
1.一种近场扫描光学显微镜定位扫描成像方法，其特征是借助传统光学显微装置，并使用微米尺度发光点作为定位参考点，通过微调平台在显微成像装置下观测并精确测量参考发光点中心和样品目标区域的相对位移，调节光学探针到参考发光点中心处，进一步根据参考发光点中心和样品目标区域的相对位移，调节光学探针到样品目标区域实施扫描成像。
2.根据权利要求
1所述的近场扫描光学显微镜定位扫描成像方法，其特征是可采用的点光源有耦合有激光的单模光纤端面、被照明的小孔、微小发光面半导体激光器。
专利摘要
一种近场扫描光学显微镜定位扫描成像方法，属于扫描探针显微镜技术领域：
。借助传统光学显微装置，并使用微米尺度发光点作为定位参考点，通过微调平台在显微成像装置下观测并精确测量参考发光点中心和样品目标区域的相对位移，调节光学探针到参考发光点中心处，进一步根据参考发光点中心和样品目标区域的相对位移，调节光学探针到样品目标区域实施扫描成像。用于近场扫描光学显微镜光学探针在样品表面定位，可通过显微镜大范围搜索关心的目标区域，再调整探针到目标区域扫描成像，实现NSOM定位扫描成像，定位精度可达到1μm，且结构简单。
文档编号G01Q60/18GKCN1405548SQ02148631
公开日2003年3月26日 申请日期2002年11月14日
发明者张天浩, 吴朝晖, 张春平, 张光寅, 颜彩繁, 杨 嘉, 孙磊 申请人:南开大学导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan