缺陷观察方法以及缺陷观察装置的制造方法_5

文档序号:8547932阅读:来源:国知局
定或自动更新缺陷占有率的判定阈值。
[0141]此外,不是进行这样的自动选择,而是操作员手动进行缺陷图像的选择的情况下,若在选择画面中通过ADR或ADC预先默认地选择了选择候补的缺陷图像,则也能够提高操作员的选择作业的效率。
[0142]实施例9
[0143]在本实施例中说明在实施例1至实施例8中说明的多个缺陷检测方法的选择方法。图1至图3的结构和图4至图19的说明内容与本实施例相同,因此省略说明。
[0144]图20是能够选择缺陷检测方法的GUI的例子。在2001中显示低倍缺陷图像的样品,将该低倍缺陷图像中的缺陷占有率显示在2003中。缺陷占有率的计算,可以应用实施例6或实施例7的方式,但并不局限于这些方式。在能够选择多个图像的情况下,显示多个图像显示和各图像的缺陷占有率或各图像的缺陷占有率的平均值即可。
[0145]2004的值成为缺陷占有率的判定阈值。缺陷占有率的判定阈值可以由操作员输入,但也可以通过在实施例8中说明的方法自动设定。即使在操作员进行输入设定的情况下,若显示了自动设定的值作为初始值,则可以成为操作员设定阈值时的判断基准之一。在图20的例子中,低倍缺陷图像的缺陷占有率在阈值以下,因此判定为该低倍缺陷图像的缺陷占有率低,执行后段的缺陷检测处理。
[0146]在2006中一起记述了在上述的实施例中说明的多个生成或取得参照图像的方法,操作员能够进行选择。如2005所示,各缺陷检测方法例如按照处理速度从快到慢的顺序排列显示时,可以成为操作员选择缺陷检测方法时的判断基准之一。与在2006中选择的缺陷检测方法对应地,在2002中显示低倍参照图像。
[0147]并且,在将ADR复选框2007设定为“开”的情况下,显示通过选择的缺陷检测方法进行了缺陷检测的结果也是有效的。
[0148]这样,通过显示观察对象的低倍缺陷图像和其缺陷占有率、缺陷占有率的阈值、与所选择的缺陷检测方法对应的低倍参照图像、缺陷检测结果,能够容易地确认所选择的缺陷检测方法的妥当性。可以将GUI搭载在图1的整体控制部以及解析部113、图2的操作/解析部201上。当然,也可以通过这些以外的处理部进行。
[0149]另外,本发明并不局限于上述的实施例,包含各种变形例。例如,上述的实施例是为了便于理解本发明而进行的详细说明,并不一定必须具备所说明的全部结构。此外,可以将某实施例的结构的一部分置换成其他实施例的结构,或者,也可以对某实施例的结构追加其他实施例的结构。此外,还可以对各实施例的结构的一部分进行其它结构的追加、删除、置换。
[0150]此外,上述的各结构、功能、处理部、处理单元等,其中的一部分或全部例如可以通过用集成电路设计等而以硬件实现。此外,上述的各结构、功能等,也可以通过由处理器解释、执行用于实现各种功能的程序而以软件实现。并且,可以将实现各功能的程序、表格、文件等信息存储在存储器、硬盘、SSD(Solid State Drive,固态硬盘)等记录装置,或者IC卡、SD卡、光盘等记录介质中。
[0151]此外,控制线和信息线表示了认为在说明上必要的部件,并不一定必须表示出产品上的所有控制线和信息线。实际上,也可以认为几乎所有的结构相互连接。
[0152]符号说明
[0153]101:电子枪、102:透镜、103:扫描偏转器、104:物镜、105:试样、106:载物台、107:一次电子束、108:二次粒子、109:二次粒子检测器、110:电子光学系统控制部、111:A/D转换部、112:载物台控制部、113:整体控制/解析部、114:图像处理部、115:操作部、116:存储装置、117:光学显微镜、118:SEM式缺陷观察装置、119:LANU20:配方管理装置、121:缺陷信息数据库、201:操作/解析部、202:缺陷数据存储部、203:图像数据存储部、204:解析参数存储部、205:解析结果存储部、
[0154]301:低倍缺陷图像、302:低倍参照图像、303:巨大缺陷判定处理部、304:参照图像生成处理部、305:低倍参照图像、306:缺陷检测处理部、307:缺陷坐标、
[0155]501:缺陷图像、502:参照图像、503:差分图像、504:缺陷、505:检测缺陷区域、
[0156]701:缺陷图像、702:以缺陷图像的平均亮度值生成的参照图像、703:差分图像、704:缺陷、705:检测缺陷区域、
[0157]801:缺陷图像、802:以缺陷图像的平均亮度值生成的参照图像、803:差分图像、804:巨大缺陷、805:检测缺陷区域、
[0158]1001:缺陷图像、1002:参照图像、1003:差分图像、1004:缺陷、1005:检测缺陷区域、
[0159]1201:缺陷图像、1202:以代表参照图像的平均亮度值生成的参照图像、1203:差分图像、1204:缺陷、1205:检测缺陷区域、1206:代表参照图像、
[0160]1401:缺陷图像、1402:以已取得的参照图像的平均亮度值生成的参照图像、1403:差分图像、1404:缺陷、1405:检测缺陷区域、1406:已取得参照图像、
[0161]1601:缺陷图像、1602:以从已取得缺陷图像中去除了缺陷的区域的平均亮度值生成的参照图像、1603:差分图像、1604:缺陷、1605:检测缺陷区域、1606:已取得缺陷图像、1607:缺陷区域、
[0162]1701:缺陷占有率低的图像、1702:缺陷占有率为中等程度的图像、1703:缺陷占有率高的图像、1704:缺陷占有率低的图像的亮度分布直方图和标准偏差、1705:缺陷占有率为中等程度的图像的亮度分布直方图和标准偏差、1706:缺陷占有率高的图像的亮度分布直方图和标准偏差、
[0163]1801:缺陷图像、1802:缺陷区域、1803:缺陷区域的亮度分布、1804:去除了缺陷区域的背景部分的亮度分布、
[0164]1901:缺陷图像群、1902:亮度分布、1903:标准偏差、1904:缺陷图像群、1905:亮度分布、1906:标准偏差、
[0165]2001:缺陷图像、2002:与选择出的缺陷检测方法对应的参照图像、2003:缺陷占有率、2004:缺陷占有率判定阈值、2005:按照吞吐量顺序排列的缺陷检测方法、2006:可选择的缺陷检测方法、2007:ADR执行复选框。
【主权项】
1.一种缺陷观察装置,其通过比较被检查图像与参照图像来检测所述被检查图像所包含的缺陷区域,该缺陷观察装置的特征在于, 具备:缺陷占有率判定处理部,其求出所述被检查图像中缺陷区域所占的比例即缺陷占有率,并判定该缺陷占有率与阈值的大小, 根据所述判定的结果来决定是否生成由具有所述被检查图像所包含的多个像素的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。
2.根据权利要求1所述的缺陷观察装置,其特征在于, 当所述缺陷占有率高于所述阈值时,所述图像取得部重新拍摄被推测为不存在缺陷的区域作为所述参照图像, 当所述缺陷占有率低于所述阈值时,所述参照图像生成处理部生成由具有所述被检查图像所包含的多个像素的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。
3.根据权利要求1所述的缺陷观察装置,其特征在于, 当所述缺陷占有率高于所述阈值时,所述参照图像生成处理部生成由具有在取得所述被检查图像前所取得的不包含缺陷的图像的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像, 当所述缺陷占有率低于所述阈值时,所述参照图像生成处理部生成由具有所述被检查图像所包含的多个像素的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。
4.根据权利要求3所述的缺陷观察装置,其特征在于, 所述参照图像生成处理部使用多个所述不包含缺陷的图像来生成所述参照图像。
5.根据权利要求1所述的缺陷观察装置,其特征在于, 当所述缺陷占有率高于所述阈值时,所述参照图像生成处理部生成由具有从在取得所述被检查图像前所取得的包含缺陷的图像中去除了该缺陷的区域的区域的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像, 当所述缺陷占有率低于所述阈值时,所述参照图像生成处理部生成由具有所述被检查图像所包含的多个像素的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。
6.根据权利要求1所述的缺陷观察装置,其特征在于, 所述缺陷占有率判定处理部根据所述被检查图像所包含的像素的亮度分布来求出所述缺陷占有率。
7.根据权利要求1所述的缺陷观察装置,其特征在于, 具有运算部,其根据在取得所述被检查图像前所取得的包含缺陷的图像中的、该缺陷的区域的亮度分布来求出应判断为缺陷的亮度值范围, 所述缺陷占有率判定处理部根据构成所述被检查图像的像素中在所述亮度值范围内所包含的像素的数量来求出所述缺陷占有率。
8.根据权利要求1所述的缺陷观察装置,其特征在于, 所述缺陷占有率判定处理部根据通过缺陷的大小来分类的多个组各自包含的多个图像的平均亮度分布来使用所述阈值。
9.根据权利要求1所述的缺陷观察装置,其特征在于, 具备显示部,其显示能够选择用于生成或取得所述参照图像的多个方法的画面。
10.—种缺陷观察方法,其通过比较被检查图像与参照图像来检测所述被检查图像所包含的缺陷区域,该缺陷观察方法的特征在于, 求出所述被检查图像中缺陷区域所占的比例即缺陷占有率,并判定该缺陷占有率与阈值的大小, 根据所述判定的结果来决定是否生成由具有所述被检查图像所包含的多个像素的亮度值的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。
11.根据权利要求10所述的缺陷观察方法,其特征在于, 当所述缺陷占有率高于所述阈值时,重新拍摄被推测为不存在缺陷的区域作为所述参照图像, 当所述缺陷占有率低于所述阈值时,生成由具有所述被检查图像所包含的多个像素的亮度值的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。
12.根据权利要求10所述的缺陷观察方法,其特征在于, 当所述缺陷占有率高于所述阈值时,生成由具有在取得所述被检查图像前所取得的不包含缺陷的图像的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像, 当所述缺陷占有率低于所述阈值时,生成由具有所述被检查图像所包含的多个像素的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。
13.根据权利要求12所述的缺陷观察方法,其特征在于, 使用多个所述不包含缺陷的图像来生成所述参照图像。
14.根据权利要求10所述的缺陷观察方法,其特征在于, 当所述缺陷占有率高于所述阈值时,生成由具有从取得所述被检查图像前所取得的包含缺陷的图像中去除了该缺陷的区域的区域的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像, 当所述缺陷占有率低于所述阈值时,生成由具有所述被检查图像的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。
【专利摘要】在未形成图案的阶段的制造工序或在摄像图像上不显示在下层形成的图案的制造工序中,用于解析缺陷的事例增加。然而,在这样的事例中,在图像上无法识别周期性图案的情况下,存在不能合成良好的参照图像,缺陷检测失败的问题。因此,求出在被检查图像中缺陷区域所占的比例即缺陷占有率,判定该缺陷占有率与阈值的大小,根据判定结果,决定是否生成由具有被检查图像所包含的多个像素的亮度值的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。尤其在缺陷占有率低的情况下,采用由具有被检查图像所包含的多个像素的亮度值的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。
【IPC分类】H01L21-66, G01N23-225
【公开号】CN104870985
【申请号】CN201380066389
【发明人】平井大博, 中垣亮, 原田实
【申请人】株式会社日立高新技术
【公开日】2015年8月26日
【申请日】2013年11月29日
【公告号】WO2014103611A1
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