光学薄膜的缺陷辨别方法

文档序号:6230997阅读:504来源:国知局
光学薄膜的缺陷辨别方法
【专利摘要】本发明提供一种光学薄膜的缺陷辨别方法。本发明的目的在于提供一种正确地辨别光学薄膜的缺陷中的簇缺陷的方法。本发明的光学薄膜的缺陷辨别方法包括以下步骤:拍摄被输送的光学薄膜来获取上述光学薄膜的图像(S1);以及根据上述图像检测异物,当在以上述异物中的某一个异物为中心且半径为5mm的圆内存在两个以上的异物时,将包含中心的异物的上述异物的集合判断为簇缺陷(S2),由此不强化检测条件就能够降低光学薄膜的次品率。
【专利说明】光学薄膜的缺陷辨别方法

【技术领域】
[0001]本发明涉及一种薄膜的缺陷检测方法。更详细地说,涉及一种光学薄膜中的簇缺陷的检测方法。

【背景技术】
[0002]近年来,液晶显示器、有机发光显示器、场致发射显示器(FED)、等离子体显示面板(PDP)等各种图像显示装置被大量开发、使用。
[0003]另一方面,图像显示装置在上市前在制造过程中产生各种的不良,因此会经过多个检查过程,而其中在图像显示装置中使用最多的部件之一为偏振薄膜、相位差薄膜等各种光学薄膜,因此,光学薄膜的缺陷是图像显示装置不良的主要原因之一。关于检测光学薄膜的缺陷,首先辨别是否为缺陷而进行正确的判断,之后,当辨别为缺陷时,根据缺陷进行修复(repair)或者废弃以及去除缺陷原因等,在制造工序的生产成品率方面的确是重要的部分。
[0004]在光学薄膜的制造过程中,通常使用生产线工序,以在产业中大量生产。因而,在生产线的特定位置处连续地拍摄光学薄膜,在拍摄到的部分辨别缺陷,由此进行缺陷的检测。
[0005]关于缺陷辨别,以往,可靠地检测各种缺陷是重要的。关于该情况,在韩国公开专利第10-2010-0024753号公报中公开了一种将包含异物的闭合曲线和异物的面积进行比较来辨别线状的异物的方法。
[0006]然而,近来,光学薄膜也随着大型化的趋势而部件成本上升,随之而来地谋求更正确的缺陷辨别方法,因此,依然谋求能够正确地辨别缺陷的方法。
[0007]专利文献1:韩国公开专利第10-2010-0024753号公报


【发明内容】

[0008]发明要解决的问题
[0009]本发明的目的在于提供一种正确地辨别光学薄膜的缺陷中的簇缺陷的方法。
[0010]用于解决问题的方案
[0011]1.一种光学薄膜的缺陷辨别方法,包括以下步骤:步骤SI,拍摄被输送的光学薄膜来获取上述光学薄膜的图像;以及步骤S2,根据上述图像检测异物,当在以上述异物中的某一个异物为中心、半径比两个异物的长轴的长度长且为5mm以下的圆内存在两个以上的异物时,将包含中心的异物的上述两个以上的异物的集合体判断为簇缺陷。
[0012]2.在上述项目I的光学薄膜的缺陷辨别方法中,上述半径为5mm、4mm、3mm、2mm或者 Imnin
[0013]3.在上述项目I的光学薄膜的缺陷辨别方法中,上述异物的长轴的长度为30 μ m ?100 μ m。
[0014]4.在上述项目I的光学薄膜的缺陷辨别方法中,上述异物的长轴的长度为30 μ m ?50 μ m0
[0015]5.在上述项目I的光学薄膜的缺陷辨别方法中,上述步骤SI的拍摄是通过反射光学系统方式、透射光学系统方式、或者反射光学系统方式和透射光学系统方式两个方式来执行的。
[0016]6.在上述项目I的光学薄膜的缺陷辨别方法中,上述步骤S2还包括以下步骤:在判断为簇缺陷的情况下,对上述光学薄膜的与簇缺陷对应的部分进行标记。
[0017]发明的效果
[0018]本发明的光学薄膜的缺陷辨别方法能够通过提供以下方法来降低光学薄膜的次品率:在个别单位的异物时并非缺陷,但是在上述异物集中于规定的区域内的情况下,由于这种集中所引起的负的相乘效果,而可能成为次品的原因,因此将这种状态(簇缺陷)判断为缺陷。
[0019]在本发明的光学薄膜的缺陷辨别方法中,并非公开使检测装置的检测条件强化的方法,而公开对异物簇化的程度进行判断的方法,由此不更换检测装置或者强化检测条件就能够检测簇缺陷。

【专利附图】

【附图说明】
[0020]图1的(a)和(b)是表示反射光学系统检查装置的概要结构的图。
[0021]图2是表示透射光学系统检查装置的概要结构的图。
[0022]图3是实际拍摄簇缺陷的一个例示而得到的照片。
[0023]图4是概要性地示出簇缺陷的一个例示的图。

【具体实施方式】
[0024]本发明包括步骤(SI)和步骤(S2),其中,在该步骤(SI)中,拍摄被输送的光学薄膜来获取上述光学薄膜的图像,在该步骤(S2)中,根据上述图像检测异物,当在以上述异物中的某一个异物为中心且半径为5mm的圆内存在两个以上的异物时,将包含中心的异物的上述异物的集合体判断为簇缺陷,由此不强化缺陷检测条件就能够降低光学薄膜的次品率。
[0025]以下,参照附图更详细地说明本发明。
[0026]首先,拍摄被输送的光学薄膜来获取上述光学薄膜的图像(SI)。
[0027]通常,通过连续工序、例如卷对卷(Roll-to-Roll)工序进行输送从而进行光学薄膜的制造。因而,为了辨别光学薄膜的缺陷,而在固定方向上输送的光学薄膜的上部拍摄光学薄膜,获取光学薄膜的图像。如果在获取到的图像中具有存在异物的区域,则实施挑选出这些区域并辨别是否为缺陷的工序。
[0028]用于检测光学薄膜的缺陷的摄影装置的方式例如能够使用反射光学系统方式或透射光学系统方式、或者反射光学系统方式和透射光学系统方式。
[0029]反射光学系统方式的检查装置是指用在检查对象上反射的光来执行检查的装置。具体地说,光源位于检查薄膜的一侧并将光照射到检查薄膜,摄影设备是以上述检查薄膜为基准在与上述光源同一侧对检查薄膜进行拍摄(会聚在检查薄膜处反射的光)来获取检查影像的装置。
[0030]在图l(a:侧视图,b:俯视图)中概要性地示出利用了反射光学系统检查装置的薄膜的缺陷检测方法。参照图1,在反射光学系统检查装置中,光源的光的照射方向和摄影设备的摄影方向位于与作为检查对象的检查薄膜的输送方向平行的方向。而且,将在上述位置处拍摄到的影像用作检查影像而检测缺陷。
[0031 ] 透射光学系统检查装置是指用透过检查对象的光来执行检查的装置。具体地说,在检查薄膜的一侧配置光源并将光照射到检查薄膜,摄影设备是以检查薄膜为基准在与光源相反的一侧对检查薄膜进行拍摄(会聚透过检查薄膜的光)从而获取检查影像的装置。
[0032]在图2中概要性地示出利用了透射光学系统检查装置的薄膜的缺陷检测方法。参照图2,在透射光学系统检查装置中,光源和摄影设备位于与作为检查对象的检查薄膜垂直的方向。而且,将在上述位置处拍摄到的影像用作检查影像而检测缺陷。
[0033]透射光学系统检查装置能够根据所检查的光学薄膜的具体的种类,进一步追加结构。例如,在检查对象的光学薄膜为偏振薄膜的情况下,能够将与检查对象的偏振薄膜的偏振方向垂直的其它偏振薄膜配置在检查对象薄膜的上部。在该情况下,如果检查对象的偏振薄膜为合格品,则通过偏振方向相互垂直的两个偏振薄膜的光消失,因此能够得到黑色的影像,但是当检查对象的偏振薄膜中存在异物时在该部分处偏振的方向改变,因此,结果是,产生漏光,能够得到存在明亮的部分(即,异物部分)的影像。
[0034]接着,根据上述图像检测异物,当在以上述异物中的某一个异物为中心且半径为5mm的圆内存在两个以上的异物时,将包含中心的异物的上述异物的集合体判断为簇缺陷(S2)。
[0035]在本发明中,“异物”是指偏离光学薄膜的平均的均匀性的部分,是能够根据辨别结果来判断为处于正常范围内(合格品性异物)或者判断为成为产品不良的原因的“缺陷”的部分。
[0036]关于从获取到的图像中挑选存在异物的区域,能够在设定了光学薄膜的平均的均匀性之后,使用图像处理软件等来对包含偏离该平均的均匀性的部分(异物部分)的区域的图像执行挑选。
[0037]关于本发明中所定义的异物的种类,能够在拍摄到的图像中划分为比周边明亮的部分(亮点)与比周边暗的部分(暗点)。这种亮点或者暗点不仅包含在光学薄膜上观察到的光学性的亮点或者暗点,还包含由凹凸产生的亮点或者暗点。
[0038]如上所述,能够将所检测的异物分类为合格品性异物和成为缺陷的异物。作为合格品性异物的代表性例子,可举出其大小过小而不会成为缺陷的情况。因而,根据光学薄膜所要求的基准,规定的大小以下的异物不被判断为缺陷。
[0039]另一方面,如果个别的作为合格品性异物的微细的异物处于簇状态,则实际以产品进行使用时有时被识别为不良,因此有时成为问题。然而,在一直以来的光学薄膜的缺陷判断方法中,个别地挑选单位异物,根据规定的基准来判断是否为缺陷,因此即使作为合格品性缺陷的微细的异物处于簇状态,也无法将其判断为缺陷。图3示出这种微细的异物形成了簇状态的例示。如图3所示,如果微细异物处于簇状态,则在以实际产品进行使用时被识别为不良,但是在以往的以个别的异物为对象的缺陷辨别方法中,难以识别为缺陷。
[0040]本发明提供一种在异物集中于预定的区域内而形成簇的情况下将其辨别为缺陷的方法,从而解决如上所述的问题点。具体地说,当在以从通过检查用摄影装置拍摄到的图像中检测到的异物中的、某一个异物为中心且半径为5mm的圆内存在两个以上的异物时,将包含中心的异物的上述异物的集合体判断为缺陷(以下,称为簇缺陷)。
[0041]将用于判断是否为簇缺陷的簇区域设为以中心异物为基准、半径为5_的圆。如果半径超过5mm,则在实际使用时几乎不会存在被识别为不良的情况。
[0042]另一方面,根据制造出的光学薄膜的具体的用途的不同,簇区域的半径能够进一步变小。簇区域的半径越小则被判断为簇缺陷的情况越少,因此如果对光学薄膜不要求无缺陷则簇半径变得更小。例如,簇区域的半径也可以为4mm、3mm、2mm、lmm,但是并不限定于此。
[0043]在本发明中,不特别限定形成簇缺陷的单位异物的大小。优选的是,具有在图像中被识别为异物的大小以上的大小,并且具有在簇区域内存在两个以上的大小。例如,异物的长轴的长度为ΙΟΟμπι以下,优选为50μπι以下。在本发明中,异物的大小的下限根据摄影装置的种类的不同而不同,无论多么微细的合格品性异物都能够进行检测,只要在簇区域内集合就成为本发明中的判断的对象,因此不特别进行限定,但是例如能够为30 μ m。因而,例如以异物的长轴为基准,本发明的异物的大小能够为30μηι?ΙΟΟμπι,优选为30 μ m?50 μ m,但是并不限定于此。
[0044]图4示出上述簇缺陷的概要性的例示。参照图4,异物1、2、3存在于以异物2为中心、预定的半径的圆内部,因此在簇区域内存在两个以上的异物,被判断为簇缺陷。
[0045]在本发明中,在上述步骤S2中,能够还包括以下步骤:在判断为簇缺陷的情况下,对上述光学薄膜的对应部分进行标记。
[0046]能够在光学薄膜实际被使用的区域中执行标记,或者在加工成最终产品时去除的剩余的区域(不实际使用的区域)中执行标记。
[0047]通过对产生簇缺陷的部分进行标记,能够在之后分类和去除产生簇缺陷的部分时容易使用。
[0048]另外,对上述标记的个数进行计数,不仅能够根据该计数计算缺陷发生率从而控制制造工序,还能够用作将图像与实际的光学薄膜进行对比的指标,用于确认簇缺陷的判断是否正确地执行。
[0049]本发明的缺陷辨别方法能够应用于各种光学薄膜。作为这种光学薄膜,例如存在偏振薄膜、相位差薄膜等,但是并不限定于此。
[0050]如上所述,在异物集中于规定的区域内的情况下,由于上述集中而进一步簇化,可能成为次品的原因,因此本发明提供一种将这种状态(簇缺陷)判断为缺陷的方法,在本发明的缺陷辨别方法中,在个别单位的异物时并非缺陷,但是能够检测上述异物集中于规定的区域内而引起不良的情况,因此能够降低光学薄膜的次品率。
[0051]如上所述,通过所公开的实施方式和【专利附图】

【附图说明】了本发明,本发明并不限定于此,具有本发明所属的【技术领域】的常识的人员在本发明的技术思想和权利要求书的同等范围内能够进行各种修改和变形是显而易见的。
【权利要求】
1.一种光学薄膜的缺陷辨别方法,包括以下步骤: 步骤Si,拍摄被输送的光学薄膜来获取上述光学薄膜的图像;以及步骤S2,根据上述图像检测异物,当在以上述异物中的某一个异物为中心、半径比两个异物的长轴的长度长且为5mm以下的圆内存在两个以上的异物时,将包含中心的异物的上述两个以上的异物的集合判断为簇缺陷。
2.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷辨别方法,其特征在于, 上述半径为5mm、4mm、3mm、2mm或者1mm。
3.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷辨别方法,其特征在于, 上述异物的长轴的长度为30 μ m?100 μ m。
4.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷辨别方法,其特征在于, 上述异物的长轴的长度为30 μ m?50 μ m。
5.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷辨别方法,其特征在于, 上述步骤Si的拍摄是通过反射光学系统方式、透射光学系统方式、或者反射光学系统方式和透射光学系统方式两个方式来执行的。
6.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷辨别方法,其特征在于, 上述步骤S2还包括以下步骤:在判断为簇缺陷的情况下,对上述光学薄膜的与簇缺陷对应的部分进行标记。
【文档编号】G01N21/88GK104237246SQ201410273073
【公开日】2014年12月24日 申请日期:2014年6月18日 优先权日:2013年6月21日
【发明者】裵星俊, 朴宰贤, 许宰宁 申请人:东友精细化工有限公司
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