专利名称：电容式触控板及其制造方法
技术领域：
本发明有关于一种电容式触控板及其制造方法，尤指一种可经由镂空区提高透光率，以节省光源亮度使用与材料使用的电容式触控板及其制造方法。
背景技术：
随着资讯技术与通讯网络的迅速发展，电子资讯产品渐渐普及于个人，相对的触控面板也同时迅速发展，现今触控面板依其感应原理的不同，主要区分为电阻式、电容式、 音波式以及光学式等四种，其中电容式触碰面板结构具防尘、防火以及高解析度等特性，因而广泛地被采用，该电容式触控面板作用原理，主要是依据电容量变化来确认接触点位置， 利用触控物(如手指等导体)的接近对电极间产生电容性的电气变化，而确定接触点的座标。而电容式触控面板也渐渐的成为触控技术中的主流，并应用在各项电子资讯产品当中，例如手机、平板电脑、随身听、各种显示器、监视器等等，该等电子资讯产品其原理为应用手指接触触控面板时所造成的电容值变化以测得手指的位置变化与点选状况，进而达成操控的目的。一般透明电容式触控面板于应用时，其主要利用电容式触控导电体感应手指上的微弱电容，而其电容式触控导电体使用实心的菱形花纹，其菱形花纹通常是一连串的菱形或是六角形或八角形等对称图案，以缩短与相邻线路之间的距离，并提高电容效应的作用。又电容式触控导电体相互电气连接并形成有至少一行导体与至少一列导体，其行导体与列导体相互交错且相互不电气连接，并同时电气连接至一控制晶片，以于使用者接触其行导体或列导体并做操控时，由行导体与列导体传送讯号至控制晶片，进而由控制晶片完成触控感测的目的。而其透明电容式触控面板于应用时，其一侧设置有IXD，而其IXD所发出的光源射至透明电容式触控面板，并由透明电容式触控面板射出，且电容式触控导电体的透光率小于透明式电容式触控面板所采用的玻璃基板或强化塑胶等材料，因此电容式触控导电体的形状与大小会影响到该电容式触控面板的透光率，实际应用上实心的菱形花纹的电容式触控导电体便影响到该LCD的光源且降低其透光率，进而造成该LCD的光源亮度使用必须提高，且同时需提高材料的使用以形成所述实心的菱形花纹，以上所述，现有技术中具有下列的缺点透光率低；光源亮度必须提高；材料成本高。因此，要如何解决上述现有的问题与缺失，即为本案的创作人与从事此行业的相关厂商所亟欲研究改善的方向所在者
发明内容
因此，为有效解决上述的问题，本发明的主要目的在提供一种可提高透光率的电容式触控板及其制造方法。本发明的次要目的是提供一种节省光源亮度使用的电容式触控板及其制造方法本发明的次要目的是提供一种节省材料使用的电容式触控板及其制造方法。为达上述目的，本发明提出一种电容式触控板，其包括有至少一绝缘层基板及至少一电容式触控导电体；其电容式触控导电体披覆于绝缘层基板上，该绝缘层基板一侧设置有至少一 LCD发光元件，而各电容式触控导电体分别形成有一边界，并于边界内界定有至少一处镂空区，该镂空区具有一底部，且其电容式触控导电体相互电气连接并形成有至少一第一导电阵列与至少一第二导电阵列，所述第一导电阵列与第二导电阵列相互交错且交错处相互不电气连接，其第一导电阵列与第二导电阵列分别电气连接至一控制单元，因此，其绝缘层基板一侧的LCD发光元件产生的光源穿透所述绝缘层基板，且同时穿透至披覆于绝缘层基板的电容式触控导电体，并可经由电容式触控导电体所形成的镂空区提高该透明电容式触控板的透光率，进而达到节省IXD发光元件的光源亮度使用与节省电容式触控导电体的材料使用的功效。为达上述目的本发明提供另一可行实施为一种电容式触控板的制造方法，其包含于一绝缘层基板上披覆有多电容式触控导电体，且各电容式触控导电体外围有一边界， 并由多电容式触控导电体依序排列电气连接形成有多第一导电阵列与多第二导电阵列；于各电容式触控导电体的边界内界定有至少一处的镂空区，并使该镂空区形成于绝缘层基板上；因此，其绝缘层基板一侧的LCD发光元件产生的光源穿透所述绝缘层基板，且同时穿透至披覆于绝缘层基板的电容式触控导电体，并可经由电容式触控导电体所形成的镂空区提高该电容式触控板的透光率，进而达到节省LCD发光元件的光源亮度使用与节省电容式触控导电体的材料使用的功效。与现有技术相比，本发明所述的电容式触控板及其制造方法，可经由镂空区提高透光率，以节省光源亮度使用与材料使用的电容式触控板及其制造方法。
图1是本发明的较佳实施例的正视图；图2A是本发明的较佳实施例的剖视示意图一；图2B是本发明的较佳实施例的剖视示意图二 ；图3是本发明的另一较佳实施例的正视图；图4A是本发明的另一较佳实施例的剖视示意图一；图4B是本发明的另一较佳实施例的剖视示意图二 ；图5是本发明制造方法流程示意图；图6是本发明的再一较佳实施例的实施示意图一；图7是本发明的再一较佳实施例的实施示意图二 ；图8是本发明的再一较佳实施例的实施示意图三；附图标记说明电容式触控板-10 ；绝缘层基板-20 ；电容式触控导电体-30 ；边界-31 ；镂空区-32 ；底部-321 ；第一导电阵列-40 ；第二导电阵列_50 ；绝缘材料-60 ；发光元件-70。
具体实施例方式本发明的上述目的及其结构与功能上的特性，将依据所附图式的较佳实施例予以说明。请参阅图1、图2A及图2B所示，为本发明一较佳实施例，本发明的电容式触控板 10包括有至少一绝缘层基板20及至少一电容式触控导电体30，该绝缘层基板20为透光的绝缘层基板20，而该电容式触控导电体30为透光的导电体并披覆于绝缘层基板20上，且其各电容式触控导电体30相互电气连接并形成有至少一第一导电阵列40与至少一第二导电阵列50 ；所述第一导电阵列40与第二导电阵列50相互交错且交错处相互不电气连接，于本实施例中，其第一导电阵列40与第二导电阵列50设置于绝缘层基板20的一侧并同时电气连接至一控制单元；又，其中所述第一导电阵列40与第二导电阵列50同时披覆于绝缘层基板20 — 侧，而其交错相对处经由一绝缘材料60隔开(如图2A所示)，或所述第一导电阵列40与第二导电阵列50分别披覆于绝缘层基板20两侧，并隔着该绝缘层基板20交错相对(如图 2B所示)。且其第一导电阵列40与第二导电阵列50的各电容式触控导电体30外围形成有一边界31，并于边界31内界定有至少一处镂空区32，该镂空区32具有一底部321，其底部 321于本实施例中形成于绝缘层基板20位置处，因此，所述电容式触控板10于使用时，其绝缘层基板20 —侧设置的至少一发光元件70如IXD产生光源至所述绝缘层基板20，而其光源穿透过透光的绝缘层基板20与电容式触控导电体30，又其电容式触控导电体30具有所述镂空区32，进而使其发光元件70的光源可直接透过所述绝缘层基板20，以提高所述电容式触控板10的透光率，且同时可降低电容式触控板10的光源使用。请参阅图3、图4A及图4B所示，为本发明另一较佳实施例，其与上一实施例的元件及连结关与运作大致相同在此即不赘述相同的元件及元件符号，惟本较佳实施例的相异处在于所述镂空区32的底部321于本实施例中形成于电容式触控导电体30位置处，同样可使其发光元件70的光源可直接透过所述绝缘层基板20，以提高所述电容式触控板10的透光率，且同时可降低电容式触控板10的光源使用。请同时参阅前述附图与图5所示，所述图5为本发明电容式触控板的制造方法流程图，上述的结构经由下例步骤完成，所述制造方法包括步骤1 (spl)提供可透光的一绝缘层基板，于绝缘层基板上进行半导体制程；步骤2(sp》另提供可透光的导电材料，并经由半导体制程使所述绝缘层基板上披覆有所述导电材料；步骤3 (sp3)并由半导体制程使导电材料形成有多电容式触控导电体，各电容式触控导电体外围形成有一边界，且其电容式触控导电体依序排列电气连接形成有多第一导电阵列与多第二导电阵列；步骤4(sp4)于各电容式触控导电体的边界内界定有至少一处的镂空区，并使其镂空区形成于绝缘层基板上。其中所述半导体制程可为蚀刻法或迭加法，该蚀刻法于所述可透光的绝缘层基板20上镀上如铟锡氧化物(ITO)薄膜的可透光的导电材料，并于其铟锡氧化物(ITO)薄膜不存留的部分涂布蚀刻膏，与将其涂布蚀刻膏处清洗掉，以形成所述电容式触控导电体30与电容式触控导电体30的边界31与镂空区32，并使其镂空区32于绝缘层基板20上形成有一底部321，而其底部321可形成于电容式触控导电体30位置处，也可形成于绝缘层基板 20位置处；与该蚀刻法也可于所述可透光 的绝缘层基板20上镀上如铟锡氧化物(ITO)薄膜的可透光的导电材料，并于其铟锡氧化物(ITO)薄膜存留的部分涂布光阻材料，与将其未涂布光阻材料处以酸蚀清洗掉，以形成所述电容式触控导电体30与电容式触控导电体30 的边界31与镂空区32，并使其镂空区32于绝缘层基板20上形成有一底部321，而其底部 321可形成于电容式触控导电体30位置处，也可形成于绝缘层基板20位置处。又该迭加法是于可透光的绝缘层基板20上将不存留的部分涂布光阻材料，再镀上如铟锡氧化物(ITO)薄膜的可透光的导电材料，而后再以弱碱洗涤剂清洗掉涂布光阻材料处以形成所述电容式触控导电体30与电容式触控导电体30的边界31与镂空区32，并使其镂空区32于绝缘层基板20上形成有一底部321，而其底部321可形成于电容式触控导电体30位置处，也可形成于绝缘层基板20位置处。其中该电容式触控板10更设置有一控制单元(图中未表示)，所述控制单元电气连接所述第一导电阵列40与第二导电阵列50，以于使用者接触其第一导电阵列40与第二导电阵列50并做操控时，由第一导电阵列40与第二导电阵列50传送讯号至控制单元，进而由控制单元完成触控的目的。请参阅第6、图7及图8所示，为本发明再一较佳实施例其中，所述各电容式触控导电体30外围形成有所述边界31 (如图2A、图2B或图4A、图4B所示)，且其电容式触控导电体30可为其他相对称形状，如正六边形或正八边形，又该边界31内界定有至少一处所述镂空区32形成于绝缘层基板20上，而其镂空区32也可依使用者需求进行变化为如环状、棋盘状、蜂巢状或网状等形状，该等形状同样可提高所述电容式触控板10的透光率，与降低电容式触控板10的光源使用。通过上述的结构与制法，本发明相较现有技术改进之处如后可经由镂空区提升透光率；可降低光源亮度使用；节省材料使用。以上所述，仅为本发明的较佳具体实施例，惟本发明的特征并不局限于此，任何熟悉该项技艺者在本发明领域内，可轻易思及的变化或修饰，皆应涵盖在以下本发明的申请专利范围中。
权利要求
1.一种电容式触控板，其特征在于，包括 至少一绝缘层基板；以及至少一电容式触控导电体，披覆于所述绝缘层基板上，各所述电容式触控导电体分别形成有一边界，并于该边界内界定有至少一处镂空区。
2.如权利要求1所述的电容式触控板，其特征在于，所述绝缘层基板为透光的绝缘层基板。
3.如权利要求1所述的电容式触控板，其特征在于，所述电容式触控导电体为透光的导电体。
4.如权利要求1所述的电容式触控板，其特征在于，所述镂空区具有一底部，所述底部形成于所述电容式触控导电体位置处。
5.如权利要求1所述的电容式触控板，其特征在于，所述镂空区具有一底部，所述底部形成于绝缘层基板位置处。
6.如权利要求1所述的电容式触控板，其特征在于，所述电容式触控导电体相互电气连接并形成有至少一第一导电阵列与至少一第二导电阵列，所述第一导电阵列与所述第二导电阵列相互交错且交错处相互不电气连接。
7.如权利要求6所述的电容式触控板，其特征在于，所述第一导电阵列与所述第二导电阵列分别披覆于所述绝缘层基板两侧，并隔着该绝缘层基板交错相对。
8.如权利要求6所述的电容式触控板，其特征在于，更包括有一控制单元，所述控制单元电气连接所述第一导电阵列与所述第二导电阵列。
9.如权利要求6所述的电容式触控板，其特征在于，所述第一导电阵列与所述第二导电阵列同时披覆于所述绝缘层基板一侧，而所述第一导电阵列和所述第二导电阵列错相对处经由一绝缘体材料隔开。
10.一种电容式触控板的制造方法，其特征在于，其包含提供可透光的一绝缘层基板，于绝缘层基板上进行半导体制程； 另提供可透光的导电材料，并经由半导体制程使所述绝缘层基板上披覆有所述导电材料；并由半导体制程使导电材料形成有多电容式触控导电体，各电容式触控导电体外围形成有一边界，且所述电容式触控导电体依序排列电气连接形成有多第一导电阵列与多第二导电阵列；于各电容式触控导电体的边界内界定有至少一处镂空区，并使该镂空区形成于所述绝缘层基板上。
11.如权利要求10所述的电容式触控板的制造方法，其特征在于，更设置有一控制单元，所述控制单元电气连接所述第一导电阵列与所述第二导电阵列。
12.如权利要求10所述的电容式触控板的制造方法，其特征在于，所述镂空区具有一底部，所述底部形成于所述电容式触控导电体位置处。
13.如权利要求10所述的电容式触控板的制造方法，其特征在于，所述镂空区具有一底部，所述底部形成于所述绝缘层基板位置处。
全文摘要
本发明提供了一种电容式触控板及其制造方法，其包括有至少一绝缘层基板及至少一电容式触控导电体，所述绝缘层基板与电容式触控导电体皆为透光的材质，其电容式触控导电体披覆于绝缘层基板上，且各电容式触控导电体分别形成有一边界，该边界内界定有至少一处镂空区，该镂空区具有一底部，且所述电容式触控导电体相互电气连接并形成有至少一第一导电阵列与至少一第二导电阵列，藉此经由电容式触控导电体所形成的镂空区提高其绝缘层基板的透光率，进而达到节省光源亮度使用与节省电容式触控导电体的材料使用的功效。
文档编号G06F3/044GK102402352SQ20101028705
公开日2012年4月4日 申请日期2010年9月17日 优先权日2010年9月17日
发明者林招庆, 祝林, 郭耀宗 申请人:陞达科技股份有限公司