专利名称：触摸屏和制造触摸屏的方法
技术领域：
本发明涉及传感技术和显示技术。特别地，本发明涉及显示器上的触摸屏，以及制造显示器上的触摸屏的方法。
背景技术：
触摸屏正作为受欢迎的与电子器件相互作用的装置出现。触摸屏可机械地与许多不同的显示器类型配合，如阴极射线管(CRT)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示器、电致发光显示器或用于电子纸(electronic paper)的显示器，如电泳显示器。许多触摸屏根据当屏幕被触摸时，该触摸在触摸屏的特定位置改变电性能，如电容或电阻的原理工作。对应于触摸位置的电信号然后可在控制器单元被读取，以控制例如与，显示器连接的装置的操作。基于触摸影响的是什么电性能，这些触摸屏通常被分为例如电容式触摸屏或电阻式触摸屏。这些触摸屏依赖一个或多个导电透明层，通常是膜如氧化铟锡(ITO)薄膜，作为电路的部分，所述电路的电容或电阻由于触摸而在特定位置发生改变。已知触摸屏结构中的导电透明膜沉积在支持基底上，所述支持基底必须具有合适的材料以使具有良好光学性质和电性质的透明导电膜能够生长或沉积。现有技术的显示装置通常由透明层保护显示器的观看侧(参见例如美国专利5688551)。这些保护性透明层可以是例如玻璃的或其它材料，适于机械地和/或化学地保护显示器和/或适于支持显示器工作所需的透明电极。由于触摸屏的透明薄膜需要特定的基底来在其上沉积，触摸屏被制造为单独的模块，添加或排列到显示模块的顶部，以形成触摸显示器。触摸屏模块的单独制造使合适的基底能够被选择用于触摸屏的透明导电膜(或若干膜)。除了基底提供的结构支持，导电透明膜通常也需要化学和/或物理保护膜的一侧或两侧。需要这种类型的封装以保护潜在敏感的透明导电薄抵御，例如，水和/或氧气或抵御物理损害(例如刮痕或弯曲)。因此触摸屏模块添加另外的层，显示器的图像必须通过所述另外的层进行观看。由于添加的触摸屏模块的光学厚度，触摸屏，如现有技术的触摸显示器中所实施的，显著降低触摸显示器的光学性质/可用性。这种降低在用于电子纸的触摸显示器，如意欲模拟传统纸张外观的电泳(EPD)显示器中尤其不利。在用于电子纸的显示器上，现有技术的触摸屏破坏显示器的关键优势之一；图像如同在传统纸中一样出现在表面，因此观看起来容易且舒服。常规触摸屏结构的这种不利影响从宽视角看，即当观看方向远离垂直于显示器平面的方向时，以及在传统的发射型显示器(emissive displays)如IXD显示器或OLED显示器中将引起高眩光和/或反射的情况下引起特别使人不快的显示器外观。常规触摸屏模块的解决方案，在另一方面，给使用者通过一块玻璃阅读电子纸的感觉，这对使用者来说是不舒服和不自然的。现有技术公开了试图将触摸屏整合到显示器的一些结构。例如美国专利5852487公开了液晶显示器(IXD)上的电阻式触摸屏，以及美国专利6177918公开了一种触摸显示器，其具有在共用基底(common substrate)的显示装置一侧上制造的触摸屏。美国专利5852487中公开的结构的缺点包括对共用基底的严格要求以便基底使具有合适光学性能和电性能的电极膜能够在共用基底的两面上制造。该公开甚至建议这样的方法，其中触摸屏模块和显示器模块已被单独制造在它们的专用基底上之后，通过将用于触摸屏和显示器的单独的基底层压在一起而形成触摸屏和显示器之间的基底。美国专利6177918中公开的结构另一方面需要显示器的象素和触摸屏的信号产生层之间的特定排列以便显示器和触摸屏可在共用基底的同一面上被制造。此外，在该公开所公开的结构中仍然保留对透明导电膜基底的严格的材料要求。对不复杂的可靠方法和装置结构存在需求，所述方法和装置结构允许触摸屏在显示器上被制造，这样，图像的光学性质和显示器的可读性不被触摸屏损害。发明目的本发明的目的是通过提供显示器上的新型触摸屏结构和制造显示器上触摸屏结构的新型方法来减少现有技术中的上述技术问题。发明概述根据本发明的产品的特征在于独立权利要求1所呈现的。根据本发明的方法的特征在于独立权利要求10所呈现的。根据本发明的产品是显示装置上的触摸屏，所述显示装置具有用于保护显示装置抵御环境的上基底，所述触摸屏包括导电透明的第一层。第一层包括导电的高长宽比分子结构(HARM-结构)的网络，第一层嵌入显示装置的上基底中以保护导电透明的第一层，用于减小观看者和形成图像的显示装置区域之间的结构的光学厚度。根据本发明的在具有用于保护显示装置抵御环境的上基底的显示装置上制造触摸屏的方法包括如下步骤在与上基底接触的显示装置的上基底上沉积导电透明的第一层，所述第一层包括导电的高长宽比分子结构(HARM-结构)的网络；以及将第一层挤压在上基底上以使第一层嵌入上基底中，用于减小观看者和形成图像的显示装置区域之间的结构的光学厚度。在该上下文中，表述“透明(的)”应被理解为对可见光基本上是透明的，优选透射超过50 %、更优选超过80 %以及最优选超过90 %的可见光。然而，对技术人员而言明显的是，还可使用透射甚至少于50%的可见光的“透明”层，而不背离本发明的范围。当HARM-结构沉积在基底上时，导电的高长宽比分子结构(HARM-结构)，例如碳纳米管(CNT)、碳纳米芽(CNB)、金属纳米线或碳纳米带形成导电通路。HARM-结构不形成连续材料，如例如ITO的膜，而是形成相互电连接的分子网络。因此，HARM-结构网络的性质对基底的性质不是非常敏感，并且基底材料可以相对自由地进行选择，只要该基底可维持沉积环境的条件。因此HARM-结构网络可直接沉积在显示装置的外表面上，这在该上下文中被称作上基底。在显示装置的上基底上沉积第一层，以便第一层与上基底接触存在，除去了对利用专用基底沉积第一层的需要。这导致显示器上触摸屏的光学上薄的设计，改进了触摸屏下的显示器的可读性，以及因此，触摸显示器的可用性。另外，它简化了整个结构的设计和制造过程，因为触摸屏现在可直接制造在具有良好电学和光学性质的显示装置上。HARM-结构网络的机械耐久性还导致最终产品的另外优势并使触摸显示器能够更可靠的制造。而且，由于HARM-结构网络不需要是连续的以在整个网络区域是导电的，与例如金属氧化物如ITO的膜相反，沉积的HARM-结构网络可以是特别地薄，同时在机械上和电学上是强劲的。这使得能够沉积具有良好的电性能和机械性能的非常薄的HARM-结构网络，用于触摸屏应用，增加触摸屏结构的透明度并由此改进通过触摸屏的图像的质量，如使用者所体验的那样。在本发明的一个实施方式中，上基底由聚合物制成。在本发明中，第一层被嵌入上基底中以保护导电透明的第一层。在本发明的再一个实施方式中，方法包括当将第一层压在上基底上之前和/或之时对上基底施加热的步骤，以将第一层嵌入上基底中。在本发明的一个实施方式中，将第一层压在上基底上的步骤包括机械压缩或热压缩。在本发明的一个实施方式中，机械压缩包括在没有加热上基底的情况下压。在本发明的一个实施方式中，热压缩包括利用压和加热以便将第一层嵌入上基底中。在本发明的一个实施方式中，触摸屏是电容式触摸屏。在本发明的另一个实施方式中，触摸屏是投射电容式触摸屏。在本发明的一个实施方式中，显示装置是电子纸。在本发明的另一个实施方式中，显示装置是电泳显示器。本发明一些实施方式中的额外益处是第一层，即HARM-结构网络，可通过将网络嵌入显示装置的上基底中而被保护抵御环境。相互连接的HARM-结构网络是柔韧的和机械上耐用的。这使得能够通过例如热压缩将HARM-结构网络嵌入上基底中。在热压缩中，上基底——其可以是例如聚合物——首先通过热处理软化，以及随后将HARM-结构网络压在软化的上基底上以将第一层转移到上基底中。当在本发明的一些实施方式中将第一层封装在上基底中时，不再需要在第一层上或下施用另外的保护涂层，使得能够制造具有小光学厚度的触摸屏结构。这进一步改进了触摸显示器的可读性和光学性质/可用性。在电容式触摸屏中，保护层的两侧或在保护性材料的基体中负责产生触摸依赖性电信号的导电透明层是有益的并且通常是必需的。另外，当电容式触摸屏是例如投射型时，透明导电层被图案化。图案化的层对例如机械或热扰动(perturbation)尤其敏感，这就是为什么它们的保护是重要的。因此本发明的优势在电容式和投射电容式触摸屏中变得明
Mo用于电子纸应用的显示器如电泳显示器试图模拟常规纸的光学外观，这就是为什么在这些显示器上使用的触摸屏模块应具有尽可能小的光学厚度。因此本发明的触摸屏结构特别适于电泳显示器或用于电子纸应用的其它显示器，其中期望或甚至需要触摸屏结构的小的光学厚度。在本发明的一个实施方式中，高长宽比分子结构(HARM-结构)的网络是碳纳米管网络。在本发明的一个实施方式中，高长宽比分子结构(HARM-结构)的网络是碳纳米芽分子网络，所述碳纳米芽分子具有共价地连接到管状碳分子侧面的富勒稀(fullerene)分子。碳纳米管(CNT)和碳纳米芽(CNB)是HARM-结构的例子，当在基底上沉积时，HARM-结构可形成机械上柔韧的和耐久的网络，甚至当沉积物非常薄和透明时，所述网络非常导电。因此这些HARM-结构十分适于触摸屏中使用的导电透明层。CNT或CNB网络另外具有低折光指数，这增加它们在具有小的光学厚度的触摸屏中的潜在适用性。CNT或CNB网络还显示高的电荷储存能力。这一额外优势与良好的导电性一起可用于电容式和投射电容式触摸屏中，以使较短的响应时间能够定位在触摸屏上的触摸。在本发明的一个实施方式中，触摸屏包括在第一层上的顶部基底层，以保护第一层抵御环境。在触摸屏变得暴露于例如大的温度变化、化学侵蚀性环境或重复的机械应力的恶劣操作条件下，顶部基底层可用来对第一层提供额外的保护，甚至当第一层嵌入显示装置的上基底中时。以上描述的本发明的实施方式可相互以任何组合使用。实施方式中的几个可被组合在一起以形成本发明的另外实施方式。本发明涉及的产品或方法可包括以上描述的本发明实施方式中的至少一个。发明详述在下面，通过参考附图，利用示例性实施方式对本发明进行更详细地描述，其中
图1是现有技术的触摸显示器的示意图，图2是根据本发明一个实施方式的显示器上的触摸屏的示意图，图3是根据本发明另一个实施方式的显示器上的触摸屏的示意图，图4是根据本发明再一个实施方式的显示器上的触摸屏的示意图，图5是根据本发明一个实施方式将第一层整合到上基底中的方法的流程图，图6是根据本发明另一个实施方式的显示器上的触摸屏的示意图，图7是根据本发明再一个实施方式的显示器上的触摸屏的示意图，和图8是根据本发明再一个实施方式的显示器上的触摸屏的示意图。图1的典型投射电容式触摸显示器包括显示器模块1和被层压到显示器模块1上的触摸屏模块13。显示器模块1包括为显示器模块1提供例如驱动电子件(electronics)和基底的构架(baClA0ne)2。显示器模块1另外包括构架2上的第一电极4、用于产生显示器模块1的图像的图画元件(picture element)6、在图画元件6上的透明的第二电极8、与图画元件6连接的电源和第一控制电缆10——用以将图像控制信号供给第二电极8以选择性地激活图画元件6。第二电极8——其可包括HARM网络和/或透明导电膜——覆盖有保护性上基底12，上基底12可以是例如玻璃的或聚合物的。图1的典型投射电容式触摸屏模块13包括被层压在一起的两个透明基底14、20(例如玻璃)，每个基底14、20具有图案化的透明导电涂层，它们一起在两个透明基底14、20之间形成导电透明的第一层16。该第一层16是触摸屏模块13的触摸敏感(touch-sensitive)元件并通过第二控制电缆18与控制单元(未显示)连接。第一层16对顶部基底层20表面上的触摸的敏感性通过触摸敏感性第一层16的图案化导电涂层(电极)来实现。通过使导电透明的材料如例如ITO (氧化铟锡)、FT0 (氧化氟锡)或ATO(氧化锑锡)图案化从薄膜来制造这些图案化涂层。导电路径(trace)(例如银、铜或金)通常用来将图案化ITO、FTO或ATO膜经由第二控制电缆18连接到控制单元。顶部基底层20的底面可例如具有水平的Y-测量电极，而底部基底14的顶面具有垂直的X-测量电极。X-电极和Y-电极一起形成第一层16。Y-测量电极可以以例如下列方式进行图案化最小化触摸元件(例如手指尖)——其接触顶部基底层20表面上的触摸屏模块13——对X-电极的屏蔽。因此，在该构造中，X-电极和Y-电极包含在同一平面内。现有技术已知图案化触摸敏感性第一层16中电极的各种方式。在图1的投射电容式触摸屏中，当导电的表面，如手指尖靠近或接触顶部基底层20时，包括X-电极和Y-电极的RC-电路的电容中位置依赖性扰动被定位(registered)，并且对应于触摸位置的电信号经由第二控制电缆18传送到控制单元(未显示)。常规地，当触摸屏用在显示器上时，触摸屏模块13被放置在显示器模块1之上，在光发射通过的上基底12上，并且这两个模块1、13通过机械固定装置(例如通过框架样结构)被保持在一起。图1中的显示器模块1可以是例如IXD、等离子体显示器、OLED显示器、电泳显示器或能支持触摸屏和与触摸屏相互作用的任何其它显示器。显示器模块1的构架2然后包括必需的部件以驱动特定的显示器类型，例如电力变换器、背光源和支撑结构。基底12、14、20和第一层16中的厚度和材料在图像朝着观察者通过所述结构时，可降低图像的质量。当光从下面的图画元件6通过触摸屏模块13时，光经历折光指数的改变。一些光被吸收，一些光被折射，一些光被透射，一些光被反射。这在图1中显示的现有技术的触摸显示器中降低了图画元件6所产生的图像的可读性、亮度、清晰度以及其它光学性质。为了简便起见，在重复部件的情况下，项目编号将在以下示例性实施方式中保持不变。图2显示根据本发明一个实施方式的触摸显示器，其中触摸敏感性第一层16是HARM-结构——例如CNT、纳米线、纳米带或CNB——的网络，其已被图案化以并入X-电极和Y-电极。如所讨论的，HARM-结构，如CNT或CNB，不作为基底上的材料膜生长，而是作为分子网络生长，并因此不对网络所沉积的基底材料或HARM-结构网络的厚度强加具体限定。因此第一层16可以直接沉积到显示器模块1的上基底12上至期望的层厚度，这导致触摸屏结构的小的光学厚度。这与现有技术的触摸屏结构——其中通过例如通常的薄膜沉积方法如CVD、PVD或ALD沉积的IT0、FT0或ATO膜必须在特定材料的基底上生长以便所述膜具有良好的光学和电学性质——相反。图2的薄的触摸屏模块13对使用者不可见并因此提高显示器/触摸屏组合的性能。CNT和CNB网络另外具有低的折射指数，这增加触摸屏模块13光学厚度的有利减小。根据本发明一个实施方式的图2的触摸显示器可通过在电泳显示器(EPD)的构架2上沉积和图案化第一电极4进行制造。这可通过常规的薄膜沉积和光刻方法来进行。接下来，将含有电子墨水胶囊(e-ink capsule)的液体聚合物层沉积在第一电极上以形成图画元件6，并且透明的第二电极8在图画元件6上形成。第一电极4和第二电极8与在电极之间产生电场的电源连接。每个单独图画元件之上的电场由第一控制电缆10控制，所述第一控制电缆10与控制每个单独第二电极8的电压的控制单元(未显示)连接。由聚合物制成的保护性上基底12被组装到第二电极8上。触摸屏模块13的触摸敏感性第一层16在工艺流程的许多可选阶段可被直接沉积在上基底12上并在其上图案化。第一层16可例如在上基底12被组装到显示器模块1之前或之后被沉积。相应地，顶部基底层20可在上基底12被组装到显示器模块1之前或之后被组装到第一层16上。在本发明的另一个实施方式中，第一层16还可首先被沉积到顶部基底层20上，随后存在于基底层20上的第一层16可接触已被组装到显示器模块1上的上基底12而进行沉积。顶部基底层20用于机械地支撑下面的结构并例如机械地和化学地保护第一层16抵御环境。HARM-结构的气相合成工艺和可用于将CNT (或CNB)网络沉积到基底上的工艺的细节公开在例如专利申请公开W02005/085130、W02007/101906和W02007/101907中，其作为引用被包括在本文中。用以图案化HARM-结构网络的图案化工艺的细节公开在专利申请公开W02009/000969中，其作为引用被包括在本文中。根据本发明的一些实施方式，以上参考文献中公开的工艺可用于制造第一层16中包含HARM-结构的图案化X-电极和Y-电极。第二控制电缆18与第一层16的HARM-结构(由例如CNT或CNB形成)的电连接可用现有技术中已知的方法来完成，这些方法对技术人员来说是明显的。这些方法在例如专利申请公开US2005/0148174中被讨论，其作为引用被包括在本文中。作为如何根据本发明一个实施方式将HARM-结构网络沉积到上基底12上的实例，使用一氧化碳和二茂铁分别作为碳源和催化剂前体，在气胶层流(浮动催化(floatingcatalyst))反应器中合成了 SWCNT (单壁碳纳米管)。然后将SWCNT垫通过2. 45cm直径硝化纤维素(或银)盘式过滤器(Millipore Corp, USA)过滤直接从反应器的气相下游进行收集。在该实施方式中，过滤器起到初级基底的作用。测量过滤器表面(初级基底)上的沉积温度为45°C。在初级基底上形成的SWCNT网络的层厚度由沉积时间控制，根据期望的网络厚度，沉积时间可从几分钟到几个小时变化。以这种方式，在初级基底上获得不同厚度的SWCNT网络，并且测量结果显示，沉积物是随机取向的SWCNT网络。随后，在本发明的该实施方式中，物理压缩和加热(热压缩)用于将SWCNT网络从初级基底转移到上基底12上。热压缩通过在两个平行的加热板之间施加力来实施，初级基底和上基底12放置在两个平行的加热板之间，这样SWCNT网络被夹入到初级基底和上基底12之间。加热的压缩板还自然引起初级基底、SWCNT-网络和上基底12的加热。作为例子，SffCNT网络被转移到10 μ m厚的中密度聚乙烯(PE)聚合物膜(MetsaTissue Ltd, Finland)，其用作上基底12的目的。该材料是柔韧的，光学上基本上透明的，具有约125°C的熔化温度tm和约-125°C的玻璃化转变温度tg。热压缩之后，除去初级基底，使其不与SWCNT-网络接触。最后，通过插层材料(乙醇或水)将转移的SWCNT网络在上基底12上致密化，以形成第一层16。为了评价SWCNT网络的光学透明度，将未涂布的聚合物膜用作参考。对于具有500至24nm厚度的CNT网络，沉积到聚合物膜上的SWCNT网络的透明度分别从大约60%至95%变化。在图3中显示的本发明实施方式中，触摸敏感性第一层16嵌入显示器模块1的上基底12 (由聚合物制成)中。嵌入第一层16减少对具有额外保护性顶部基底层20或单独的封装(encapsulation)层以保护触摸敏感性第一层16的需要，因为第一层16的触摸敏感性电极在本发明的该实施方式中被上基底12所保护和封装。该结构导致触摸屏光学厚度的进一步降低，因此改进触摸显示器的可读性和可用性。尽管第一层16被第一层16所嵌入的上基底12充分地保护，但是在恶劣的工作条件下，仍然存在对额外保护的需要。在触摸屏变得暴露于例如大的温度变化、化学侵蚀性环境或重复的机械应力情况下，顶部基底层20可沉积在第一层16上以对第一层16提供额外的保护。本发明的该实施方式示意地显示在图4中。图3或图4的嵌入结构用除触摸敏感性第一层16中HARM-结构网络外的透明导电材料难以实现。这些其它材料的实例包括导电聚合物和上面提到的金属氧化物膜。
包含HARM-结构例如CNT或CNB网络的第一层16可通过例如热压缩直接嵌入EPD显示器模块(或任何其它合适的显示器模块)的上基底12中。热压缩方法的细节在上面进行了讨论，并且还可在专利申请公开W02009/000969中找到，该申请通过引用被包括在本文中。为了使第一层16能够根据图3或图4整合到上基底12中，第一层16首先从例如上面所讨论的初级基底沉积到上基底12上。去除初级基底，使其不与第一层16接触之后，再次使用热压缩将存在于上基底12上的第一层16压到上基底12中。这一次将上面讨论的压缩板的温度增加到接近上基底12的材料的熔化温度。这将使上基底的粘度降低，并且施加的压力会将第一层16压到上基底12中以将第一层16整合到上基底12的聚合物材料，即聚合物基体中。实现该整合所需要的工艺参数的细节是相互关联的，并且它们将取决于例如上基底12的组成。技术熟练的专业人员根据本说明书可容易地找到合适的工艺参数。根据本发明一个实施方式将第一层16整合到上基底12中的方法以流程图显示在图5中。在本发明的一个实施方式中，第一层16通过机械压缩被嵌入上基底12中。在该实施方式中，将在上基底12上沉积的第一层16被压向上基底而不使用热，以将第一层16嵌入到上基底12中。根据本发明的再一个实施方式示意地显示在图6中的触摸敏感性显示器结构包括顶部基底层20上的导电透明的第二层22。第二层22像第一层16 —样是HARM-结构网络。该结构还包括第二层22上任选的顶部涂层M以保护第二层22抵御环境。可如上面所公开的和通过制造包含HARM-结构网络的透明导电层来制造图6的结构，即在透明顶部基底层20每一侧上的第一层16和第二层22。图6的“两层”触摸屏模块13——其包括顶部基底层20 —侧上的第一层16 ；顶部基底层20另一侧上的第二层22 ；第二层22上任选的顶部涂层M ；以及第一层16和第二层22之间的顶部基底层20——然后可组装在显示器模块1的上基底12上，以便第一层16与上基底12接触地沉积。可以是例如PET或其它聚合物的透明保护性涂层M可在上述触摸屏模块13组装到上基底12上之前或之后沉积在第.~ 层22上ο像在第一层16中一样，图6中额外的导电透明的第二层22包括X-电极和Y-电极，它们通过第三控制电缆21与控制单元(未显示)电连接。第一层16中的电极与第二层22中的电极电容性地连接，当触摸屏模块13在暴露的表面上被触摸(或接近)时，触摸导电表面，例如手指尖，与第二层22的电极电容性地连接。因此，两个电容式的连接串联地形成，第三电极是触摸导电表面。如技术人员所已知的，电容器的串联(series)连接，如图6触摸屏模块13中的连接，可用于改进触摸屏模块13的准确度和灵敏度。在图7中示意性地显示的本发明另一个实施方式中，第一层16被嵌入显示器模块1的上基底12中，而第二层22被嵌入顶部基底层20中。第一层16和第二层22的嵌入可通过例如上面公开的热压缩方法实现，根据本说明书，这对技术人员将是明显的。图7的触摸屏模块13还包括任选的透明保护性涂层对。图8中示意性地显示的本发明另一个实施方式呈现了第一层16和第二层22如何可以均被嵌入顶部基底层20中，同时第一层16保持与上基底12接触，因为它没有完全被顶部基底层20的材料包围。第二层22也没有完全被顶部基底层20的材料包围，但是保持暴露于环境或在采用保护性涂层M的情况下，与保护性涂层M接触。在图8的实施方式中，第一层16和第二层22的嵌入可通过例如上面公开的热压缩方法实现，根据本说明书，这对技术人员将是明显的。对技术人员而言明显的是，还可想到将第一层16和第二层22嵌入到上基底12和/或顶部基底层20的其它方式，并且上面讨论的本发明不同实施方式的特征可根据本说明书进行组合以形成本发明的另一个实施方式。虽然上面的实例在投射电容式触摸屏的背景下描述了本发明，但是相同的发明构思可同样用于其它类型的触摸屏结构中；例如用于电阻式触摸屏中和用于非投射的、“通常的(regular) ”、电容式触摸屏中。根据本发明的公开，将在这些触摸屏结构中使用的本发明需要的修改对技术人员而言是明显的。同样，技术人员根据本发明的公开可以想到沉积或图案化包含HARM-结构的第一层16和/或第二层22的其它沉积方法。本领域技术人员清楚，本发明并不限于以上描述的实例，但是实施方式可以在权利要求的范围内自由地变化。
权利要求
1.显示装置(1)上的触摸屏(13)，所述显示装置(1)具有用于保护所述显示装置(1)抵御环境的上基底(12)，所述触摸屏(13)包括导电透明的第一层(16)，其特征在于所述第一层(16)包括导电的高长宽比分子结构(HARM-结构)的网络，所述第一层(16)被嵌入所述显示装置(1)的所述上基底(12)中以保护所述导电透明的第一层(16)，用于减小观看者和形成图像的显示装置(1)区域之间的结构的光学厚度。
2.权利要求1所述的产品，其特征在于所述上基底(1 由聚合物制成。
3.权利要求1-2中任一项所述的产品，其特征在于所述触摸屏(13)是电容式触摸屏。
4.权利要求1-3中任一项所述的产品，其特征在于所述触摸屏(1 是投射电容式触摸屏。
5.权利要求1-4中任一项所述的产品，其特征在于所述显示装置(1)是电子纸。
6.权利要求1-5中任一项所述的产品，其特征在于所述显示装置(1)是电泳显示器。
7.权利要求1-6中任一项所述的产品，其特征在于所述高长宽比分子结构(HARM-结构)的网络是碳纳米管网络。
8.权利要求1-6中任一项所述的产品，其特征在于所述高长宽比分子结构(HARM-结构)的网络是具有共价地连接到管状碳分子侧面的富勒稀分子的碳纳米芽分子网络。
9.权利要求1-8中任一项所述的产品，其特征在于所述触摸屏包括所述第一层(16)上的顶部基底层00)以保护所述第一层(16)抵御环境。
10.制造显示装置(1)上的触摸屏(13)的方法，所述显示装置(1)具有用于保护所述显示装置(1)抵御环境的上基底(12)，其特征在于所述方法包括所述以下步骤-与所述上基底(1 接触地将导电透明的第一层(16)沉积在所述显示装置(1)的所述上基底(12)上，所述第一层(16)包含导电的高长宽比分子结构(HARM-结构)的网络，和-将所述第一层(16)压向所述上基底(12)，以将所述第一层(16)嵌入所述上基底(12)中，用于减小观看者和形成图像的显示装置⑴区域之间的结构的光学厚度。
11.权利要求10所述的方法，其特征在于所述上基底(1 由聚合物制成。
12.权利要求10-11中任一项所述的方法，其特征在于所述方法包括以下步骤-在将所述第一层(16)压向所述上基底(1 之前和/或之时将热施加到所述上基底(12)，以将所述第一层(16)嵌入所述上基底(1 中。
13.权利要求10-12中任一项所述的方法，其特征在于所述将所述第一层(16)压向所述上基底(1 的步骤包括机械压缩或热压缩。
14.权利要求10-13中任一项所述的方法，其特征在于所述触摸屏(13)是电容式触摸屏。
15.权利要求10-14中任一项所述的方法，其特征在于所述显示装置(1)是电子纸。
16.权利要求10-15中任一项所述的方法，其特征在于所述显示装置(1)是电泳显示ο
17.权利要求10-16中任一项所述的方法，其特征在于所述触摸屏包括所述第一层(16)上的顶部基底层(20)，以保护所述第一层(16)抵御环境。
全文摘要
显示装置(1)上的触摸屏(13)，以及制造显示装置(1)上的触摸屏(13)的方法。所述显示装置(1)具有用于保护所述显示装置(1)抵御环境的上基底(12)，所述触摸屏(13)包括导电透明的第一层(16)。所述第一层(16)包含导电的高长宽比分子结构(HARM-结构)的网络，所述第一层(16)被嵌入所述显示装置(1)的所述上基底(12)中以保护所述导电透明的第一层(16)，用于减小观看者和形成图像的显示装置(1)区域之间的结构的光学厚度。
文档编号G06F3/041GK102597923SQ201080048426
公开日2012年7月18日 申请日期2010年9月2日 优先权日2009年9月4日
发明者B·J·艾奇逊, D·P·布朗 申请人:凯纳图公司