专利名称：触摸屏面板的制造方法
技术领域：
本发明的各方面涉及一种触摸屏面板的制造方法，在该方法中掩模工艺的数量减少。
背景技术：
触摸屏面板是允许通过用户的手或物体选择显示在屏幕(例如，图像显示装置) 上的指令内容来输入用户指令的输入装置。为此，触摸屏面板被设置在图像显示装置的前表面上以将接触位置转换成电信号。用户的手或者物体在接触位置与触摸屏面板直接接触。因此，通过与接触位置接触而选择的指令内容作为输入信号被输入到图像显示装置。由于可以使用这样的触摸屏面板来替代连接到图像显示装置的单独的输入装置 (例如，键盘或鼠标)，所以增加了触摸屏面板的使用。触摸屏面板分为电阻覆盖触摸屏面板(resistive overlay touch screen panel)、光敏触摸屏面板、电容触摸屏面板或其他类似的触摸屏面板。在这些触摸屏面板中，当用户的手或物体接触触摸屏面板时，电容触摸屏面板通过感测导电感测图案与相邻的感测图案之间、与地电极等之间的电容变化将接触位置转换成电信号。电容触摸屏面板包括多个沿第一方向连接的第一感测图案和多个沿第二方向连接的第二感测图案，从而可以检测到接触位置的坐标。第一感测图案和第二感测图案由相同的材料形成并形成在相同的层中，使得整个触摸屏面板可以对触摸具有一致的敏感度。然而，沿第一方向连接第一感测图案的第一连接图案和沿第二方向连接第二感测图案的第二连接图案形成在不同的层中。第一感测图案和第二连接图案通过不同的工艺形成，以防止第一连接图案和第二连接图案发生短路。此外，在第一连接图案和第二连接图案之间形成使它们彼此绝缘的绝缘层。在形成第一连接图案的工艺、形成第二连接图案的工艺和形成绝缘层的工艺中， 单独地执行图案化工艺。因此，所有这些工艺都需要掩模工艺。因此，触摸屏面板的制造工艺复杂，并且降低了触摸屏面板的制造效率。
发明内容
本发明的各方面提供了一种触摸屏面板的制造方法，在该方法中掩模工艺的数量减少。根据本发明的各方面，提供了一种触摸屏面板的制造方法，该方法包括以下步骤 在透明基板的同一表面上顺序地形成导电层和绝缘层；使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化以形成具有分开的图案的第一连接图案，绝缘层在第一连接图案上被图案化以暴露第一连接图案的区域；在具有第一连接图案和绝缘层的透明基板上形成透明电极层；将透明电极层图案化以形成第一感测图案和第二感测图案，第一感测图案通过沿第一方向连接的第一连接图案的暴露的区域连接到第一连接图案，第二感测图案设置在第一感测图案之间，其中，第二感测图案与第一感测图案绝缘并沿第二方向连接。根据本发明的另一方面，使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化的步骤可包括使用半色调掩模在绝缘层上形成具有第一高度和低于第一高度的第二高度的光致抗蚀剂；通过蚀刻工艺将光致抗蚀剂下面的区域以外的区域处的导电层和绝缘层去除；通过灰化工艺将具有第二高度的光致抗蚀剂去除并通过蚀刻工艺将具有第二高度的光致抗蚀剂下方的绝缘层去除，以暴露第一连接图案的暴露的区域；通过灰化工艺将绝缘层上剩余的光致抗蚀剂去除。根据本发明的另一方面，通过蚀刻工艺将光致抗蚀剂下面的区域以外的区域处形成的导电层和绝缘层去除的步骤可包括通过干蚀刻工艺将绝缘层去除，然后通过湿蚀刻工艺将导电层去除，其中，导电层被过蚀刻以使导电层的边定位为比绝缘层的边更向内。根据本发明的另一方面，在使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化的步骤中，可在互连区域上形成具有第二高度的光致抗蚀剂，以在将第一连接图案图案化的同时在互连区域上将位置检测线图案化。根据本发明的另一方面，在将透明电极层图案化的步骤中，沿第二方向连接第二感测图案的第二连接图案可以与第二感测图案一体地形成。根据本发明的各方面，使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化，使得可在一个掩模工艺中形成第一连接图案和绝缘层。因此，减少了掩模工艺的数量，因此简化了制造工艺。本发明的其他方面和/或优点将部分地在后面的描述中提出，部分地通过描述而显而易见，或者可通过本发明的实践而被知晓。
通过下面结合附图进行的实施例的描述，本发明的这些和/或其他方面和优点将会变得清楚且更易于理解，附图中图1是示意性地示出根据本发明实施例的触摸屏面板的平面图；图2是示出图1中示出的感测图案和连接图案的主要部分的平面视图；图3是从一个方向看图1的触摸屏面板的主要部分的剖视图；图4是从另一方向看图1的触摸屏面板的主要部分的剖视图；图5A至图5G是顺序地示出图3中示出的触摸屏面板的制造方法的剖视图。
具体实施例方式现在将详细说明本发明的实施例，在附图中示出了实施例的示例，其中，相同的标号始终表示相同的元件。下面通过参照附图来描述实施例，以解释本发明。要理解的是，在此描述的第一元件设置“在”或形成“在”第二元件“上”或“中”，或者“连接到”第二元件的情况下，第一元件可以与第二元件直接接触，或者可以通过一个或多个位于第一元件和第二元件之间的其他元件而分开。相反，当元件被称作“直接设置在” 或“直接形成在”另一元件“上”或者“直接连接到”另一元件时，不存在中间元件。
图1是示意性地示出根据本发明实施例的触摸屏面板的平面图。图2是示出图1 中示出的感测图案和连接图案的主要部分的平面视图。参照图1和图2，根据本发明实施例的触摸屏面板包括透明基板10 ；第一感测图案1 和第二感测图案12b，形成在透明基板 10上；位置检测线15，通过焊盘部分20将第一感测图案1 和第二感测图案12b连接到外部驱动电路。使用诸如氧化铟锡(ITO)的透明电极材料将第一感测图案1 形成为沿第一方向 (例如，行方向)连接。因此，第一感测图案1 的多个行连接到位置检测线15中的相应的位置检测线。第一感测图案1 可形成为菱形形状。如图2所示，将第一感测图案12a图案化为具有分开的图案并通过第一连接图案12al沿第一方向将第一感测图案1 连接。第一连接图案12al在与形成第一感测图案12a的工艺不同的工艺中形成。第一连接图案12al的多个区域接触第一感测图案12a，使得第一连接图案12al在电连接到第一感测图案12a的同时将第一感测图案1 沿第一方向彼此连接。使用透明电极材料形成第二感测图案12b并将第二感测图案12b布置在与第一感测图案1 相同的层中。第二感测图案12b沿与第一感测图案12a的行交叉的第二方向(例如，列方向)连接。因此，第二感测图案12b与第一感测图案1 绝缘。第二感测图案12b可形成为菱形形状。如果第一感测图案1 和第二感测图案12b位于相同的层中，则触摸屏面板可对触摸具有完全一致的敏感度。第二感测图案12b在相应的图案化工艺中被图案化为沿第二方向连接。例如，第二感测图案12b被图案化为通过图2示出的一体地形成的第二连接图案12bl沿第二方向连接。然而，本发明的各方面不限于此，并且连接第二感测图案12b的第二连接图案12bl可在与形成第二感测图案12b的工艺不同的工艺中单独地形成。第二感测图案12b的列线连接到相应的位置检测线15。位置检测线15将第一感测图案1 和第二感测图案12b通过焊盘部分20连接到外部驱动电路(诸如位置检测电路，未示出)。位置检测线15设置在触摸屏面板的外围处，同时避开显示图像的触摸屏有效区域。除了用于形成第一感测图案1 和第二感测图案12b的透明电极材料以外，位置检测线15由诸如钼(Mo)、银(Ag)、钛(Ti)、铜(Cu)、铝(Al)或钼/铝/钼(Mo/Al/Mo)的低电阻材料形成。然而，本发明的各方面不限于此，位置检测线15可由其他合适的材料形成。前述触摸屏面板是电容触摸屏面板。如果诸如用户的手或者触摸棒的接触物体与触摸屏面板接触，则与接触位置对应的电容的变化通过位置检测线15和焊盘部分20从感测图案1 和12b被传递到外部驱动电路(未示出)。电容的变化通过X和Y输入处理电路(未示出)等被转换成电信号，从而检测到接触位置。前述触摸屏面板形成在独立的基板上，使得触摸屏面板能附于图像显示装置等的前表面。然而，本发明的各方面不限于此，触摸屏面板可以与图像显示装置的显示面板一体地实现。例如，触摸屏面板可以在有机发光显示面板或液晶显示面板的上基板的顶表面上与有机发光显示面板或液晶显示面板一体地实现。如此，触摸屏面板与显示面板一体地实现，从而提供薄的图像显示装置。图3是从一个方向看图1中的触摸屏面板的主要部分的剖视图。图4是从另一方向看图1中的触摸屏面板的主要部分的剖视图。为便于说明，图3中的触摸屏有效区域101 示出了沿图2中的线1-1’截取的截面，图4中的触摸屏有效区域101示出了沿图2中的线11-11’截取的截面。将参照图1和图2来描述图3和图4中的触摸屏面板的结构。将触摸屏面板划分为形成在其中心部分处的触摸屏有效区域101和形成在其边缘处的互连 (interconnection)区域 102。触摸屏有效区域101包括形成在透明基板10的一个表面上的第一连接图案12al 和形成在第一连接图案12al上以暴露第一连接图案12al的区域的绝缘层13。触摸屏有效区域101还包括通过第一连接图案12al的暴露的区域连接到第一连接图案12al并沿第一方向连接的第一感测图案12a。触摸屏有效区域101还包括第二感测图案12b，第二感测图案12b形成在第一感测图案1 之间以与第一感测图案1 绝缘并通过一体地形成在绝缘层13上的第二连接图案12bl沿第二方向连接。也就是说，在本实施例中，绝缘层13设置在第一连接图案12al和第二连接图案 12bl的每个交叉部分处，从而防止第一连接图案12al和第二连接图案12bl的短路。然而， 如图3所示，绝缘层13暴露第一连接图案12al的区域，使得第一连接图案12al通过其暴露的区域连接到第一感测图案12a。也就是说，第一感测图案1 通过第一连接图案12al 的暴露的区域与第一连接图案12al直接接触。因此，第一感测图案1 沿第一方向是可连接的。第一感测图案1 可以与第一连接图案12al —体地形成。为了有效地防止第一连接图案12al和第二连接图案12bl的短路，第一连接图案 12al在第二连接图案12bl延伸到第二感测图案12a的区域处被过蚀刻，如图4所示。因此，第一连接部分12al的边在第二连接图案12bl延伸到第二感测图案12b的区域处比绝缘层13的边更向内定位，从而确保了触摸屏面板的电稳定性。也就是说，绝缘层在第二连接图案12bl延伸到第二感测图案12b的区域的一个方向上的下部形成得比每个第一连接图案12al的上部宽。将触摸屏有效区域101形成为透明的，使得光可以从触摸屏面板下面的显示面板 (未示出)透射。也就是说，第一感测图案1 和第二感测图案12b、第二连接图案12bl和绝缘层13由具有透射率的透明材料形成。这里，“透明度”不仅包括100%的透明度，还包括具有高的光学透射率的小于100%透明度的透明度。关于此点，第一感测图案1 和第二感测图案12b以及第二连接图案12bl由诸如 ITO的透明电极材料形成。绝缘层13由诸如氧化硅(SiO2)的透明绝缘材料形成。然而，本发明的各方面不限于此，第一感测图案1 和第二感测图案12b、第二连接图案12bl和绝缘层13可由其他合适的材料形成。然而，第一连接图案12al由低电阻金属或其他合适的材料形成。调整第一连接图案12al的线宽度或长度，从而能够防止第一连接图案12al被用户的眼睛看出来或者对用户的眼睛可见。互联区域102(也被称作虚设区域)包括位置检测线15。位置检测线15在与第一连接图案12al相同的工艺中由与第一连接图案12al相同的材料形成。然而，本发明的各方面不限于此，位置检测线15可由其他合适的材料形成并可在其他工艺中形成。根据本发明的各方面，使用一个半色调掩模将第一连接图案12al和绝缘层13图案化，从而减少掩模工艺的数量并简化制造工艺。下面将参照图5A至图5G对此进行详细的描述。此外，尽管未在图3和图4中示出，但是在形成有第一感测图案1 和第二感测图案12b的透明基板10的上方还形成用来防止表面划痕等的单独的保护层。然而，本发明的各方面不限于此，可不在透明基板10的上方形成单独的保护层。在图3中，为便于说明，与感测图案12a和12b相比，连接图案12al和12bl的尺寸被夸大了。然而，如图1所示，连接图案12al和12bl形成为具有难以识别的尺寸。图5A至图5G是顺序地示出图3中示出的触摸屏面板的制造方法的剖视图。将参照图5A至图5G来描述根据本发明的当前实施例的触摸屏面板的制造方法。准备透明基板 10，在透明基板10的一个表面上形成导电层11和绝缘层13。在此，透明基板10是显示面板的上基板、触摸面板的单独的基板、窗口基板或其他相似的基板。使用导电层11来形成第一连接图案12al和位置检测线15。通过在整个透明基板 10上沉积诸如钼(Mo)的低电阻材料来形成导电层11。然而，本发明的各方面不限于此，导电层11可由其他合适的材料形成并可形成在透明基板10的一部分上。通过在整个导电层 11上沉积诸如氧化硅(SiO2)的透明绝缘材料来形成绝缘层13，如图5A所示。然而，本发明的各方面不限于此，绝缘层13可由其他合适的材料形成并可形成在导电层11的一部分上。接下来，使用半色调掩模对导电层11和绝缘层13进行共图案化，以形成具有分开的图案的第一连接图案12al。使用半色调掩模的导电层11和绝缘层13的共图案化步骤还形成位置检测线15和部分地位于第一连接图案12al上的绝缘层13的一部分，以暴露第一连接图案12al的区域。更具体地讲，如图5B所示，使用一个半色调掩模(未示出)在绝缘层13上形成具有不同高度(即，第一高度Hl和低于第一高度Hl的第二高度H2)的光致抗蚀剂冊。此时， 通过将绝缘层13图案化而在将要部分地保留在第一连接图案12al的区域处形成具有第一高度Hl的光致抗蚀剂PR。此外，在第一连接图案12al的暴露的区域处和将形成位置检测线15的区域处形成具有第二高度H2的光致抗蚀剂PR。通过蚀刻工艺将形成在光致抗蚀剂ra的下部以外的其他区域处的导电层11和绝缘层13去除。例如，通过干蚀刻工艺将形成在光致抗蚀剂ra的下部以外的其他区域处的绝缘层13去除。此外，通过进一步执行湿蚀刻工艺将由绝缘层13暴露的导电层11去除。 由此，形成了第一连接图案12al和位置检测线15。也就是说，在使用一个半色调掩模的导电层11和绝缘层13的共图案化工艺中，使用相同的材料对第一连接图案12al和位置检测线15同时进行图案化。在湿蚀刻工艺中对导电层11进行蚀刻。然而，本发明的各方面不限于此，可在绝缘层13的干蚀刻工艺中对导电层11进行部分的蚀刻并可在湿蚀刻工艺中对其进行额外的蚀刻。在导电层11的湿蚀刻工艺中对组成导电层11的材料使用蚀刻剂。使用相对导电层11具有高蚀刻速率的蚀刻剂对导电层11进行过蚀刻，使得导电层11的边比绝缘层13 的边更向内定位。例如，对导电层11进行过蚀刻，使得导电层11的边比绝缘层13的边更向内定位大约Ιμπι至2 μ m。然而，本发明的各方面不限于此，导电层11可以以其他合适的距离向内定位。如图5C所示，将导电层11图案化，使得第一连接图案12al形成在触摸屏有效区域101处，位置检测线15形成在互连区域102处。通过将导电层11过蚀刻而形成的第一连接图案12al的边最终在图4所示的方向定位为比绝缘层13的边更向内。因此，防止了第一连接线12al和第二连接线12bl的短路，从而提高触摸屏面板的电可靠性。通过后续的灰化工艺将具有第二高度H2的光致抗蚀剂I3R去除。此时，具有第一高度Hl的光致抗蚀剂I3R的上部也被去除，从而降低光致抗蚀剂I3R的高度。灰化工艺指在高温气氛下燃烧和去除光致抗蚀剂的工艺。此时，除了离子效果以外，灰化工艺以促进纯的自由基反应的化学反应形式执行。换言之，通过经氧自由基与光致抗蚀剂的碳键反应而形成二氧化碳来去除光致抗蚀剂PR。然而，本发明的各方面不限于此， 可通过其他合适的工艺去除光致抗蚀剂PR。如果去除了具有第二高度H2的光致抗蚀剂PR，则在被去除的光致抗蚀剂I3R下方的绝缘层13被暴露。因此，通过干蚀刻工艺或使用了缓冲氧化物蚀刻剂(BOE，buffered oxide etchant)的湿蚀刻工艺将绝缘层13的暴露的部分去除。然而，本发明的各方面不限于此，可使用其他合适的工艺去除绝缘层13的暴露的部分。因此，暴露了第一连接图案 12al的与第一感测图案1 接触的区域(接触区域)。如图5D所示，通过灰化和蚀刻工艺将具有第二高度H2的光致抗蚀剂ra和光致抗蚀剂I3R下方的绝缘层13去除，从而暴露了第一连接图案12al的暴露的区域。如图5E所示，通过灰化工艺将留在绝缘层13上的光致抗蚀剂I3R去除，从而完成第一连接图案12al、位置检测线15和绝缘层13的图案化工艺。接下来，在形成有第一连接图案12al、位置检测线15和绝缘层13的整个透明基板10上形成透明电极层12’。如图5F所示，使用透明电极层12’来形成第一感测图案1 和第二感测图案12b 以及第二连接图案12bl。通过在整个透明基板10上沉积诸如ITO的透明材料来形成透明电极层12’。然而，本发明的各方面不限于此，透明电极层12’可由其他合适的材料形成并可形成在透明基板10的一部分上。使用单独的掩模(未示出)将透明电极层12’图案化， 从而通过第一连接图案12al的暴露的区域形成多个连接到第一连接图案12al的感测图案 12a。此时，尽管未在该图的剖视图中示出，但是多个第二感测图案12b通过第一感测图案1 和第二感测图案12b的共图案化形成，使得第二感测图案12b在第一感测图案1 之间与第一感测图案1 绝缘。如图5G所示，将第二感测图案12b形成为通过第二连接图案12bl沿第二方向连接。第二感测图案12b和第二连接图案12bl在同一工艺中一体地形成。根据如上所述的触摸屏面板的制造方法，使用一个半色调掩模将导电层11和绝缘层13共图案化，从而在一个掩模工艺中形成第一连接图案12al和绝缘层13。因此，掩模工艺的数量减少了，由此简化了制造工艺。虽然已经示出并描述了本发明的一些实施例，但是本领域的技术人员应该知晓， 在不脱离本发明的原理和精神的情况下，可以对这些实施例作出改变，本发明的范围由权利要求及其等同物来限定。
权利要求
1.一种触摸屏面板的制造方法，所述方法包括以下步骤在透明基板的同一表面上顺序地形成导电层和绝缘层；使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化以形成具有分开的图案的第一连接图案， 绝缘层在第一连接图案上被图案化以暴露第一连接图案的区域；在具有第一连接图案和绝缘层的透明基板上形成透明电极层；将透明电极层图案化以形成第一感测图案和第二感测图案，第一感测图案通过沿第一方向连接的第一连接图案的暴露的区域连接到第一连接图案，第二感测图案设置在第一感测图案之间，其中，第二感测图案与第一感测图案绝缘并沿第二方向连接。
2.如权利要求1所述的触摸屏面板的制造方法，其中，使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化的步骤包括使用半色调掩模在绝缘层上形成具有第一高度和低于第一高度的第二高度的光致抗蚀剂；通过蚀刻工艺将光致抗蚀剂下面的区域以外的区域处的导电层和绝缘层去除；通过灰化工艺将具有第二高度的光致抗蚀剂去除并通过蚀刻工艺将具有第二高度的光致抗蚀剂下方的绝缘层去除，以暴露第一连接图案的暴露的区域；通过灰化工艺将绝缘层上剩余的光致抗蚀剂去除。
3.如权利要求2所述的触摸屏面板的制造方法，其中，通过蚀刻工艺将光致抗蚀剂下面的区域以外的区域处形成的导电层和绝缘层去除的步骤包括通过干蚀刻工艺将绝缘层去除，然后通过湿蚀刻工艺将导电层去除，其中，导电层被过蚀刻以使导电层的边定位为比绝缘层的边更向内。
4.如权利要求2所述的触摸屏面板的制造方法，其中，触摸屏面板被划分为触摸屏有效区域和互连区域，在使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化的步骤中，在互连区域上形成具有第二高度的光致抗蚀剂，以在将第一连接图案图案化的同时在互连区域上将位置检测线图案化。
5.如权利要求1所述的触摸屏面板的制造方法，其中，在将透明电极层图案化的步骤中，沿第二方向连接第二感测图案的第二连接图案与第二感测图案一体地形成。
6.如权利要求1所述的触摸屏面板的制造方法，其中，第一感测图案与第一连接图案一体地形成。
7.如权利要求5所述的触摸屏面板的制造方法，其中，绝缘层设置在第一连接图案和第二连接图案之间。
8.如权利要求1所述的触摸屏面板的制造方法，其中，第一方向与第二方向垂直。
9.如权利要求4所述的触摸屏面板的制造方法，其中，位置检测线由与第一连接图案的材料相同的材料形成。
10.一种触摸屏面板的制造方法，所述触摸屏面板具有顺序地形成在透明基板上的导电层和绝缘层，所述制造方法包括使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化，以形成彼此分隔开的第一连接图案以及暴露第一连接图案的区域的绝缘层；在具有共图案化的导电层和绝缘层的透明基板上形成透明电极层；将透明电极层图案化以形成第一感测图案和第二感测图案，第一感测图案连接到第一连接图案的暴露的区域，第二感测图案通过第二连接图案彼此连接； 其中，第二感测图案与第一感测图案相邻， 第一连接图案沿第一方向延伸，第二连接图案沿第二方向延伸。
11.如权利要求10所述的触摸屏面板的制造方法，其中，第一方向与第二方向大致垂直。
12.如权利要求10所述的触摸屏面板的制造方法，其中，使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化的步骤包括使用半色调掩模在绝缘层上形成具有第一高度和低于第一高度的第二高度的光致抗蚀剂；通过蚀刻工艺将光致抗蚀剂下面的区域以外的区域处的导电层和绝缘层去除； 通过灰化工艺将具有第二高度的光致抗蚀剂去除并通过蚀刻工艺将具有第二高度的光致抗蚀剂下方的绝缘层去除，以暴露第一连接图案的暴露的区域； 通过灰化工艺将绝缘层上剩余的光致抗蚀剂去除。
13.如权利要求12所述的触摸屏面板的制造方法，其中，通过蚀刻工艺将光致抗蚀剂下面的区域以外的区域处的导电层和绝缘层去除的步骤包括通过干蚀刻工艺将绝缘层去除，然后通过湿蚀刻工艺将导电层去除，其中，导电层被过蚀刻以使导电层的边定位为比绝缘层的边更向内。
14.如权利要求12所述的触摸屏面板的制造方法，其中，触摸屏面板被划分为触摸屏有效区域和互连区域，在使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化的步骤中，在互连区域上形成具有第二高度的光致抗蚀剂，以在将第一连接图案图案化的同时在互连区域上将位置检测线图案化。
15.如权利要求10所述的触摸屏面板的制造方法，其中，在将透明电极层图案化的步骤中，沿第二方向连接第二感测图案的第二连接图案与第二感测图案一体地形成。
16.如权利要求10所述的触摸屏面板的制造方法，其中，第一感测图案和第二感测图案均形成为菱形形状，其中，第一感测图案的角沿第一方向彼此相邻，第二感测图案的角沿第二方向彼此相邻，沿第一方向延伸的第一感测图案的列与沿第二方向延伸的第二感测图案的行交叉。
全文摘要
本发明公开了一种触摸屏面板的制造方法，在该方法中，在透明基板的同一表面上顺序地形成导电层和绝缘层。使用半色调掩模将导电层和绝缘层共图案化以形成具有分开的图案的第一连接图案，绝缘层在第一连接图案上被图案化以暴露第一连接图案的区域。在具有第一连接图案和绝缘层的透明基板上形成透明电极层。将透明电极层图案化以形成第一感测图案和第二感测图案，第一感测图案通过第一连接图案的暴露的区域连接到第一连接图案并沿第一方向连接，第二感测图案设置在第一感测图案之间，其中，第二感测图案与第一感测图案绝缘并沿第二方向连接。
文档编号G06F3/044GK102163097SQ20111004031
公开日2011年8月24日 申请日期2011年2月16日 优先权日2010年2月22日
发明者全雨植, 李雄洙, 金度晔 申请人:三星移动显示器株式会社