触摸屏中玻璃传感器的制造方法、玻璃传感器和触摸屏的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明属于触摸屏技术领域，具体涉及触摸屏中玻璃传感器的制造方法、玻璃传感器和触摸屏。
【背景技术】
[0002]目前触摸屏中最常用的透明电极层材料为掺锡氧化铟(ITO)、掺铝氧化锌(AZO)、掺氟氧化锡(FTO)、掺镓氧化锌这几种，其中ITO应用最广泛。目前10寸以上的大尺寸触摸屏产品，因ITO膜材阻值限定，一般采用OGS (One Glass Solut1n，单层玻璃解决方案)的结构居多。OGS结构需搭桥制作，至少需开5道光罩(Mask)，产品开发制作成本高，同时因是大片工艺制作，产品强度偏低。
【发明内容】
[0003]本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种适合大尺寸产品的触摸屏中玻璃传感器的制造方法。本发明的另一个目的在于提出一种适合大尺寸产品的触摸屏中玻璃传感器。本发明的又一个目的在于提出一种触摸屏。
[0004]本发明第一方面实施例的一种触摸屏中玻璃传感器的制造方法，可以包括以下步骤:提供玻璃基板；通过热转印方式在所述玻璃基板之上形成纳米银透明导电薄膜层；在所述纳米银透明导电薄膜层之上形成银浆走线层；以及通过激光干刻方式刻蚀所述纳米银透明导电薄膜层以形成透明电极层。
[0005]上述实施例的触摸屏中玻璃传感器的制造方法，采用小片工艺制作，选用方块电阻较低的纳米银材料，因而可以满足大尺寸产品低方阻的要求，既能避免开Mask，降低工艺成本，又能提升产品强度。
[0006]本发明第二方面实施例的触摸屏中玻璃传感器，是通过如上述任一种方法制作形成的。
[0007]基于类似的理由，上述实施例的触摸屏中的玻璃传感器也具有导电层方阻低，适用于小片工艺制造，能够制成大尺寸产品等优点。
[0008]本发明第三方面实施例的用于触摸屏的玻璃传感器，可以包括:玻璃基板；形成在所述玻璃基板之上的透明电极层，其中，所述透明电极层由纳米银构成；以及形成在所述透明电极层之上的银浆走线层。
[0009]该实施例的用于触摸屏的玻璃传感器，由于透明电极层采用的是导电性良好、方块电阻较低的纳米银材料，因而可以满足大尺寸产品低方阻的要求，适用于大尺寸玻璃传感器产品。
[0010]本发明第四方面实施例的触摸屏，可以包括:玻璃基板；形成在所述玻璃基板之上的透明电极层，其中，所述透明电极层由纳米银构成；形成在所述透明电极层之上的银浆走线层；以及形成在所述银浆走线层之上的薄膜传感器，所述薄膜传感器之下具有光学透明胶层。
[0011]该实施例的触摸屏为GlF结构，由于透明电极层采用的是导电性良好、方块电阻较低的纳米银材料，因而可以满足大尺寸产品低方阻的要求，适用于大尺寸的触摸屏产品。
【附图说明】
[0012]图1是本发明实施例的触摸屏中玻璃传感器的制造方法的流程图。
[0013]图2是本发明实施例的触摸屏中玻璃传感器的结构示意图。
[0014]图3是本发明实施例的触摸屏的结构示意图。
【具体实施方式】
[0015]下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
[0016]本发明第一方面实施例的触摸屏中玻璃传感器的制造方法，如图1所示，可以包括以下步骤:
[0017]A.提供玻璃基板。
[0018]具体地，可以选用强化后的硅酸盐玻璃等材料作为玻璃基板。
[0019]B.通过热转印方式在玻璃基板之上形成纳米银透明导电薄膜层。
[0020]其中，纳米银透明导电薄膜层中的纳米银材料是一种导电性良好、方块电阻较低(最低可至SQ/口)的新材料。需要说明的是，在本发明其他实施例中，也可以通过涂布、丝印的方式在玻璃基板之上形成纳米银透明导电薄膜层。纳米银透明导电薄膜层应当透光率较高，雾度较低，以保证最终产品显示效果达标。
[0021 ] C.在纳米银透明导电薄膜层之上形成银浆走线层。
[0022]具体地，可以通过丝印银浆等方式在纳米银透明导电薄膜层之上的预定位置形成多条金属银走线，即形成银浆走线层。走线线宽优选0.5mm以上以免单条走线断路。此外，走线线距需要保证一定宽度以免相邻两条走线之间短路。
[0023]D.通过激光干刻方式刻蚀纳米银透明导电薄膜层以形成透明电极层。
[0024]由于纳米银材料自身具有分子扩散性，难以一次形成功能层图案，所以需要通过激光干刻以及黄光、耐酸油墨或蚀刻膏的工艺蚀刻图案形成功能层。在一个实施例中，最终形成的透明电极层可以为金属网格图案或其他合理图案。优选透明电极层的透光率大于80%，雾度小于2%，以保证显不效果达标。
[0025]上述实施例的触摸屏中玻璃传感器的制造方法，采用小片工艺制作，选用方块电阻较低的纳米银材料，因而可以满足大尺寸产品低方阻的要求，既能避免开Mask，降低工艺成本，又能提升产品强度。
[0026]在本发明的一个实施例中，在步骤B之前，还可以包括步骤:通过丝网印刷方式在玻璃基板之上形成装饰层。装饰层无特殊限定，可制作任意颜色。需要说明的是，形成装饰层为可选的而非必须的步骤。
[0027]在本发明的一个实施例中，在步骤D之后，还可以包括步骤:通过光学透明胶在银浆走线层之上粘合薄膜传感器。将玻璃传感器和薄膜传感器粘合在一起即可形成完整的GIF (glass one film,玻璃传感器加薄膜传感器)结构的触摸屏。
[0028]本发明第二方面实施例的触摸屏中的玻璃传感器，可以通过上述方法制得。基于类似的理由，该触摸屏中的玻璃传感器也具有导电层方阻低，适用于小片工艺制造，能够制成大尺寸产品等优点。
[0029]本发明第三方面实施例的用于触摸屏的玻璃传感器，如图2所示，可以包括:玻璃基板21、形成在玻璃基板21之上的透明电极层22，以及形成在透明电极层22之上的银浆走线层23。其中，透明电极层22由纳米银构成。可选地，该实施例的用于触摸屏的玻璃传感器还可以包括形成在玻璃基板21之上的装饰层24。装饰层24无特殊限定，可制作任意颜色。需要说明的是，装饰层24为可选的而非必须的部分。其中，优选透明电极层22的透光率大于80%，雾度小于2%’以保证显示效果达标。
[0030]该实施例的用于触摸屏的玻璃传感器，由于透明电极层22采用的是导电性良好、方块电阻较低(最低可至SQ/口)的纳米银材料，因而可以满足大尺寸产品低方阻的要求，适用于大尺寸玻璃传感器产品。
[0031]本发明第四方面实施例的触摸屏，如图3所示，可以包括:玻璃基板31、形成在玻璃基板31之上的透明电极层32、形成在透明电极层32之上的银浆走线层33，以及形成在银浆走线层33之上的薄膜传感器35。其中，透明电极层32由纳米银构成。薄膜传感器35之下具有光学透明胶层36。可选地，该实施例的触摸屏还可以包括形成在玻璃基板31之上的装饰层34。装饰层34无特殊限定，可制作任意颜色。需要说明的是，装饰层34为可选的而非必须的部分。其中，优选透明电极层32的透光率大于80%，雾度小于2%，以保证显示效果达标。
[0032]该实施例的触摸屏为GlF结构，由于透明电极层32采用的是导电性良好、方块电阻较低(最低可至SQ/口)的纳米银材料，因而可以满足大尺寸产品低方阻的