专利名称：一种触控显示屏及其制作方法
技术领域：
本发明涉及触控显示技术领域，尤其涉及一种触控显示屏及其制作方法。
背景技术：
电容式触摸面板由于具有多点触控、透过率高、使用寿命长等优点，日益取代传统电阻式触摸面板，在手机、播放器、电子书、上网本、个人数字助理、平板电脑上使用。
现有电容式触控面板通常具有以下几种结构:双基板双层触控电路层结构、单层基板双面触控电路层结构、单层基板单面双层触控电路层结构以及单层基板单面搭桥跳线结构。
双基板双层触控电路层结构的电容式触控面板包括第一基板、第二基板、设置于第一基板上的第一触控电路层以及设置于第二基板上的第二触控电路层。所述第一基板与第二基板通过封框胶贴合在一起形成所述电容式触控面板。该种结构的电容式触控面板采用两块基板，其厚度不能满足电子产品日益轻薄化的需求，且其透过率也较低，更重要的是，第一基板和第二基板上分别形成所述第一触控电路层和第二触控电路层后，尚需要将第一基板和第二基板贴合，且贴合前第一基板与第二基板还需要精确对位，因此，其制作工艺繁杂，成本较高，且良品率较低。
单层基板双面触控电路层结构的电容式触控面板包括一玻璃基板以及形成于玻璃基板两个相背表面的第一触控电路层和第二触控电路层。该种结构的电容式触控面板较双基板双层触控电路层结构的电容式触控面板而言，仅采用一片玻璃基板，其厚度较小，透过率较高。但由于需要先在玻璃基板的一侧表面形成第一触控电路层，在该玻璃基板的背面制作第二触控电路层时，需对先前制作完成的第一触控电路层进行保护，防止第一触控电路层被划伤。而且，在制作第二触控电路层时，也需要该玻璃基板进行精确定位，其制作工艺也较繁杂。
单层基板单面双层触控电路层结构的电容式触控面板与上述单层基板双面触控电路层结构的电容式触控面板相比，其第一触控电路层和第二触控电路层均形成于所述玻璃基板的一侧，且第一触控电路层与第二触控电路层之间采用绝缘层隔开。该单层基板单面双层触控电路层结构的电容式触控面板的制作工艺较上述单层基板双面触控电路层结构的电容式触控面板简单。
单层基板单面搭桥跳线结构的电容式触控面板通常包括玻璃基板以及形成于玻璃基板的同一侧表面上的多条第一方向感应电极串列和多条第二方向感应电极串列。该多条第一方向感应电极串列之间相互间隔平行排列，该多条第二方向感应电极串列之间相互间隔平行排列，且该多条第一方向感应电极串列分别与该多条第二方向感应电极串列相互交叉，并形成多个交叉点。该多条第一方向感应电极串列连续分布，第二方向感应电极串列被第一方向感应电极串列在所述交叉点处间隔为多段，且所述第一方向感应电极串列至少位于所述交叉点处的部分上设有绝缘块，其在所述绝缘块上设有一桥结构，该桥结构用于连接被所述第一方向感应电极串列隔断的同一第二方向感应电极串列上相邻两端，以实现所述第二方向感应电极串列的连续分布。该单层基板单层搭桥跳线结构的电容式触控面板与上述单层基板单面双层触控电路层结构的电容式触控面板相比，具有透过率高、制作工艺简单等优点。
然而，上述各种电容式触控面板的制作工艺均比较复杂，且所述电容式触控面板制作完成后，还需要通过一封框胶层与显示面板贴合，构成触控显示屏，其工艺复杂，各道工艺均造成部分次品，进而使电容式触控面板及触控显示屏的成品率较低。发明内容
有鉴于此，有必要提供一种制作工艺简单且透过率高的触控显示屏。
此外，还有必要提供一种上述触控显示屏的制作方法。
一种触控显示屏至少包括第一衬底、第二衬底、遮挡层、触控图案层，所述第一衬底和第二衬底相对设置，所述第一衬底至少包括相背设置的第一表面和第二表面，所述第一表面包括遮光区域和透光区域，所述透光区域包括多个间隔规格排列的透光单元，所述遮光区域围绕所述每一透光单元，所述遮挡层形成于所述第一表面和/或第二表面上，且其在所述第一表面上的投影完全覆盖所述遮光区域；所述触控图案层形成于所述第二衬底上，其在所述第一表面上的投影被所述遮挡层在第一表面上的投影所覆盖。
本发明提供的所述触控显示屏中，所述第二衬底包括相背设置的第三表面和第四表面，所述第三表面与所述第一表面正对；所述触控图案层形成于所述第二衬底的第三表面和/或第四表面上。
本发明提供的所述触控显示屏中，所述遮挡层的部分形成于所述第一表面的遮光区域，另一部分形成于所述第二表面上，其在第一表面上的投影覆盖所述遮光区域；或者所述遮挡层形成于所述第一表面的遮光区域；或者所述遮挡层形成于所述第二表面上，其在所述第一表面的投影覆盖所述遮光区域；所述第一衬底和第二衬底至少为玻璃基板、树脂基板、薄膜中的一种、或两种及两种以上的叠合体，所述第一表面、第二表面、第三表面、第四表面均为光滑的平面，且所述第一表面、第二表面、第三表面、第四表面之间相互平行。
本发明提供的所述触控显示屏中，所述遮挡层由透过率小于0.1%、反射率小于8%的材料经光刻蚀刻工艺、或转印工艺、抑或丝印工艺形成；触控图案层由具有良好导电性能的金属或金属合金经一次或多次镀膜、一次光刻工艺制成；所述触控图案层在所述第一表面上的投影覆盖住所述遮挡层在所述第一表面的投影的一部分，且若干位于相邻两透光单元之间的部分遮挡层上并未覆盖所述触控图案层；且所述透光单元的面积远远大于相邻两透光单元之间的部分遮挡层在所述第一表面上的投影面积。
本发明提供的所述触控显示屏中，所述触控图案层在垂直于所述第一表面方向上的厚度较所述遮挡层在垂直于所述第一表面方向上的厚度小。
本发明提供的所述触控显示屏中，所述触控基板还包括一彩色膜层，所述彩色膜层的一部分形成于所述第一表面的透光区域，另一部分形成于所述第二表面上且其在第一表面上的投影覆盖住若干透光单元；或者所述彩色膜层形成于所述第一表面的透光区域；或者所述彩色膜层形成于所述第二表面上，其在所述第一表面的投影覆盖所述透光区域；所述彩色膜层在垂直于所述第一表面方向上的厚度等于所述遮挡层在垂直于第一表面方向上的厚度。
一种触控显示屏的制作方法至少包括以下步骤:提供一至少具有相背设置的第一表面和第二表面的第一衬底，所述第一表面至少包括透光区域和遮光区域，所述透光区域包括多个间隔规则排列的透光单元，所述遮光区域环绕所述每一透光单元；在所述第一表面和/或第二表面上形成一遮挡层，且所述遮挡层在第一表面上的投影完全覆盖所述遮光区域；提供一与所述第一衬底相对设置的第二衬底，并在所述第二衬底上形成一触控图案层，其在第一表面的投影被所述遮挡层在第一表面的投影所覆盖。
本发明提供的所述触控显示屏制作方法中，所述第二衬底包括相背设置的第三表面和第四表面，所述第三表面与所述第一表面正对；所述触控图案层形成于所述第二衬底的第三表面和/或第四表面上；所述遮挡层的部分形成于所述第一表面的遮光区域，另一部分形成于所述第二表面上，其在第一表面上的投影覆盖所述遮光区域；或者所述遮挡层形成于所述第一表面的遮光区域；或者所述遮挡层形成于所述第二表面上，其在所述第一表面的投影覆盖所述遮光区域；所述第一衬底和第二衬底至少为玻璃基板、树脂基板、薄膜中的一种、或两种及两种以上的叠合体，所述第一表面、第二表面、第三表面、第四表面均为光滑的平面，且所述第一表面、第二表面、第三表面、第四表面之间相互平行。
本发明提供的所述触控显示屏制作方法中，所述遮挡层由透过率小于0.1%、反射率小于8 %的材料经光刻蚀刻工艺、或转印工艺、抑或丝印工艺形成；触控图案层由具有良好导电性能的金属或金属合金经一次或多次镀膜、一次光刻工艺制成；所述触控图案层在所述第一表面上的投影覆盖住所述遮挡层在所述第一表面的投影的一部分，且若干位于相邻两透光单元之间的部分遮挡层上并未覆盖所述触控图案层；且所述透光单元的面积远远大于相邻两透光单元之间的部分遮挡层在所述第一表面上的投影面积。
本发明提供的所述触控显示屏制作方法中，所述触控图案层在垂直于所述第一表面方向上的厚度较所述遮挡层在垂直于所述第一表面方向上的厚度小；所述触控基板还包括一彩色膜层，所述彩色膜层的一部分形成于所述第一表面的透光区域，另一部分形成于所述第二表面上且其在第一表面上的投影覆盖住若干透光单元；或者所述彩色膜层形成于所述第一表面的透光区域；或者所述彩色膜层形成于所述第二表面上，其在所述第一表面的投影覆盖所述透光区域；所述彩色膜层在垂直于所述第一表面方向上的厚度等于所述遮挡层在垂直于第一表面方向上的厚度。
本发明提供的所述触控显示屏及其制作方法中，通过将所述触控图案层设置于所述遮光区域上，进而使所述触控显示屏的透过率更高。进一步，所述触控图案层采用金属或金属合金材料经一次光刻工艺制成，可以有效简化所述触控图案层的制作工艺，节省成本，提闻良品率。
下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中:
图1为一较佳实施方式的触控显示屏的触控基板的局部截面示意图。
图2另一较佳实施方式的触控显示屏的触控基板的局部截面示意图。
图3为第三较佳实施方式的触控显示屏的触控基板的局部截面示意图。
图4为图1所示的触控显示屏的触控基板的制作方法流程示意图。
图5为图2所示的触控显示屏的触控基板的制作方法流程示意图。
图6为图3所示的触控显示屏的触控基板的制作方法流程示意图。
具体实施方式
为了说明本发明提供的触控显示屏及其制作方法，以下结合说明书附图对本发明进行详细阐述。
请参阅图1，其为本发明提供的一较佳实施方式的触控显示屏的触控基板的局部截面示意图。所述触控显示屏包括触控基板100、驱动基板(图中未示出)及功能显示层(图中未示出)，所述触控基板100与驱动基板相对间隔设置，所述功能显示层设置于所述触控基板100及驱动基板之间。在本实施方式中，所述触控显示屏为触控液晶显示屏，所述驱动基板为TFT阵列基板，所述功能显示层为液晶层。在其他实施方式中，所述驱动基板也可以为OLED驱动基板，所述功能显示层为OLED发光层。
所述触控基板100包括第一衬底110、第二衬底210以及形成于所述第一衬底110之上的遮挡层120和形成于所述第二衬底210上的触控图案层220。所述第一衬底110至少包括第一表面111和第二表面113，所述第一表面111与第二表面113平行且相背设置于所述第一衬底110的两侧，且所述第一表面111与第二表面113均为光滑的平面，在其他实施方式中，所述第一表面111和第二表面113还可以是两相互间隔平行的曲面等其他形状的表面。所述第二衬底210至少包括第三表面211和第四表面213，所述第三表面211和第四表面213平行且相背设置于所述第二衬底210的两侧，且第三表面211和第四表面213均为光滑的平面，在其他实施方式中，所述第三表面211和第四表面213还可以是与所述第一表面111、第二表面113相互平行的曲面等其他形状的表面。所述第一衬底110、第二衬底210至少为玻璃基板、树脂基板、薄膜等之中的一种，或两种及以上的叠合体。所述第一表面111包括透光区域Illa和遮光区域111b，所述透光区域Illa包括多个规则且间隔排列的透光单元lllaa，所述遮光区域Illb环绕每一所述透光单元lllaa。
所述遮挡层120形成于所述第一表面111上，并覆盖所述遮光区域111b。所述遮挡层120由透过率小于0.1 %、反射率小于8%的材料经光刻蚀刻工艺、或转印工艺、抑或丝印工艺形成于所述第一表面111的遮光区域Illb上，所述透光单元Illaa在所述第一表面111上的投影面积远远大于相邻透光单元Illaa之间的部分遮挡层120在所述第一表面111上的投影面积。
所述触控图案层220形成于所述第三表面211之上，且其在所述第一表面111上的投影被所述遮挡层120在所述第一表面111上的投影所述覆盖。所述触控图案层220在所述第一表面111上的投影仅覆盖所述遮挡层120在所述第一表面111上的投影的一部分，且若干透光单元Illaa之间的部分遮挡层120未覆盖有所述触控图案层220。所述触控图案层220由具有良好导电性能的金属或金属合金经一次或多次镀膜、一次光刻工艺制成。所述触控图案层220在垂直于所述第一表面111方向上的厚度较所述遮挡层120在垂直于所述第一表面111方向上的厚度小。
所述触控基板100还包括彩色膜层130和光学粘合层(图中未示出)，所述彩色膜层130形成于所述第一表面111上，并完全覆盖所述透光单元lllaa。所述彩色膜层130在垂直于所述第一表面111方向上的厚度等于所述遮挡层120在垂直于第一表面111方向上的厚度。所述光学粘合层用于粘合形成有所述触控图案层220的第二衬底210和形成有所述遮挡层120、彩色膜层130的第一衬底110。
请参阅图2，其为另一较佳实施方式的触控显示屏的触控基板100的局部截面示意图，其与图1所示的触控基板100相比，具有以下区别:
所述遮挡层120的一部分形成于所述第一表面111且覆盖所述遮光区域Illb的一部分，另一部分形成于所述第二表面113上，其在所述第一表面111上的投影覆盖所述遮光区域Illb的另一部分。所述触控图案层220形成于所述第四表面213上，且其在第一表面111上的投影被所述遮挡层120在所述第一表面111上的投影所覆盖。所述彩色膜层130形成于所述第一表面111上，并覆盖所述第一表面111的透光区域Illa上。
请参阅图3，其为第三较佳实施方式的触控显示屏的触控基板100的局部截面示意图，其与图1所示的触控基板100相比，具有以下区别:
所述遮挡层120形成于所述第一衬底110的第二表面113上，所述彩色膜层130形成于所述第一衬底110的第一表面111上，所述遮挡层120在所述第一表面111上的投影完全覆盖所述第一表面111的遮光区域111b，所述彩色膜层130完全覆盖所述第一表面111的透光区域111a。所述触控图案层220形成于所述第二衬底210的第三表面211上，且所述触控图案层220在第一表面111上的投影覆盖住所述第一表面111的遮光区域Illb的一部分。
上述各种触控基板100中，通过将所述触控图案层220设置于所述遮光区域Illb上，且所述触控图案层220并不会覆盖所述透光区域111a，进而可有效提高所述触控显示屏的透过率。另外，所述触控图案层220采用具有良好导电材料的金属或金属合金材料在经一次光刻工艺制成，可有效简化触控显示屏的制作工艺，提高良品率，降低生产成本。
请参阅图4，其为图1所示的触控显示屏的触控基板的制作方法流程示意图。所述触控显示屏的触控基板的制作方法包括如下步骤:
步骤S201:提供一至少具有相背设置的第一表面和第二表面的第一衬底，所述第一表面至少包括透光区域和遮光区域，所述透光区域包括多个间隔规则排列的透光单元，所述遮光区域环绕所述每一透光单元。
步骤S203:在所述第一表面上形成一遮挡层，且所述遮挡层完全覆盖住所述第一表面的遮光区域。
步骤S205:提供一至少具有相背设置的第三表面和第四表面且与所述第一衬底相对设置的第二衬底，并在所述第二衬底的第三表面上形成一触控图案层，所述触控图案层在所述第一表面上的投影覆盖住所述遮挡层的一部分。
步骤S207:在所述第一表面的透光区域上形成所述彩色膜层，所述彩色膜层完全覆盖住所述透光区域。
请参阅图5，其为图2所示的触控显示屏的触控基板的制作方法流程示意图。所述触控显示屏的触控基板的制作方法包括如下步骤:
步骤S301:提供一至少具有相背设置的第一表面和第二表面的第一衬底，所述第一表面至少包括透光区域和遮光区域，所述透光区域包括多个间隔规则排列的透光单元，所述遮光区域环绕所述每一透光单元。
步骤S303:在所述第一表面上形成所述遮挡层的一部分，在所述第二表面形成所述遮挡层的另一部分，且形成于第一表面和第二表面的遮挡层在所述第一表面的投影完全覆盖所述遮光区域，且并不覆盖所述透光区域。
步骤S305:提供一至少具有相背设置的第三表面和第四表面且与所述第一衬底相对设置的第二衬底，并在所述第四表面上形成所述触控图案层，且所述触控图案层在第一表面上的投影被遮挡层在所述第一表面上的投影所覆盖。
步骤S307:在所述第一表面的透光区域上形成所述彩色膜层，所述彩色膜层完全覆盖住所述透光区域。
请参阅图6，其为图3所示的触控显示屏的触控基板的制作方法流程示意图。所述触控显示屏的触控基板的制作方法包括以下步骤:
步骤S401:提供一至少具有相背设置的第一表面和第二表面的第一衬底，所述第一表面至少包括透光区域和遮光区域，所述透光区域包括多个间隔规则排列的透光单元，所述遮光区域环绕所述每一透光单元。
步骤S403:在所述第二表面上形成一遮挡层，且所述遮挡层在所述第一表面上的投影完全覆盖住所述第一表面的遮光区域。
步骤S405:提供一至少具有相背设置的第三表面和第四表面且与所述第一衬底相对设置的第二衬底，并在所述第二衬底的第三表面上形成一触控图案层，所述触控图案层在所述第一表面上的投影覆盖住所述遮挡层的一部分。
步骤S407:在所述第一表面的透光区域上形成所述彩色膜层，所述彩色膜层完全覆盖住所述透光区域。
以上为本发明提供的触控显示屏及其制作方法的较佳实施方式，并不能理解为对本发明权利保护范围的限制，本领域的技术人员应该知晓，在不脱离本发明构思的前提下，还可做多种改进或替换，所有的该等改进或替换都应该在本发明的权利保护范围内，即本发明的权利保护范围应以权利要求为准。
权利要求
1.一种触控显示屏，至少包括第一衬底、第二衬底、遮挡层、触控图案层，所述第一衬底和第二衬底相对设置，所述第一衬底至少包括相背设置的第一表面和第二表面，所述第一表面包括遮光区域和透光区域，所述透光区域包括多个间隔规格排列的透光单元，所述遮光区域围绕所述每一透光单元，所述遮挡层形成于所述第一表面和/或第二表面上，且其在所述第一表面上的投影完全覆盖所述遮光区域；所述触控图案层形成于所述第二衬底上，其在所述第一表面上的投影被所述遮挡层在第一表面上的投影所覆盖。
2.如权利要求1所述的触控显示屏，其特征在于:所述第二衬底包括相背设置的第三表面和第四表面，所述第三表面与所述第一表面正对；所述触控图案层形成于所述第二衬底的第三表面和/或第 四表面上。
3.如权利要求2所述的触控显示屏，其特征在于:所述遮挡层的部分形成于所述第一表面的遮光区域，另一部分形成于所述第二表面上，其在第一表面上的投影覆盖所述遮光区域；或者所述遮挡层形成于所述第一表面的遮光区域；或者所述遮挡层形成于所述第二表面上，其在所述第一表面的投影覆盖所述遮光区域；所述第一衬底和第二衬底至少为玻璃基板、树脂基板、薄膜中的一种、或两种及两种以上的叠合体，所述第一表面、第二表面、第三表面、第四表面均为光滑的平面，且所述第一表面、第二表面、第三表面、第四表面之间相互平行。
4.如权利要求3所述的触控显示屏，其特征在于:所述遮挡层由透过率小于0.1%、反射率小于8%的材料经光刻蚀刻工艺、或转印工艺、抑或丝印工艺形成；触控图案层由具有良好导电性能的金属或金属合金经一次或多次镀膜、一次光刻工艺制成；所述触控图案层在所述第一表面上的投影覆盖住所述遮挡层在所述第一表面的投影的一部分，且若干位于相邻两透光单元之间的部分遮挡层上并未覆盖所述触控图案层；且所述透光单元的面积远远大于相邻两透光单元之间的部分遮挡层在所述第一表面上的投影面积。
5.如权利要求4所述的触控显示屏，其特征在于:所述触控图案层在垂直于所述第一表面方向上的厚度较所述遮挡层在垂直于所述第一表面方向上的厚度小。
6.如权利要求5所述的触控显示屏，其特征在于:所述触控基板还包括一彩色膜层，所述彩色膜层的一部分形成于所述第一表面的透光区域，另一部分形成于所述第二表面上且其在第一表面上的投影覆盖住若干透光单元；或者所述彩色膜层形成于所述第一表面的透光区域；或者所述彩色膜层形成于所述第二表面上，其在所述第一表面的投影覆盖所述透光区域；所述彩色膜层在垂直于所述第一表面方向上的厚度等于所述遮挡层在垂直于第一表面方向上的厚度。
7.—种触控显示屏的制作方法，至少包括以下步骤: 提供一至少具有相背设置的第一表面和第二表面的第一衬底，所述第一表面至少包括透光区域和遮光区域，所述透光区域包括多个间隔规则排列的透光单元，所述遮光区域环绕所述每一透光单元； 在所述第一表面和/或第二表面上形成一遮挡层，且所述遮挡层在第一表面上的投影完全覆盖所述遮光区域； 提供一与所述第一衬底相对设置的第二衬底，并在所述第二衬底上形成一触控图案层，其在第一表面的投影被所述遮挡层在第一表面的投影所覆盖。
8.如权利要求7所述的触控显示屏制作方法，其特征在于:所述第二衬底包括相背设置的第三表面和第四表面，所述第三表面与所述第一表面正对；所述触控图案层形成于所述第二衬底的第三表面和/或第四表面上；所述遮挡层的部分形成于所述第一表面的遮光区域，另一部分形成于所述第二表面上，其在第一表面上的投影覆盖所述遮光区域；或者所述遮挡层形成于所述第一表面的遮光区域；或者所述遮挡层形成于所述第二表面上，其在所述第一表面的投影覆盖所述遮光区域；所述第一衬底和第二衬底至少为玻璃基板、树脂基板、薄膜中的一种、或两种及两种以上的叠合体，所述第一表面、第二表面、第三表面、第四表面均为光滑的平面，且所述第一表面、第二表面、第三表面、第四表面之间相互平行。
9.如权利要求8所述的触控显示屏制作方法，其特征在于:所述遮挡层由透过率小于0.1%、反射率小于8%的材料经光刻蚀刻工艺、或转印工艺、抑或丝印工艺形成；触控图案层由具有良好导电性能的金属或金属合金经一次或多次镀膜、一次光刻工艺制成；所述触控图案层在所述第一表面上的投影覆盖住所述遮挡层在所述第一表面的投影的一部分，且若干位于相邻两透光单元之间的部分遮挡层上并未覆盖所述触控图案层；且所述透光单元的面积远远大于相邻两透光单元之间的部分遮挡层在所述第一表面上的投影面积。
10.如权利要求9所述的触控显示屏制作方法，其特征在于:所述触控图案层在垂直于所述第一表面方向上的厚度较所述遮挡层在垂直于所述第一表面方向上的厚度小；所述触控基板还包括一彩色膜层，所述彩色膜层的一部分形成于所述第一表面的透光区域，另一部分形成于所述第二表面上且其在第一表面上的投影覆盖住若干透光单元；或者所述彩色膜层形成于所述第一表面的透光区域；或者所述彩色膜层形成于所述第二表面上，其在所述第一表面的投影覆盖所述透光区域；所述彩色膜层在垂直于所述第一表面方向上的厚度等于所述遮挡层在垂直于 第一表面方向上的厚度。
全文摘要
本发明涉及平板显示技术领域，尤其涉及一种触控显示屏及其制作方法。该触控显示屏至少包括第一衬底、第二衬底、遮挡层、触控图案层，所述第一衬底和第二衬底相对设置，所述第一衬底至少包括相背设置的第一表面和第二表面，所述第一表面包括遮光区域和透光区域，所述透光区域包括多个间隔规格排列的透光单元，所述遮光区域围绕所述每一透光单元，所述遮挡层形成于所述第一表面和/或第二表面上，且其在所述第一表面上的投影完全覆盖所述遮光区域；所述触控图案层形成于所述第二衬底上，其在所述第一表面上的投影被所述遮挡层在第一表面上的投影所覆盖。此外，还提供一种所述触控显示屏的制作方法。
文档编号G06F3/044GK103150071SQ201310073209
公开日2013年6月12日 申请日期2013年3月7日 优先权日2013年3月7日
发明者王士敏, 朱泽力, 钟荣苹, 商陆平, 李绍宗 申请人:深圳莱宝高科技股份有限公司