1.一种经配置以确定将对样品执行的计量过程的一或多个参数的系统，其包括：
测量子系统，其至少包括能量源及检测器，其中所述能量源经配置以产生被引导到样品的能量，且其中所述检测器经配置以检测来自所述样品的能量且响应于所述所检测能量而产生输出；及
一或多个计算机子系统，其经配置以用于：
基于针对所述样品的设计而自动产生将在对所述样品执行的计量过程期间利用所述测量子系统测量的所关注区域；及
分别基于针对所述样品的所述设计的位于所述所关注区域的第一子集及第二子集中的部分而自动确定在所述计量过程期间利用所述测量子系统在所述所关注区域的所述第一子集及所述第二子集中执行的一或多个测量的一或多个参数，其中在所述第一子集中执行的所述一或多个测量的所述一或多个参数是单独地且独立于在所述第二子集中执行的所述一或多个测量的所述一或多个参数而确定。
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述自动产生及所述自动确定是在所述计量过程的设置期间执行。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述自动产生及所述自动确定是在所述计量过程的运行时间期间实时执行。
4.根据权利要求1所述的系统，其中所述自动产生包括在所述计量过程的设置期间执行对所述设计的基于规则的搜索。
5.根据权利要求1所述的系统，其中用于所述自动产生及所述自动确定的针对所述样品的所述设计不包含所述设计的将不印刷于所述样品上的特征。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统包括电子设计自动化工具的计算机子系统。
7.根据权利要求1所述的系统，其中针对所述所关注区域的所述第一子集自动确定的所述一或多个参数导致在所述所关注区域的所述第一子集中执行第一类型的所述一或多个测量，其中针对所述所关注区域的所述第二子集自动确定的所述一或多个参数导致在所述所关注区域的所述第二子集中执行第二类型的所述一或多个测量，且其中所述第一类型的所述一或多个测量与所述第二类型的所述一或多个测量彼此不同。
8.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于通过对准所述检测器的所述输出与针对所述样品的所述设计而确定在所述计量过程期间所述所关注区域的所述第一子集及所述第二子集在所述样品上的位置。
9.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个测量的所述一或多个参数包括跨越其执行所述一或多个测量的一或多个尺寸的边界。
10.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个测量包括自动确定在对形成于所述样品上的一或多个结构的一或多个边缘的所述一或多个测量期间由所述检测器产生的所述输出中的位置。
11.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于基于所述一或多个测量的结果而自动产生所述所关注区域的所述第一子集及所述第二子集中的一者的一或多个属性。
12.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于基于所述一或多个测量的结果而自动产生所述第一子集及所述第二子集中的一者中的所述所关注区域的多个实例的一或多个属性，且将所述多个实例中的两者或多于两者的所述一或多个属性中的至少一者进行比较以识别所述多个实例中的所述两者或多于两者中的离群值。
13.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于自动选择所述设计中的一或多个对准位点，且其中所述计量过程包括：确定在所述计量过程期间所述一或多个对准位点中的至少一者在所述样品上的一或多个位置，且基于所述至少一个对准位点在所述样品上的所述一或多个位置而确定所述第一子集及所述第二子集中的所述所关注区域中的一或多者在所述样品上的一或多个位置。
14.根据权利要求1所述的系统，其中所述计量过程包括仅基于在所述第一子集及所述第二子集中的所述所关注区域中的一者中执行的所述一或多个测量而确定在所述一个所关注区域中是否存在缺陷。
15.根据权利要求1所述的系统，其中所述自动产生包括基于所述设计及对所述样品执行的检验过程的结果而自动产生将在所述计量过程期间测量的所述所关注区域。
16.根据权利要求1所述的系统，其中在所述所关注区域的所述第一子集及所述第二子集中的一者中执行的所述一或多个测量包括所述所关注区域中的一者相对于所述所关注区域中的其它者的临界尺寸测量的临界尺寸测量。
17.根据权利要求1所述的系统，其中在所述所关注区域的所述第一子集及所述第二子集中的一者中执行的所述一或多个测量包括所述所关注区域中的一者相对于所述所关注区域中的其它者的叠对测量的叠对测量。
18.根据权利要求1所述的系统，其中所述样品包括过程窗鉴定晶片，且其中所述自动产生包括基于所述设计及对所述样品执行的检验过程的结果而自动产生将在所述计量过程期间测量的所述所关注区域。
19.根据权利要求1所述的系统，其中在对所述样品执行的制作过程的线内监测期间对所述样品执行所述计量过程。
20.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于将在所述所关注区域的所述第一子集及所述第二子集中的一者中执行的所述一或多个测量与所述所关注区域的所述第一子集及所述第二子集中的所述一者的设计意图进行比较，且基于所述比较的结果而修改光学接近校正模型。
21.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于基于所述一或多个测量而检测所述所关注区域的所述第一子集及所述第二子集中的一者中的缺陷且报告所述一或多个测量作为所述所检测缺陷的缺陷属性。
22.根据权利要求1所述的系统，其中所述样品包括晶片。
23.根据权利要求1所述的系统，其中所述样品包括光罩。
24.根据权利要求1所述的系统，其中被引导到所述样品的所述能量包括光，且其中从所述样品检测的所述能量包括光。
25.根据权利要求1所述的系统，其中被引导到所述样品的所述能量包括电子，且其中从所述样品检测的所述能量包括电子。
26.根据权利要求1所述的系统，其中被引导到所述样品的所述能量包括离子。
27.一种非暂时性计算机可读媒体，其存储可在计算机系统上执行以用于执行用于确定将对样品执行的计量过程的一或多个参数的计算机实施的方法的程序指令，其中所述计算机实施的方法包括：
基于针对样品的设计而自动产生将在对所述样品执行的计量过程期间利用测量子系统测量的所关注区域，其中所述测量子系统至少包括能量源及检测器，其中所述能量源经配置以产生被引导到所述样品的能量，且其中所述检测器经配置以检测来自所述样品的能量且响应于所述所检测能量而产生输出；及
分别基于针对所述样品的所述设计的位于所述所关注区域的第一子集及第二子集中的部分而自动确定在所述计量过程期间利用所述测量子系统在所述所关注区域的所述第一子集及所述第二子集中执行的一或多个测量的一或多个参数，其中在所述第一子集中执行的所述一或多个测量的所述一或多个参数是单独地且独立于在所述第二子集中执行的所述一或多个测量的所述一或多个参数而确定。
28.一种用于确定将对样品执行的计量过程的一或多个参数的计算机实施的方法，其包括：
基于针对样品的设计而自动产生将在对所述样品执行的计量过程期间利用测量子系统测量的所关注区域，其中所述测量子系统至少包括能量源及检测器，其中所述能量源经配置以产生被引导到所述样品的能量，且其中所述检测器经配置以检测来自所述样品的能量且响应于所述所检测能量而产生输出；及
分别基于针对所述样品的所述设计的位于所述所关注区域的第一子集及第二子集中的部分而自动确定在所述计量过程期间利用所述测量子系统在所述所关注区域的所述第一子集及所述第二子集中执行的一或多个测量的一或多个参数，其中在所述第一子集中执行的所述一或多个测量的所述一或多个参数是单独地且独立于在所述第二子集中执行的所述一或多个测量的所述一或多个参数而确定，且其中所述自动产生及所述自动确定是由一或多个计算机系统执行。