1.一种双面消影的触摸屏导电玻璃的加工方法，所述双面消影的触摸屏导电玻璃是由上玻璃基板(1)、锡面(2)、空气面(3)、上透明层一(4)、上透明钝化层(5)、上透明层二(6)、上干涉层(7)、下玻璃基板(8)、下干涉层(9)、下透明钝化层(10)、下透明层(11)、ITO膜(12)构成；其特征在于：上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)的两个表面均为锡面(2)和空气面(3)，上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)的空气面(3)对应贴合，上玻璃基板(1)上表面的锡面(2)上方设置上透明层一(4)，上透明层一(4)与上透明层二(6)之间设置上透明钝化层(5)，上透明层二(6)上方设置上干涉层(7)，上干涉层(7)上方设置ITO膜(12)，下玻璃基板(8)下表面的锡面(2)下方设置下干涉层(9)，下干涉层(9)与下透明层(11)之间设置下透明钝化层(10)，下透明层(11)下方设置ITO膜(12)；
所述上透明钝化层(5)和下透明钝化层(10)均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；
所述上干涉层(7)和下干涉层(9)均采用五氧化二铌。
2.一种双面消影的触摸屏导电玻璃的加工方法，其特征在于：
第一步，对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)进行处理，
A、对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)进行切割，先X切割，再Y切割，然后再掰片处理；
B、对切割后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)进行磨边和倒角，先X磨边，再倒角，旋转90°再对Y磨边及倒角；
C、刷洗吹干；
D、对磨边和倒角后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)进行抛光；
E、再刷洗吹干；
第二步，对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)溅射上透明层一(4)、上透明钝化层(5)、上透明层二(6)、下干涉层(9)、下透明钝化层(10)；
A、对抛光刷洗吹干后上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)沿空气面(3)粘合在一起进行加热；采用的加热温度为150-280摄氏度；
B、利用磁控溅射真空镀膜设备对加热后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)的锡面(2)上同时溅射上透明层一(4)和下干涉层(9)，下干涉层(9)采用五氧化二铌，上透明层一(4)上方和下干涉层(9)的下方同时溅射上透明钝化层(5)和下透明钝化层(10)，上透明钝化层(5)和下透明钝化层(10)均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅，上透明钝化层(5)上方溅射上透明层二(6)；
第三步，在上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)第二步溅射的基础上，进行上干涉层(7)、下透明层(11)和ITO膜(12)溅射；
A、对第二步溅射后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)进行加热；加热温度采用280-380摄氏度；
B、利用磁控溅射真空镀膜设备，对加热后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)溅射，在上玻璃基板(1)的上透明层二(6)上方和下玻璃基板(8)的下透明钝化层(10)下方，同时进行上干涉层(7)和下透明层(11)溅射，上干涉层(7)采用五氧化二铌，上干涉层(7)的上方和下透明层(11)的下方同步溅射ITO膜(12)；
C、对溅射ITO膜(12)后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)，经缓冲室做退火处理：先降温至200摄氏度，再加温至300摄氏度稳定，完成对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(8)的镀膜。