电容屏结构的制作方法

本实用新型涉及电容屏技术领域，特别是涉及一种电容屏结构。

背景技术：

目前，Sensor是电容屏的重要组成部分，一般来说，例如针对ONCELL类型的电容屏，玻璃上表面的线路是蚀刻上去的，因此可能存在线宽线距不一样的情况。根据电容公式C＝εS/d(平行板正对面积s，介质的介电系数ε，d平行板间的距离)，可见，线宽线距是影响电容大小的根本原因之一。

目前行业检验流程为光玻璃线路蚀刻，切割小片，光玻璃功能假压FPC测试容值。此时测试NG(Not Good，不良)的产品掺杂着开路短路真正的异常品，也有容值超限的产品同样按照报废处理，如此造成了物料的浪费。而且测试OK的产品中容值差异也是参差不齐，离散性较大，导致软件调试兼容性差，这样整机消费者的体验效果也有较大差异：容值高的手机较灵敏，小的不灵敏等。

技术实现要素：

基于此，有必要针对如何高效地区分产品的容值，提高产品的容值一致性的技术问题，提供一种电容屏结构。

一种电容屏结构，该电容屏结构包括电容屏功能层、玻璃基板以及容值测试图案组，所述电容屏功能层印设于所述玻璃基板的表面，所述容值测试图案组印设于所述玻璃基板表面的空白区域；所述容值测试图案组包括若干条ITO图案，所述若干条ITO图案排列分布于所述空白区域，所述容值测试图案组中的各条ITO图案的宽度相异。

在其中一个实施例中，所述容值测试图案组中的每一条ITO图案的宽度依次递增。

在其中一个实施例中，所述空白区域邻近所述电容屏功能层，所述若干条ITO图案呈一排分布于所述空白区域。

在其中一个实施例中，呈一排分布的所述容值测试图案组中的每一条ITO图案的宽度依次递增。

在其中一个实施例中，)所述空白区域邻近所述电容屏功能层，所述若干条ITO图案呈一列分布于所述空白区域。

在其中一个实施例中，所述容值测试图案组中的每一条ITO图案的宽度朝着远离所述电容屏功能层的方向依次递增。

在其中一个实施例中，所述ITO图案的数量为3～7条。

在其中一个实施例中，所述ITO图案的数量为5条，5条所述ITO图案的宽度依次为6微米、8微米、10微米、12微米以及14微米。

在其中一个实施例中，所述ITO图案为矩形。

在其中一个实施例中，所述若干条ITO图案等间距分布于所述空白区域。

上述电容屏结构，通过在玻璃基板的空白区域设置容值测试图案组，容值测试图案组不影响电容屏的正常触控功能，同时，在时刻电容屏功能层的过程中，容值测试图案组同样也被蚀刻，由于在蚀刻过程中往往会出现过蚀刻的情况，但是产品不同位置过蚀刻量差异不大，而容值测试图案组中的各条ITO图案的宽度相异，因此可以利用显微镜或摄像头测量计算剩余ITO图案的数量便知道电容屏功能层的ITO过蚀刻情况，从而达到区分不同容值的电容屏玻璃的目的，这样可以分配给不同项目或调试不同软件，例如容值小的产品通过软件补偿提升其灵敏度，从而达到产品的容值一致性的效果。

附图说明

图1为一个实施例中电容屏结构的结构示意图；

图2为图1所示实施例电容屏结构的另一视角的结构示意图；

图3为一个实施例中容值测试图案组的分布结构示意图；

图4为一个实施例中ITO图案的过蚀刻的状态结构示意图；

图5为在过蚀刻情况不同的实施例中容值测试图案组的剩余ITO的数量示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

请一并参阅图1和图2，其分别为一个实施例中电容屏结构10的结构示意图和另一视角的结构示意图。

如图1所示，例如，该电容屏结构10包括电容屏功能层110、玻璃基板120以及容值测试图案组130，电容屏功能层110印设于玻璃基板120的表面，容值测试图案组130印设于玻璃基板120表面的空白区域121。

如图2所示，例如，容值测试图案组130包括若干条ITO图案131。例如，若干条ITO图案131排列分布于空白区域121，容值测试图案组130中的各条ITO图案的宽度相异。

上述电容屏结构，通过在玻璃基板120的空白区域121设置容值测试图案组130，容值测试图案组130不影响电容屏的正常触控功能，同时，在时刻电容屏功能层110的过程中，容值测试图案组130同样也被蚀刻，由于在蚀刻过程中往往会出现过蚀刻的情况，但是产品不同位置过蚀刻量差异不大，而容值测试图案组130中的各条ITO图案131的宽度相异，因此可以利用显微镜或摄像头测量计算剩余ITO图案131的数量便知道电容屏功能层110的ITO过蚀刻情况，从而达到区分不同容值的电容屏玻璃的目的，这样可以分配给不同项目或调试不同软件，例如容值小的产品通过软件补偿提升其灵敏度，从而达到产品的容值一致性的效果。

在其中一个实施例中，ITO图案131为矩形。在其中一个实施例中，若干条ITO图案131等间距分布于空白区域121。本实施例中，电容屏功能层110以及容值测试图案组130印设于玻璃基板120表面可采用印刷的方式。

为了使容值测试图案组130中剩余的ITO图案131的条数具有规律性，例如，容值测试图案组130中的每一条ITO图案131的宽度依次递增，这样，由于在同一小片产品中的不同位置的过蚀刻量的差异不大，当人为地将容值测试图案组130中的每一条ITO图案131的宽度设置为依次递增的情况时，宽度较小的ITO图案131的剩余面积与宽度较大的ITO图案131的剩余面积之间具有较大的差异，使得在一组蚀刻过程过后，剩余的ITO图案131的条数具有显著的规律性，即剩余的ITO图案131的条数的宽度也是依次递增的，这样可以方便用户区分其过蚀刻量，从而对应找出该产品的容值区间。

为降低过蚀刻量的差异对容值测试图案组130的蚀刻的影响程度，例如，空白区域121邻近电容屏功能层110，若干条ITO图案131呈一排分布于空白区域121。在其中一个实施例中，呈一排分布的容值测试图案组130中的每一条ITO图案131的宽度依次递增。又如，空白区域121邻近电容屏功能层110，若干条ITO图案131呈一列分布于空白区域121。例如，容值测试图案组130与电容屏功能层110位于同一层。这样，虽然同一小片产品中的不同位置的过蚀刻量的差异不大，但是，将容值测试图案组130设置于邻近电容屏功能层110，可以尽可能地减少不同位置的过蚀刻量的差异对容值测试图案组130的影响，提高测试的可靠性。

为便于用户通过显微镜观察容值测试图案组130中剩余的ITO图案131的条数，例如，容值测试图案组130中的每一条ITO图案131的宽度朝着远离电容屏功能层110的方向依次递增，这样，用户可简单通过利用显微镜或摄像头测量计算剩余ITO数量便知道ITO过蚀刻情况，达到区分不同容值的玻璃，可以分配给不同项目或调试不同软件例如容值小的产品通过软件补偿提升其灵敏度，从而达到产品一致性效果。

如图3所示，在玻璃正常的电容图案外的空白处，例如可在电容屏的绑定区域的左右两侧加入容值测试图案组130。在其中一个实施例中，ITO图案131的数量为3～7条。本实施例中，ITO图案131的数量为5条，5条ITO图案131的宽度依次为6微米、8微米、10微米、12微米以及14微米。

如图4所示，当ITO过蚀刻，导致线宽减小：设计线宽为14um，当蚀刻过量为3um时，那么剩余线宽为14-3*2＝8um，当过蚀刻为≥7um时，剩余线宽为14-7*2＝0，此条线就不存在了。另从经验看同1小片产品不同位置过蚀刻量差异不大；有用的ITO图案一般线宽远远大于60um；过蚀刻不会把有用的线蚀刻掉。

结合图4和图5可知，当ITO过蚀刻，导致线宽减小，传统的ITO的制程能力一般为线宽5um，因此，由上述各个实施例原理可得，经过蚀刻后，本实施例中，容值测试图案组130有如下结果：

1，当过蚀刻为0～3um时，最细小的那根6um的线还存在，此时ITO图案个数仍为5个。

2，当过蚀刻为3～4um时，6um的线被蚀刻掉，8um线还存在，此时ITO图案个数为4个。

3，当过蚀刻为4～5um时，6、8um的线被蚀刻掉，10um线还存在，此时ITO图案个数为3个。

4，当过蚀刻为5～6um时，6、8、10um的线被蚀刻掉，12um线还存在，此时ITO图案个数为2个。

5，当过蚀刻为6～7um时，那根6、8、10、12um的线被蚀刻掉，14um线还存在，此时ITO图案个数为1个。

6，当过蚀刻为7um以上时，所以线被蚀刻掉，此时ITO图案个数为0个。

如此可知，当ITO过蚀刻情况不同，剩余ITO数量不同，故可简单利用显微镜或摄像头测量计算剩余ITO数量便知道ITO过蚀刻情况，达到区分不同容值的玻璃，可以分配给不同项目或调试不同软件，例如，容值小的产品通过软件补偿提升其灵敏度，达到产品一致性效果。

操作简化为图表1所示：蚀刻量越大，线距越大，实际有效面积约小，根据公式C＝εS/d，针对同一套软件实际ITO的容值就越小；假设软件补偿值可0,1,2,3,4,5，其值越大补偿越多。通过如下表可达到产品容值一致性，触控灵敏度效果一致性。

表1

本实用新型的优点在于：通过在玻璃基板的空白区域设置容值测试图案组，容值测试图案组不影响电容屏的正常触控功能，同时，在时刻电容屏功能层的过程中，容值测试图案组同样也被蚀刻，由于在蚀刻过程中往往会出现过蚀刻的情况，但是产品不同位置过蚀刻量差异不大，而容值测试图案组中的各条ITO图案的宽度相异，因此可以利用显微镜或摄像头测量计算剩余ITO图案的数量便知道电容屏功能层的ITO过蚀刻情况，从而达到区分不同容值的电容屏玻璃的目的，如此可区分容值的ITO图案设计方案能有效地区分产品容值，降低资材浪费，提高产品容值一致性，客户体验性有重要的意义。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。