专利名称：只写一次型光学信息记录媒体的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种信息存储领域信息记录载体中的记录媒体，特别是涉及一种以无机材料作为记录层，可利用各种波长的激光进行信息的记录/再生，且制作方式简单，并具有低环境污染性、高耐旋光性及高耐候性等优点的只写一次型光学信息记录媒体(WRITE ONCE RECORDING MEDIUM)。
背景技术：
随着网际网络的发达及计算机能力的提升，所能获得的信息种类也越来越多样化，计算机处理资料的速度，从最初只能处理数字的状态慢慢的扩大到能处理文字、图表、声音、静止画面，到目前高画质的动画。而储存这些资料的记录媒体，也从初期的纸带进展到磁带、硬盘，到至今所开发出来的光盘(Compact Disc，CD)、数字多功能光盘(Digital Versatile Disc，DVD)系列等的光学信息记录媒体。
光学信息记录媒体，由于具有较磁带及半导体内存有着更高的记录密度、体积小、储存期限长、成本低廉、兼容性高以及错误率低等优点，使得其市场呈现急剧的成长。在各种类型的光学信息记录媒体中，应用最为广泛的即是所谓只写一次型光学信息记录媒体(Write Once RecordingMedium，WORM)，例如只写一次型光盘片(Compact Disc-Recordable，CD-R)与只写一次型数字多功能光盘(Digital Versatile DiscRecordable，DVD-R)等。此种只写一次型光学信息记录媒体是以有机光学染料作为记录层，并藉由聚焦的激光光源照射使有机光学染料结构反应并造成基板形变，达到记录资料的效果。
然而，此种以有机染料为记录层的只写一次型光学信息记录媒体，所使用的有机染料本身具有价格昂贵、配方开发不易、溶液系统复杂、对激光光波长敏感、对于气候(温度、湿度)的容忍度小、使用年限不长与对环境造成污染等缺点。再加上对于下一代的以短波长(405nm)蓝光激光进行记录/再生的蓝光光学信息记录媒体而言，其可应用的有机染料种类更少，且这些有机染料对有机溶剂的溶解性更差，而难以使用旋转涂布(Spincoating)方式，将其涂布在盘片基板上。而且，由于蓝光光学信息记录媒体的盘片结构大幅改变，盘片基板上的轨距(track pitch，约0.34-0.3um)缩小，因有机染料溶液的内张力，使得有机染料无法均匀的涂布于盘片基板上，只能利用蒸镀方式来达成，因此造成生产上的困难。
因此，目前业界已提出使用无机材料取代有机染料而作为只写一次型光学信息记录媒体记录层的相关提案。而且，只写一次光学信息记录媒体的无机材料记录层，会因为不同的写入机制而有不同的材料系统。举例来说，美国专利US5401609号案揭露以气体膨胀的方式形成记录，所使用的材料为AgOx、FeNx、CuNx、SnNx。美国专利US4624914号案揭露利用金属氧化物与金属的混合物造成结构的变化形成记录点，所使用的材料为pd-TeOx、Ni-NiOx。美国专利US4477819号案与US5458941号案揭露利用界面反应形成记录点，所使用的材料为Ge/Al、Si/Al、Al-Cr/Si-Al、GaSb/Ag。美国专利US4960680号案揭露利用不可逆相变化形成记录点，所使用的材料为Sb-In-Sn、Sn-Sb-Se/Sb-Bi等。以无机材料作为记录层的只写一次型光学信息记录媒体与以有机染料作为记录层的只写一次型光学信息记录媒体相比，其具有制作简单、低环境污染性、高耐旋光性及高耐候性等优点，而成为未来光学信息记录媒体的研发目标。
由此可见，上述现有的只写一次型光学信息记录媒体仍存在有诸多的缺陷，而亟待加以进一步改进。
为了解决只写一次型光学信息记录媒体存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切的结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。
有鉴于上述现有的只写一次型光学信息记录媒体存在的缺陷，本发明人基于丰富的实务经验及专业知识，积极加以研究创新，经过不断的研究、设计，并经反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本发明。
发明内容
本发明的主要目的在于，克服上述现有的只写一次型光学信息记录媒体存在的缺陷，而提供一种新型结构的只写一次型光学信息记录媒体，所要解决的主要技术问题是使其以无机材料作为记录层，可以利用各种波长的激光进行信息的记录/再生。
本发明的另一目的在于，提供一种只写一次型光学信息记录媒体，所要解决的技术问题是使其制作方式简单，且具有低环境污染性、高耐旋光性及高耐候性等优点。
本发明的目的及解决其主要技术问题是采用以下的技术方案来实现的。依据本发明提出的一种只写一次型光学信息记录媒体，其包括一基板；一第一保护层，设置于该基板上；一无机材料记录层，设置于该第一保护层上，该无机材料记录层，由受到激光光源照射加热后，产生局部的反应与吸热而形成有一反射率不同的记录点，该无机材料记录层的材质包括式(I)所示的材料A(1-y)My(I)，A元素包括硅(Si)或锡(Sn)的其中之一；M元素包括鋁(Al)、银(Ag)、金(Au)、锌(Zn)、钛(Ti)、镍(Ni)、铜(Cu)、钴(Co)、钽(Ta)、铁(Fe)、钨(W)、铬(Cr)、钒(V)、镓(Ga)、铅(Pb)、钼(Mo)、铟(In)或鍗(Sb)的其中之一；y為0.02至0.8的范围内；一第二保护层，设置于该无机材料记录层上；以及一反射层，设置在该第二保护层上。
本发明的目的及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实现。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的无机材料记录层的厚度为3nm至80nm。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的第一保护层与第二保护层的材质分别包括氮化硅(SiNx)、硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)、氮化铝(AlNx)、碳化硅(SiC)、氮化锗(GeNx)、氮化钛(TiNx)、氧化钽(TaOx)或氧化钇(YOx)的其中之一。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的第一保护层与第二保护层的厚度分别为1nm至200nm。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的第一保护层与第二保护层包括一介电材料层或一复合介电材料层。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的反射层的材质是选自金、银、铝、钛、铅、铬、钼、钨、钽与上述金属的合金所组的族群。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的反射层的厚度为10nm至200nm。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的反射层，更包括一树脂保护层，设置于该反射层上。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的树脂保护层包括光硬化树脂。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的无机材料记录层包括以共溅镀法、苹果派靶溅镀法或共合金靶溅镀法形成的合金层。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的基板包括只写一次型光盘片基板、只写一次型数字多功能光盘基板、蓝光只写一次型数字多功能光盘基板或只写一次型蓝光光学信息记录媒体基板。
本发明的目的及解决其主要技术问题还采用以下技术方案来实现。依据本发明提出的一种只写一次型光学信息记录媒体，其包括一基板，以及一无机材料记录层，设置于该基板上，该无机材料记录层，由受到激光光源照射加热后，产生局部的反应与吸热而形成有一反射率不同的记录点，该无机材料记录层的材质包括式(I)所示的材料A(1-y)My(I)，A元素是选自硅(Si)与锡(Sn)所组的族群；M元素是选自铝(Al)、银(Ag)、金(Au)、锌(Zn)、钛(Ti)、镍(Ni)、铜(Cu)、钴(Co)、钽(Ta)、铁(Fe)、钨(W)、铬(Cr)、钒(V)、镓(Ga)、铅(Pb)、钼(Mo)、铟(In)与鍗(Sb)所组的族群；y为0.02至0.8的范围内。
本发明的目的及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实现。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的无机材料记录层更包括一第一保护层，设置于该无机材料记录层上。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的第一保护层的材质包括氮化硅(SiNx)、硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)、氮化铝(AlNx)、碳化硅(SiC)、氮化锗(GeNx)、氮化钛(TiNx)、氧化钽(TaOx)或氧化钇(YOx)。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的第一保护层更包括一反射层，设置于该第一保护层上。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的无机材料记录层，更包括一第一保护层，设置于该无机材料记录层与该基板之间；以及一第二保护层，设置于该无机材料记录层上。
前述的只写一次型光学信息记录媒体，其中所述的第一保护层与第二保护层的材质包括氮化硅(SiNx)、硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)、氮化铝(AlNx)、碳化硅(SiC)、氮化锗(GeNx)、氮化钛(TiNx)、氧化钽(TaOx)或氧化钇(YOx)。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。由以上技术方案可知，为了达到前述发明目的，本发明的主要技术内容如下本发明提供一种只写一次型光学信息记录媒体，其是由基板、设置于基板上的第一保护层、设置于第一保护层上的无机材料记录层，该无机材料记录层，由受到激光光源照射加热后，产生局部的反应与吸热而形成有一反射率不同的记录点、设置于无机材料记录层上的第二保护层与设置于第二保护层上的反射层。其中，无机材料记录层的材质包括式(I)所示的材料A(1-y)My(I)，A元素是选自硅(Si)与锡(Sn)所组的族群；M元素是选自铝(Al)、银(Ag)、金(Au)、锌(Zn)、钛(Ti)、镍(Ni)、铜(Cu)、钴(Co)、钽(Ta)、铁(Fe)、钨(W)、铬(Cr)、钒(V)、镓(Ga)、铅(Pb)、钼(Mo)、铟(In)与鍗(Sb)所组的族群y为0.02至0.8的范围内。
上述第一保护层与第二保护层的材质包括介电材料，其例如是氮化硅(SiNx)、硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)、氮化铝(AlNx)、碳化硅(SiC)、氮化锗(GeNx)、氮化钛(TiNx)、氧化钽(TaOx)与氧化钇(YOx)。且第一保护层与第二保护层可为单一介电材料层或由两层或两层以上介电材料层所组成的复合介电层。反射层的材质可为金、银、铝、钛、铅、铬、钼、钨、钽与上述金属的合金。
本发明只写一次型光学信息记录媒体，可以稳定地写入记录信息，而具有实用性。而且，相较于有机染料，本发明以无机材料作为记录层，而应用于光学信息记录媒体时，更具有适用于可见光全光域、对不同规格的高兼容性、高密度、高解析记录点、适用高倍速、低材料成本、低环境污染性、高耐旋光性及高耐候性等优点。
综上所述，本发明特殊结构的只写一次型光学信息记录媒体，其以无机材料作为记录层，可以利用各种波长的激光进行信息的记录/再生；另其制作方式简单，且具有低环境污染性、高耐旋光性及高耐候性等优点。其具有上述诸多的优点及实用价值，且在同类产品中均未见有类似的结构设计公开发表或使用，其不论在结构上或功能上皆有较大的改进，且在技术上有较大的进步，并产生了好用及实用的效果，而确实具有增进的功效，从而更加适于实用，诚为一新颖、进步、实用的新设计。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
图1A至图1E分别是本发明光学信息记录媒体的各种结构的部分剖面图。
图2是苹果派靶结构示意图。
图3是实验例1的测试盘片的DVD 3T-14T的动态观察图(Eyepattern)。
图4A是实验例1的测试盘片的在写入脉冲宽度20ns-70ns范围内反射率与时间关系图。
图4B分别是实验例1的测试盘片的在写入脉冲宽度20ns-70ns范围内的电荷耦合组件相机照相图。
图5A是实验例2的测试盘片的在写入脉冲宽度20ns-70ns范围内反射率与时间关系图。
图5B分别是实验例2的测试盘片的在写入脉冲宽度20ns-70ns范围内的电荷耦合组件相机照相图。
图6A是实验例3的测试盘片的在写入脉冲宽度20ns-70ns范围内反射率与时间关系图。
图6B分别是实验例3的测试盘片的在写入脉冲宽度20ns-70ns范围内的电荷耦合组件相机照相图。
100基板 102保护层
104无机材料记录层 106保护层108反射层 110树脂保护层200A元素 202M元素具体实施方式
以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的只写一次型光学信息记录媒体其具体实施方式
、结构、特征及其功效，详细说明如后。
请参阅图1A至第1E所示，分别是本发明只写一次型光学信息记录媒体的各种盘片结构的部分剖面图。在图1A至图1E中，相同构件给予相同的标号，并省略其说明。
请参阅图1A所示，本发明只写一次型光学信息记录媒体，其结构是由基板100、保护层102、无机材料记录层104、保护层106、反射层108所构成；其中上述的基板100，包括表面具有沟槽的透明基板，例如是包括只写一次型光盘片基板、只写一次型数字多功能光盘基板、蓝光只写一次型数字多功能光盘基板及只写一次型蓝光光学信息记录媒体基板等。其材料例如是玻璃、聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate，PMMA)或环聚烃共聚物(Metallocene CatalyzedCyclo Olefin Copolymer，mCOC)等。
上述的保护层102，设置于基板100上，其材质包括介电材料，例如是氮化硅(SiNx)、硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)、氮化铝(AlNx)、碳化硅(SiC)、氮化锗(GeNx)、氮化钛(TiNx)、氧化钽(TaOx)、氧化钇(YOx)等。保护层102的厚度例如是1nm到200nm之间。该保护层102包括单一介电材料层或者是由一层以上的介电材料层所组成的复合介电材料层。
上述的无机材料记录层104，设置于保护层102上，无机材料记录层104的材质包括式(I)所示的材料A(1-y)My(I)A元素可为硅(Si)或锡(Sn)；M元素可为铝(Al)、银(Ag)、金(Au)、锌(Zn)、钛(Ti)、镍(Ni)、铜(Cu)、钴(Co)、钽(Ta)、铁(Fe)、钨(W)、铬(Cr)、钒(V)、镓(Ga)、铅(Pb)、钼(Mo)、铟(In)、缔(Sb)y为0.02至0.8的范围内。
上述的无机材料记录层104，可以使用单一种上述式(I)的材质或混合使用两种或两种以上式(I)所示的材质。无机材料记录层104的厚度例如是3nm到80nm之间。该无机材料记录层104，由受到激光光源照射加热后，产生局部的反应与吸热而形成有一反射率不同的记录点。
上述的保护层106，设置于无机材料记录层104上，其材质包括介电材料，例如是氮化硅(SiNx)、硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)、氮化铝(AlNx)、碳化硅(SiC)、氮化锗(GeNx)、氮化钛(TiNx)、氧化钽(TaOx)、氧化钇(YOx)等。保护层106的厚度例如是1nm到200nm之间。保护层106包括单一介电材料层或者是由一层以上的介电材料层所组成的复合介电材料层。
上述的反射层108，设置于保护层106上，该反射层108的材料例如是金、银、铝、钛、铅、铬、钼、钨、钽等金属及其合金材料。反射层108的厚度例如是10nm到200nm之间。
在上述的光学信息记录媒体的盘片结构中，更可以在反射层108上形成设有一层树脂保护层110，该树脂保护层110例如是光硬化树脂，而形成如图1B所示的光学信息记录媒体盘片结构。
本发明的只写一次型光学信息记录媒体的结构，也可以如图1C所示直接由基板100、无机材料记录层104、保护层106所构成。如图1D所示由基板100、无机材料记录层104、保护层106与反射层108所构成。如图1E所示由基板100、保护层102、无机材料记录层104与保护层106所构成。
本发明只写一次型光学信息记录媒体的记录原理，是在记录过程中，可使用激光光通过基板100聚焦在无机材料记录层104上，利用脉冲高功率(pulse high power)方式，使无机材料记录层104吸热而形成记录点(recorded marks)，如此可造成记录点与非记录点高反射率差异，且此反应是不可重复的，故利用无机材料记录层104的此种特性及配合薄膜设计可作为只写一次型光学信息记录媒体。
而且，本发明以无机材料取代有机染料而作为光学信息记录媒体的记录层，由于无机材料较有机染料具有高耐旋光性及高耐候性等优点，因此可以延长光学信息记录媒体的使用年限。此外，无机材料的成本较有机染料便宜，且不需要使用到有机溶剂，因此其制作成本较低，而且不会造成环境污染。另外，使用无机材料作为记录层可配合用平面/沟(Land/Groove)的记录方式，使光学信息记录媒体具有高记录密度。因此，本发明的上述各种盘片结构可以应用于只写一次型光盘片(Compact Disc-Recordable，CD-R)、只写一次型数字多功能光盘(Digital Versatile Disc-Recordable，DVD-R)、蓝光只写一次型数字多功能光盘与只写一次型蓝光光学信息记录媒体。
上述说明为本发明只写一次型光学信息记录媒体的结构，下面接着以上述图1A的结构为实例说明本发明只写一次型光学信息记录媒体的制造方法。
首先，提供一个基板100。基板100的材料为聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)。在基板100上形成一层保护层102。该保护层102的形成方法例如是溅镀法或涂布法。然后，在保护层102上形成无机材料记录层104，该无机材料记录层104的材质如上述式(I)所示A(1-y)My的合金。无机材料记录层104的形成方法包括溅镀法。在进行溅镀制程时，是采用共溅镀的方式形成无机材料记录层104。亦即，可在溅镀室中同时放入A元素[A元素可为硅(Si)或锡(Sn)]的靶材与M元素[M元素可为铝(Al)、银(Ag)、金(Au)、锌(Zn)、钛(Ti)、镍(Ni)、铜(Cu)、钴(Co)、钽(Ta)、铁(Fe)、钨(W)、铬(Cr)、钒(V)、镓(Ga)、铅(Pb)、钼(Mo)、铟(In)、鍗(Sb)]的靶材、以A元素与M元素的合金作为靶材(共合金靶溅镀法)、或者将A元素与M元素以交错排列的方式制作成一块靶材(苹果派靶溅镀法Apple pie target(如图2所示，标号200表示A元素，标号202表示M元素))。无机材料记录层104中A元素与M元素的比例可以藉由靶材的成分来调整。然后，在无机材料记录层104上形成设有另一层保护层106。该保护层106的形成方法例如是溅镀法或涂布法。之后，再在保护层106上形成反射层108，反射层108的形成方法例如是溅镀法。
本发明的只写一次型光学信息记录媒体在制作时，可以利用溅镀的方式形成保护层、记录层与反射层，因此其制程也较为简便。
接着，为证明本发明的光学信息记录媒体的记录性质，以下特别依照上述的只写一次型光学信息记录媒体的制作方法制作出实验例1至实验例3的测试盘片，并对实验例1的测试盘片进行动态测试，对实验例1至实验例3的测试盘片进行静态测试，但是本发明的范围并不受限于实验例1至实验例3。
实验例1在DVD基板(轨距74微米)上形成一层保护层(硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)，厚度30nm)，利用共溅镀的方式，在保护层上形成无机材料记录层(硅铝(SiAl)合金，硅与铝的比例为40∶60，厚度为20nm)，然后在无机材料记录层上形成一层保护层(硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)，厚度30nm)，并在保护层上形成一层反射层(铝钛合金(AlTi)，厚度100nm)，而完成实验例1的测试盘片。
实验例2在DVD基板(轨距74微米)上形成一层保护层(硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)，厚度30nm)后，利用共溅镀的方式，在保护层上形成无机材料记录层(锡铝(SnAl)合金，锡与铝的比例为35∶65，厚度为20nm)，接着在无机材料记录层上形成一层保护层(硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)，厚度30nm)，而完成实验例2的测试盘片。
实验例3；在DVD基板(轨距74微米)上形成一层保护层(硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)，厚度30nm)，利用共溅镀的方式，在保护层上形成无机材料记录层(锡铝(SnAl)合金，锡与铝的比例为35∶65，厚度为20nm)，然后在无机材料记录层上形成一层保护层(硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)，厚度30nm)，并在保护层上形成一层反射层(铝钛合金(AlTi)，厚度100nm)，而完成实验例3的测试盘片。
使用2.4倍的DVD烧录机，以11mW的记录功率、8.7ms的写入速度对实验例1的测试盘片进行烧录处理后，利用动态测试仪器(Pulstek公司制，型号DDU1000)测试实验例1的盘片。该实验例1的测试盘片的DVD3T-14T的动态观察图(Eye pattern)如图3所示，且其扰动率(Jitter)为7.3％左右，符合动态写入的规格。
使用静态测试仪器(Toptica公司制，型号Media test-1)，分别对实验例1至实验例3的测试盘片进行测试，以在写入记号标记的同时，监测整个记录的过程。该静态测试机是使用一个半导激光二极管(在P2398-nm波长)在单一脉冲模式下，写入一个记录点在测试盘片上，并操作另一个半导激光二极管(在P1422-nm波长)在连续波模式(cw mode)下去监测记录的过程，亦即为利用不同的激光功率(mW)及激光脉冲(ns)写入适当记录点，使其材料产生变化，进而产生光学性质的改变，造成记录点与非记录点反射率的差异，转换成电压讯号并藉以量测两相的转换时间，且对应每一条件利用电荷耦合组件相机影像，观察记录的过程。其中，静态测试机的写入功率为12mW，写入脉冲宽度为20ns-70ns。
请参阅图4A与图4B所示，分别为上述实验例1的测试盘片的在写入脉冲宽度20ns-70ns范围内反射率与时间关系图，及电荷耦合组件相机照相图。由图4A与图4B的结果看来，当有机记录层的材质为硅铝(SiAl)合金时，由电荷耦合组件相机照相图得知，在写入功率为10mW，脉冲时间为20ns以上就可写入记录点，且记录点的反射率与周围未记录区域的反射率不同，藉由该反射率不同的特点，即可作为只写一次型光学信息记录媒体。
请参阅图5A与图5B所示，分别为上述实验例2的测试盘片的在写入脉冲宽度20ns-70ns范围内反射率与时间关系图，及电荷耦合组件相机照相图。请参阅图6A与图6B所示，分别为实验例3的测试盘片的在写入脉冲宽度20ns-70ns范围内反射率与时间关系图与电荷耦合组件相机照相图。由图5A与图5B、图6A与图6B的结果看来，有机记录层的材质为锡铝(SnAl)合金时，由电荷耦合组件相机照相图可得知，在写入功率为10mW，脉冲时间为30ns以上就可写入记录点，且记录点的反射率与周围未记录区域的反射率不同，藉由该反射率不同的特点，即可以作为只写一次型光学信息记录媒体。而且，根据实验例2与实验例3的测试结果，当膜层结构在有溅镀一反射层(实验例3的测试盘片)时，即可藉由该反射层适度地导热来控制记录点的大小。
综上所述，本发明的光学信息记录媒体可以稳定地写入记录信息，而具有实用性。而且，相较于有机染料，本发明以无机材料作为记录层，而应用于光学信息记录媒体时，更具有适用于可见光全光域、对不同规格的高兼容性、高密度、高解析记录点、适用高倍速、低材料成本、低环境污染性、高耐旋光性及高耐候性等优点。
以上所述，仅是本发明较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非是用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但是凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
权利要求
1.一种只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其包括一基板；一第一保护层，设置于该基板上；一无机材料记录层，设置于该第一保护层上，该无机材料记录层，由受到激光光源照射加热后，产生局部的反应与吸热而形成有一反射率不同的记录点，该无机材料记录层的材质包括式(I)所示的材料A(1-y)My(I)A元素包括硅(Si)或锡(Sn)的其中之一；M元素包括鋁(Al)、银(Ag)、金(Au)、锌(Zn)、钛(Ti)、镍(Ni)、铜(Cu)、钴(Co)、钽(Ta)、铁(Fe)、钨(W)、铬(Cr)、钒(V)、镓(Ga)、铅(Pb)、钼(Mo)、铟(In)或鍗(Sb)的其中之一；y為0.02至0.8的范围内；一第二保护层，设置于该无机材料记录层上；以及一反射层，设置在该第二保护层上。
2.根据权利要求1所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的无机材料记录层的厚度为3nm至80nm。
3.根据权利要求1所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的第一保护层与第二保护层的材质分别包括氮化硅(SiNx)、硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)、氮化铝(AlNx)、碳化硅(SiC)、氮化锗(GeNx)、氮化钛(TiNx)、氧化钽(TaOx)或氧化钇(YOx)的其中之一。
4.根据权利要求1所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的第一保护层与第二保护层的厚度分别为1nm至200nm。
5.根据权利要求1所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的第一保护层与第二保护层包括一介电材料层或一复合介电材料层。
6.根据权利要求1所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的反射层的材质是选自金、银、铝、钛、铅、铬、钼、钨、钽与上述金属的合金所组的族群。
7.根据权利要求1所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的反射层的厚度为10nm至200nm。
8.根据权利要求1所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的反射层，更包括一树脂保护层，设置于该反射层上。
9.根据权利要求8所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的树脂保护层包括光硬化树脂。
10.根据权利要求1所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的无机材料记录层包括以共溅镀法、苹果派靶溅镀法或共合金靶溅镀法形成的合金层。
11.根据权利要求1所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的基板包括只写一次型光盘片基板、只写一次型数字多功能光盘基板、蓝光只写一次型数字多功能光盘基板或只写一次型蓝光光学信息记录媒体基板。
12.一种只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其包括一基板；以及一无机材料记录层，设置于该基板上，该无机材料记录层，由受到激光光源照射加热后，产生局部的反应与吸热而形成有一反射率不同的记录点，该无机材料记录层的材质包括式(I)所示的材料A(1-y)My(I)A元素是选自硅(Si)与锡(Sn)所组的族群；M元素是选自铝(Al)、银(Ag)、金(Au)、锌(Zn)、钛(Ti)、镍(Ni)、铜(Cu)、钴(Co)、钽(Ta)、铁(Fe)、钨(W)、铬(Cr)、钒(V)、镓(Ga)、铅(Pb)、钼(Mo)、铟(In)与鍗(Sb)所组的族群y为0.02至0.8的范围内。
13.根据权利要求12所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的无机材料记录层更包括一第一保护层，设置于该无机材料记录层上。
14.根据权利要求13所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的第一保护层的材质包括氮化硅(SiNx)、硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)、氮化铝(AlNx)、碳化硅(SiC)、氮化锗(GeNx)、氮化钛(TiNx)、氧化钽(TaOx)或氧化钇(YOx)。
15.根据权利要求1 3所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的第一保护层更包括一反射层，设置于该第一保护层上。
16.根据权利要求12所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的无机材料记录层，更包括一第一保护层，设置于该无机材料记录层与该基板之间；以及一第二保护层，设置于该无机材料记录层上。
17.根据权利要求16所述的只写一次型光学信息记录媒体，其特征在于其中所述的第一保护层与第二保护层的材质包括氮化硅(SiNx)、硫化锌-氧化硅(ZnS-SiO2)、氮化铝(AlNx)、碳化硅(SiC)、氮化锗(GeNx)、氮化钛(TiNx)、氧化钽(TaOx)或氧化钇(YOx)。
全文摘要
本发明是关于一种只写一次型光学信息记录媒体，是以无机材料作为记录层，该记录层的材质的通式为A
文档编号G11B7/24GK1553444SQ0314081
公开日2004年12月8日 申请日期2003年6月4日 优先权日2003年6月4日
发明者陈炳茂, 陈种发, 钟利群 申请人:铼德科技股份有限公司