光记录介质的制作方法

专利名称：光记录介质的制作方法
技术领域：
本发明涉及利用光的照射进行信息的记录和再生的光记录介质，特别涉及具有单面2层记录层、并且不能重写的有机色素型光记录介质。
背景技术：
有机色素型光记录介质例如是如近年来的可追记型光盘(以下记作“CD-R”)、可追记型数字多功能光盘(以下记作“DVD-R”)那样可以进行音乐信息、影像信息的存档记录的记录介质。其中，DVD-R主要用于有效利用其大记录容量的影像信息的记录。因此，进行长时间记录的需求在增长，这要求记录容量进一步增加。
作为增大光记录介质的记录容量的方法之一，有将从记录再生装置的激光光源对光记录介质的记录层进行照射的激光光斑直径减小，使记录信号高密度化的方法。为了实现此方法，研讨了例如使所用的激光波长短至蓝光波段的方法，以及增大记录再生装置的光学头的物镜的开口率(NA)，进一步缩小激光束的方法。但是，这些方法难以与现在使用的数字多功能光盘(DVD)记录再生装置(或再生专用装置)有再生互换性。
于是，近年来，作为既维持了再生互换性又扩大了记录容量的方法，提出了在1块光记录介质上重叠设置多层记录层的方法，例如光记录介质的2层结构。
在特公平08-23941号公报中记述了利用在基板的一个面上依次叠积反射膜、构成记录面的固化型树脂等的方法(单面层叠法)来制造2层型光记录介质的技术。
另外，在特开平10-283682号公报中记述了对置贴合法。对置贴合法就是准备2块在对其一个面设置了沟槽的透明树脂基板上依要求的顺序形成记录层和其他层的板，以该2块基板分别成为外侧的方式将它们相合、用紫外线固化树脂粘接，得到2层型光记录介质的方法。采用此方法时，各个基板可以与现有的1层型基板相同地利用喷射成型进行制造，作为其后的工序的关于构成记录层的色素的涂敷、反射层的成膜等，也可以用与1层型情形相同或类似的工序进行加工。因此，可以认为由于采用对置贴合法，工序简单，并且可以用现有的制造技术，所以能进行稳定生产。
在图2中示出了采用对置贴合法制成的光记录介质的结构。第1层(L0层)由透明基板21、记录层22和半透明膜23构成。透明基板21的激光入射面侧21a为平面，在其相对面上形成螺旋状或同心圆状的沟槽(groove)21G和被它们夹着的岸台(land)21L。以覆盖沟槽21G和岸台21L的方式涂敷构成记录层22的有机色素，进而层叠金属或合金的半透明膜23。
第2层(L1层)由在其一个面上形成螺旋状或同心圆状的沟槽27G和岸台27L的基板27；以覆盖沟槽27G和岸台27L的方式形成的反射层26；以及借助于在反射层26上涂敷色素形成的记录层25构成。L0层的半透明膜23和L1层的记录层25经中间贴合层24贴合，形成2层结构的光记录介质D2。
LA1、LA2皆是用于记录再生的激光，从激光入射面21a入射的LA1对L0进行记录再生，从激光入射面21a入射的LA2对L1进行记录再生。另外，这里示出的是采用相对贴合法的2层型光记录介质的基本结构，为了提高性能和可靠性等，还可以再加几层膜。
然而，用图2说明的是对2层型光记录介质的现有的记录方式，即对L0层进行沟槽上(on groove)记录、对L1层进行沟槽内(ingroove)记录的(on-in)记录方式。
所谓沟槽上记录就是在设置于基板上的岸台和沟槽之中的朝向激光入射方向(激光入射面21a)为凸的部分进行记录的方法。所谓沟槽内记录就是在朝向激光入射方向为凹的部分进行记录的方法。
即，当用on-in记录时，对L0层的记录在涂敷于设置在图2所示的基板21的沟槽21G(凸部)上的记录层22上进行。对L1层的记录在涂敷于设置在基板27的沟槽27G(凹部)上的记录层25上进行。
作为其他的现有例，还有对L0层、L1层的任何一个层都采用沟槽上记录的(on-on)记录方式。on-on记录是对L0层的记录用如上的方式进行，对L1层的记录(未图示)在涂敷于设置在基板27的岸台27L(凸部)上的记录层25上进行。
但是，虽然在用旋涂法在L1层上涂敷由有机色素构成的记录层25时，由于旋涂的性质，在沟槽中积存了充分的涂敷物，因而可以在设置于基板27上的沟槽27G(凹部)中涂敷足够的色素，可也使岸台27L上的色素十分厚，并且难以均匀地进行涂敷。因此可知，若用沟槽上记录对采用对置贴合法制成的2层型光记录介质的L1层进行记录，不能得到充分的再生输出特性。
由于以上原因，对采用对置贴合法的2层型光记录介质的记录通常采用on-in记录方式。
但是，已知即使对L1层进行沟槽内记录，也存在问题。
记录借助于改变在L0层、L1层两者上涂敷的有机色素的性质来进行，在用具有相同输出的激光进行记录时，在L0层的记录层22上有机色素充分改变性质，能可靠地进行记录，与此相对，在L1层的记录层25上有机色素未充分改变性质，记录不充分。另外，当为了在记录层25上进行充分的记录而增强照射激光的功率时，功率集中在L1层的导引沟槽27G的中央部分，致使基板27变形。
这被认为起因于L0层与L1层的结构不同。在采用对置贴合法的2层型光记录介质的场合，如图2所示，对于L0层，半透明膜23以大致平面状在记录层22上形成，而对于L1层，反射膜26于涂敷记录层25之前在基板27上形成，因而反射膜26随基板27的形状(沟槽27G和岸台27L)呈凹凸形状。
也就是说，在L0层中与记录有关的沟槽21G内的记录层22的色素仅上面与半透明膜23相接，而在L1层中，沟槽27G内的记录层25的色素在3个方向，即两侧面和底面方向与反射膜26相接。
反射膜26通常由金属或合金、金属化合物构成，所以热导率高。可以认为其结果是，由于在L1层中由激光对记录层25提供的热量传导至与沟槽的侧面部分相接的反射层26而被散出，因而热未充分对构成记录层25的色素起作用，因此，色素的性质改变不充分，得不到必要的调制度。
专利文献1特公平08-23941号公报专利文献2特开平10-283682号公报发明内容于是。本发明是为解决上述问题而提出的，其目的在于通过在制作2层型光记录介质(例如2层型光盘)时，详细地规定出设置在构成L1层(第2层)的透明基板的一个面上的沟槽(导引沟槽)的沟槽形状与在沟槽上成膜的反射膜的关系，提供使用上述的沟槽内记录也能得到良好的记录特性的2层型光记录介质。
鉴于上述课题，本发明提供了具有下述的(a)、(b)结构的光记录介质。
(a)一种光记录介质(D1)，其特征在于，包含第1层(L0)，具备具有对记录或再生光的入射面(1a)为凸部的第1岸台(1L)和对记录或再生光的入射面(1a)为凹部的第1沟槽(1G)的第1透光性基板(1)，和由在该第1透光性基板上形成的有机色素构成的第1记录层(2)；第2层(L1)，具备具有第2岸台(7L)和第2沟槽(7G)的第2透光性基板(7)、在该第2透光性基板上形成的反射膜(6)、和由在该反射膜上形成的有机色素构成的第2记录层(5)；以及中间贴合层(4)，以上述第1岸台与第2沟槽相对，上述第1沟槽与第2岸台相对，并且上述第1和第2记录层被上述第1和第2透光性基板相夹的方式将上述第1层与上述第2层进行贴合，当设在上述第2沟槽的底面(7Ga)形成的上述反射膜的厚度为Tb，设通过上述第2岸台的上表面的面(7La1)与上述第2沟槽的侧壁(7Gb)所成的角度为α1时，满足α1≥cos-1(20/Tb)的关系。
(b)如(a)项所述的光记录介质，其特征在于上述反射膜的厚度为Tb满足30nm≤Tb≤100nm。
发明效果按照本发明的光记录介质，在对采用对置贴合法的2层型光记录介质的L1层进行沟槽内记录时，可以减少热量经反射膜的散出，从而充分确保记录特性。其结果是，可以得到良好的记录特性。


图1是示出本发明的光记录介质的一实施方式的放大剖面图。
图2是示出采用对置贴合法制成的光记录介质的现有例的放大剖面图。
具体实施例方式
以下，参照

本发明的光记录介质的实施方式。对于光记录介质，作为一例举出了DVD-R等一次写入型(追记型)的2层光盘、2层光卡等信息记录介质。另外，在下面的说明中作为光记录介质D1的一种实施方式虽使用了一次写入型2层光盘(DVD-R)，但对除此以外的具有与光盘、光卡相同的结构的光记录介质也能应用本发明图1是示出光记录介质D1的一实施方式的放大剖面图。在透光性基板1上依次层叠了由色素构成的记录层2和半透明膜3。以此作为第1层(L0层)。在基板1上设置了对记录或再生光入射的面1a为凸部的岸台1L和对光入射面为凹部的沟槽1G。
接着，在透光性基板7上依次层叠反射膜6和由色素构成的记录层5，作为第2层(L1层)。在基板7上设置了岸台7L和沟槽(导引沟槽)7G，分别定义了沟槽的底面7Ga、沟槽的侧面7Gb、岸台的上表面7La。L0层的半透明膜3与L1层的记录层5经中间贴合层4相对贴合，形成2层型光记录介质D1。如图1所示，使岸台1L与沟槽7G相对，使沟槽1G与岸台7L相对地将L0层与L1层进行贴合。
这里，来自记录再生装置(未图示)的记录或再生用激光LA1、LA2从基板1的入射面1a侧照射，对L0层进行记录的激光LA1的焦点与记录层2一致，对L1层进行记录的激光LA2的焦点与记录层5一致。为使焦点分离，中间贴合层4的需要有50μm左右的厚度。
首先详细说明L0层。
作为基板1的材料，可以使用各种透明合成树脂、透明玻璃等。关于合成树脂，可以列举出聚碳酸酯树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚烯烃、环氧树脂、聚酰亚胺树脂等，但从光学上的双折射小、吸湿性小、成型容易等方面考虑，聚碳酸酯树脂特别合适。
对基板1的厚度虽无特别的限制，但考虑到可以用现有的DVD记录再生装置再生本实施方式的DVD-R这样的互换性，最好为0.6mm厚。另外，DVD的整个厚度为1.2mm。
基板1可以是柔性的(flexible)，也可以是刚性的(rigid)。柔性基板1用于带状、板状、卡状光记录介质。刚性基板1用于卡状或盘状光记录介质。
关于DVD-R，对基板1预先制作间距(pitch)为0.74μm的螺旋状或同心圆状的凹凸(沟槽)进入其表面的模具，并作成为使在喷射成型时模具的凹凸完美地转印到基板1上而设定的喷射条件。
将沟槽转印到基板1上的模具，如一般所知的那样，以规定的厚度将抗蚀剂涂敷在玻璃原盘上，调整激光的强度，以使能得到所希望的沟槽(groove)深度，从内周至外周使沟槽曝光。在DVD-R的情况下，这时，利用将激光分为2束的双束刻槽等在沟槽曝光的同时也使岸台预制凹坑(LPP)曝光。之后，经显影、镀镍等通常的工序得到模具。另外，用由这些通常的工序得到的模具制成的基板1的沟槽1G的侧壁角度α0为20～80度。后述的基板7的沟槽7G的侧壁角度α1可以与沟槽1G的侧壁角度α0不同。
作为用作记录层2的色素材料使用以花青类、酞花青类、偶氮类等为基本主体的有机色素，对成分进行调整使得差示热特性、波长特性最佳，用旋涂机等进行涂敷。
对于涂敷虽然主要用旋涂法，但这时需要十分精确的进行色素的温度控制、涂敷环境的温度湿度控制，以使厚度的不均匀性减小。温度控制最好抑制在±0.1℃以内。
关于记录层2的层厚，不是直接测定层厚，而是用色素的最大吸收波长的吸光率(Absorbance)决定。吸光率小时不产生调制度，若过大，则抖动变差。吸光率依赖于色素的种类和调配，最好为0.55～0.8Abs。
作为半透明膜3的材料可以列举出具有反光性的Al、Au、Ag等金属，或者以这些金属为主成分包含由1种以上的金属或半导体构成的添加元素的合金，以及在Al、Au、Ag等金属中混入Al、Si等的金属氮化物、金属氧化物、金属硫化物等金属化合物的材料等。
其中，Al、Au、Ag等金属和以这些金属为主成分的合金，由于其反射率高，且热导率高，所以为宜。作为合金的例子，通常是在Al中添加Si、Mg、Cu、Pd、Ti、Cr、Hf、Ta、Nb、Mn、Zr等至少1种元素，或者在Au或Ag中添加Cr、Ag、Cu、Pd、Pt、Ni、In、Ca等至少1种元素的材料等。
热导率低时，由于记录时激光照射产生的热量的扩散不充分，所以记号(mark)边沿的不稳定的延展、相邻轨道的影响增大等使记录特性变差，发生必须将半透明膜3形成得厚些的不良情形。另外，由于使用了不可以将半透明膜3减薄的材料，所以如后所述，难以确保对L1层进行记录再生时的光透过率。因此，当考虑高线速度记录时，以热导率高的Ag为主成分的金属或合金特别合适。
半透明膜3必须在对L1层进行记录再生时能透过激光。为此，需要制成能确保激光透过率达约50％的厚度。半透明膜3的厚度需因该材料的热传导率的大小而异。在5nm～20nm的范围内是合适的。当半透明膜3的厚度在5nm以下时反射率的值小，而且冷却速度不够，对记录状态的影响大。另外，当制成20nm以上的厚度时，激光透过率达不到50％，不适合2层型光记录介质。
作为层叠半透明膜3的方法，有真空薄膜形成法，例如真空蒸镀法(电阻加热型、电子束型)、离子电镀法、溅射法(直流或交流溅射、反应性溅射)等。特别是溅射法，由于成分和膜厚容易控制，所以是合适的。
其次，详细说明L1层。
基板7的材料、厚度和各种条件与上述的基板1的相同。
在基板7上转印沟槽的模具与上述相同，在将沟槽曝光后采用称之为玻璃刻蚀的方法。用玻璃刻蚀法时，在显影后进行利用O2气的灰化，只使将成为沟槽部分的玻璃露出。之后，用CF4或CHF3等气体进行玻璃刻蚀，刻蚀至规定的深度。作为这时的刻蚀装置，使用RIE(反应离子刻蚀)装置。利用它可以得到侧壁角度陡峻的沟槽，另外，该侧壁的角度可以随刻蚀条件(刻蚀功率、刻蚀气压等)变化。这样，可以经过通常的工序由得到的原盘制成模具。
记录层5的材料、涂敷条件和层厚与上述的记录层2的相同。
另外，还可以在记录层5的表面上设置后述的贴合时的保护层(未图示)。作为该保护层的材料最好是包含氮化物、氧化物、碳化物中的至少一种的材料，具体而言，最好是包含氮化锗、氮化硅、氮化铝、氧化铝、氧化锆、氧化铬、碳化硅、碳之中的至少一种的材料。另外，这些材料中也可以含氧、氮、氢等。上述的氮化物、氧化物、碳化物也可以不是化学比的组分，氮、氧、碳的过多或不足均可。藉此，界面层难以剥离，往往可提高膜的特性，如提高保存的持久性等。ZnS和SiO2这两种化合物特别适于作保护层。
反射膜6的材料最好是Al、Au、Ag等金属和以这些金属为主成分的合金，因为其反射率高且热导率高。作为一般的合金的例子与对上述半透明膜3列举的合金相同。
该反射膜6的厚度需要随形成反射膜6的材料的热传导率的大小而异，最好在30nm～100nm。当反射膜6厚度为大于等于50nm时虽光学上无变化，不影响反射率的值，但对冷却速度的影响变大。另一方面，当反射膜6的厚度超过100nm时，则对冷却速度的影响过大，不能进行可靠的记录。
如上所述，反射膜6影响L1层的记录特性，特别是在沟槽侧壁7Gb上成膜的反射膜6的厚度(侧壁厚度)的影响很大。由于难以直接测定侧壁厚度，所以在用溅射粒子直进性高的溅射装置溅射反射膜时作如下近似。即设侧壁厚度为B，在沟槽底面7Ga成膜的反射膜6的厚度(底面厚度)为Tb，通过岸台上表面7La的面7La1与沟槽侧壁7Gb(7Gb1)所成的角度(侧壁角度)为α1，则可用B＝Tbcosα1近似，以侧壁角度α1作为参数，来讨论附着在沟槽侧壁7Gb上的反射膜6的厚度(侧壁厚度B)。这里，所谓的侧壁厚度B被定义为在沟槽7G的50％的深度处附着在沟槽侧壁7Gb上的反射膜6的厚度。
当考虑上述近似式时，更加希望在能够确保成膜于沟槽底面7Ga的反射膜6的足够的反射率的范围内，将底面厚度Tb减薄。据此，可以抑制沟槽侧壁7Gb上的反射膜6的形成。另外，在可确保反射率的范围内底面厚度Tb较厚时，需要使沟槽侧壁7Gb的侧壁角度α1陡峻，从而抑制反射膜6的附着。
由于使沟槽侧壁7Gb的侧壁角度α1陡峻，使沟槽侧壁7Gb对溅射靶的投影面积减小。因此，用溅射装置形成的反射膜6的厚度(侧壁厚度B)随之减薄。
根据以上所述，本发明者发现如果选择在L1层的基板7上形成的沟槽7G的侧壁7Gb的侧壁角度α1，使其满足(1)式的关系，则可以抑制经沟槽侧壁7Gb上的反射膜6的散热。另外，如上所述，Tb是在沟槽底面7Ga上形成的反射膜6的厚度。
α1≥cos-1(20/Tb) …(1)(1)式的右边给出了使沟槽侧壁7Gb上的反射膜6的厚度(侧壁厚度B)为20nm的界限侧壁角度，实际的侧壁角度α1最好大于该右边的值。即，如果是具有满足(1)式的侧壁角度α1和底面厚度Tb的光记录介质，其侧壁厚度B最大为20nm。若侧壁厚度B在20nm以下，沟槽侧壁7Gb上的反射膜6引起的散热可以下降到使信号的记录不发生问题的水平。
另外，将溅射装置的靶与基板之间的距离增大，也能增加溅射粒子的直进性，成为抑制侧壁附着的有效手段之一，进一步增加本发明的效果。但这样溅射率降低得较多，因而只增大靶与基板之间的距离不能说是实用的手段。
最后，将用上述方法构成的L0层与L1层贴合，并使基板1和基板7夹住记录层2和记录层5。即，基板1、7向着外侧，半透明膜3与记录层5相对地进行贴合。用于贴合的中间贴合层4使用了UV(紫外线)固化树脂或双面粘贴薄膜。如上所述，该中间贴合层4最好为能使激光的焦点分离的50μm左右。
下面依次说明本实施方式的实施例1～9及其比较例1～10。在各实施例和比较例中使用的光记录介质(2层DVD-R光盘)用如下工序制成。
对于L0层，实施例和比较例两方使用了条件完全相同的层。
基板1利用按照DVD-R格式形成了0.74μm间距的螺旋状沟槽的模具，通过将聚碳酸酯树脂喷射成型而制成。使基板1的厚度为0.6mm。
对于记录层2，在对以花青类为基本主体的有机色素进行了成分调配使得差示热特性、波长特性最佳，并进行了粘度调整，使得可以用旋涂机涂敷后，涂敷了该有机色素。对层厚进行调整，使吸光率为0.7Abs。
对半透明膜3采用Al合金，用溅射装置形成10nm厚度的膜。
用如下方法制作了L1层。对于基板7，利用按照DVD-R格式形成了0.74μm间距的螺旋状沟槽的模具，与基板1一样，将聚碳酸酯树脂喷射成型制成0.6mm的厚度。但是，螺旋方向配置得在与基板1相反的方向旋转，即与其呈镜像关系。另外，相应于实施例和比较例，准备分别改变侧壁角度α1的基板7。
在制成的基板7上，用溅射装置淀积反射膜6。对反射膜6使用Al合金，其厚度对每个实施例和比较例有大有小。这里，使反射膜6的厚度为在(1)式中使用的底面厚度Tb的值。
接着，用旋涂机涂敷记录膜5，对于记录膜5，在对具有花青类的基本主体的有机色素进行了成分调配，使得差示热特性、波长特性最佳，并进行了粘度调整后，涂敷了该有机色素。对层厚进行调整，使吸光率为0.7Abs。
借助于作为中间贴合层4使用的厚度为50μm的双面粘贴薄膜贴合已准备好的L0层与L1层，制成光记录介质。这时，光记录介质的整个厚度为1.2mm。
用安装了波长为658nm的激光二极管、NA＝0.60的光学透镜的帕路斯特克(パルステック)公司制的光盘驱动器测试仪(DUU1000)，对用如上方法得到的光记录介质进行了记录(单光束、(overwriting))和测定。
记录线速度为3.5m/s(相当于DVD 1倍速)，进行了8-16调制随机图形的评价。时钟周期T为38.4ns(DVD 1倍速)，凹坑(pit)长度为0.267μm/bit。在包含相邻轨道1次写入后，测定调制度(MOD)、反射率、推挽(PP)。另外，在其再生信号的振幅中心进行限幅，对时钟至数据抖动(clock-to-data-jutter)进行测定。还有，使再生功率Pr为0.7mW的恒定值。另外，记录策略(脉冲波形)使用遵循DVD-R Version 2.0规定的分割脉冲系列。
在上述记录条件下进行记录再生、测定时，L0层的调制度(MOD)在60％以上，光透过率在50％以上，确认满足必要的特性。按照DVD-R的规格值，必要特性指的是调制度(MOD)在60％以上，反射率在18％以上，推挽(PP)在0.22以上。
接着，按照以上所述制作各实施例和比较例的L1层，用与上述相同的方法对其特性进行评价。各实施例和比较例的反射膜6的底面厚度Tb、侧壁角度α1、界限侧壁角度、调制度、反射率和记录功率总合在一起示于表1。
另外，各实施例满足(1)式的关系。


(实施例1)在实施例1中，制作了在L1层的基板7上形成的沟槽7G的侧壁角度α1为70度的沟槽转印用模具，利用该模具通过喷射成型制作了基板7。在基板7上形成反射膜6，并使其底面厚度Tb为50nm。之后，用旋涂机涂敷构成记录膜5的色素，经中间贴合层4与L0层贴合，得到2层型光记录介质D1。在本实施例1中，由于底面厚度Tb为50nm，故用(1)式求得的界限侧壁角度为66度(＝cos-120/50)。对其特性的测定表明调制度为65％、反射率为18.2％、记录功率为20mW，显示出极为良好的特性。
(实施例2)在实施例2中，用侧壁角度α1为75度的沟槽转印用模具，通过成型制作了基板7，形成底面厚度Tb为75nm的反射膜6。其他方面用与实施例1相同的方法制成。在本实施例2的情形下，界限侧壁角度为75度。测定出的特性是调制度为63％、反射率为18.5％，记录功率为25mW，虽略大一些，但也在合适的范围内。
(实施例3)在实施例3中，用侧壁角度α1为80度的沟槽转印用模具，通过成型制作了基板7，形成底面厚度Tb为100nm的反射膜6。其他方面用与实施例1相同的方法制成。在本实施例3的情形下，界限侧壁角度为78度。测定出的特性是调制度为62％、反射率为19.2％，记录功率为22mW，也在合适的范围内。
(实施例4)在实施例4中，用侧壁角度α1为50度的沟槽转印用模具，通过成型制作了基板7，形成底面厚度Tb为30nm的反射膜6。其他方面用与实施例1相同的方法制成。在本实施例4的情形下，界限侧壁角度为48度。测定出的特性是调制度为62％、记录功率为19.5mW，两者皆在合适的范围内。但反射膜薄，反射率为18.0％，是规格的下限。
(实施例5)在实施例5中，用侧壁角度α1为80度的沟槽转印用模具，通过成型制作了基板7，形成底面厚度Tb为40nm的反射膜6。其他方面用与实施例1相同的方法制成。在本实施例5的情形下，界限侧壁角度为60度。测定出的特性是调制度为66％、记录功率为21.0mW，两者皆在合适的范围内，但由于反射膜薄，反射率为18.1％，靠近下限。
(实施例6)在实施例6中，用侧壁角度α1为85度的沟槽转印用模具，通过成型制作了基板7，形成底面厚度Tb为50nm的反射膜6。其他方面用与实施例1相同的方法制成。在本实施例6的情形下，界限侧壁角度为66度。测定出的特性是调制度为70％、记录功率为20.5mW，两者皆在合适的范围内，但反射膜薄，反射率为18.1％，靠近规格下限。
(实施例7)在实施例7中，用侧壁角度α1为80度的沟槽转印用模具，通过成型制作了基板7，形成底面厚度Tb为70nm的反射膜6。其他方面用与实施例1相同的方法制成。在本实施例7的情形下，界限侧壁角度为73度。测定出的特性是调制度为64％、记录功率为22.0mW，两者皆在合适的范围内。但反射膜薄，反射率为18.6％，较低。
(实施例8)在实施例8中，用侧壁角度α1为85度的沟槽转印用模具，通过成型制作了基板7，形成底面厚度Tb为90nm的反射膜6。其他方面用与实施例1相同的方法制成。在本实施例8的情形下，界限侧壁角度为77度。测定出的特性是调制度为66％、记录功率为22.5mW，两者皆在良好的范围内，反射率为18.9％，也是足够的值。
(实施例9)在实施例9中，用侧壁角度α1为80度的沟槽转印用模具，通过成型制作了基板7，形成底面厚度Tb为100nm的反射膜6。其他方面用与实施例1相同的方法制成。在本实施例9的情形下，界限侧壁角度为78度。测定出的特性是调制度为62％、记录功率为22.0mW、反射率为18.9％，全部在合适的范围内。
(比较例1)在比较例1中，除使侧壁角度α1为60度外，其他方面制作得与实施例1的相同。测定结果是调制度为50％，不能满足规格值(60％以上)。这被认为是由于反射膜6的侧壁厚度B较厚，从该部分散出的热量大，有机色素性质改变不充分的缘故。
记录功率为25mW，也不高。虽然为了对记录膜供给充分的热量以便提高调制度，而进一步提高了记录功率，但抖动变差，25mW的记录功率是上限。
(比较例2)在比较例2中，除使反射膜6的底面厚度Tb为100nm外，其他方面制作得与实施例1的相同。由于使Tb为100nm，所以界限侧壁角度为78度，超过了70度的侧壁角度α1。测定结果是调制度为20％，大幅度地低于60％的规格值。这被认为是由于侧壁上的反射膜厚度非常大，因而从侧面对有机色素的冷却效果大，不能形成可靠的记录记号(性质改变)的缘故。记录功率也高至35mW，将功率提高到此值以上，调制度也不变化。
(比较例3)在比较例3中，除使反射膜6的底面厚度Tb为70nm外，其他方面制作得与实施例1的相同。由于反射膜6的底面厚度Tb为70nm，所以界限侧壁角度为73度，因侧壁角度α1为70度，所以低于界限侧壁角度。其结果是调制度为35％，不能满足规格值。这被认为是侧壁的反射层的散热量大的缘故。另外，记录功率也高至30mW，将功率提高到此值以上，也未发现调制度有变化，(比较例4)在比较例4中，除使反射膜6的底面厚度Tb为200nm，侧壁角度α1为85度外，其他方面制作得与实施例1的相同。由于反射膜6的底面厚度Tb为200nm，所以界限侧壁角度为84度，侧壁角度α1比界限侧壁角度大一点点。这时的调制度为60％，是规格下限，记录功率高至30mW。另外，将功率提高到此值以上时抖动变差，并且调制度也未提高。此外，使侧壁角度α1为85度时，角度非常陡峻，是喷射成型时将基板脱模的极限。
(比较例5)在比较例5中，除使侧壁角度α1小至45度，以及使反射膜6的底面厚度Tb薄至30nm外，其他方面制作得与实施例1的相同。由于减小了反射膜6的底面厚度Tb，所以界限侧壁角度也小至48度，但在本比较例5中，由于侧壁角度α1为45度，所以它低于界限侧壁角度。测定结果是调制度为59％，不满足规格值，记录功率也升高至30mW。另外，将记录功率提高到此值以上时只是抖动变差。
(比较例6)在比较例6中，除使侧壁角度α1小至45度，并且使反射膜6的底面厚度Tb薄至28nm外，其他方面制作得与实施例1的相同。由于减小了Tb，所以界限侧壁角度也小至44度，侧壁角度α1(45度)超过了界限侧壁角度。测定结果是调制度为58％，略微低于60％的规格值。另外，反射率为17.0％，低于18％的规格值，可知不能使用它。反射率之所以低于规格值被认为是由于Tb过于小。
(比较例7)在比较例7中，除使反射膜6的底面厚度Tb为110nm，使侧壁角度α1为85度外，其他方面制作得与实施例1的相同。由于使反射膜6的底面厚度Tb为110nm，所以界限侧壁角度为80度。在本实施例7中，调制度为58％，低于规格下限，记录功率也高至28mW。另外，将记录功率提高到此值以上时只是抖动变差，调制度不增高。尽管侧壁角度α1大于界限侧壁角度，但也得不到调制度的原因被认为是，虽将沟槽侧面的反射膜厚抑制到了界限以下，但沟槽底面的反射膜厚度大，因此，从沟槽底面的反射膜散出的热量较多。
(比较例8)
在比较例8中，除使反射膜6的底面厚度Tb为25nm，使侧壁角度α1为70度外，其他方面制作得与实施例1的相同。由于使反射膜6的底面厚度Tb薄至25nm，所以界限侧壁角度为37度，侧壁角度α1对界限侧壁角度十分富裕。在本实施例8中，调制度为70％，是足够的，记录功率为19.2mW，也是合适的值。但反射率为17.7％，低于规格值。
(比较例9)在比较例9中，除使反射膜6的底面厚度Tb为100nm，使侧壁角度α1为75度外，其他方面制作得与实施例1的相同。由于使Tb为100nm，所以界限侧壁角度为78度，侧壁角度α1低于界限侧壁角度。因此，侧壁的反射膜厚度B大，调制度为25％，极端地低，记录功率也高至33mW。另外，将记录功率提高到此值以上时也只是抖动变差，调制度不增高。
(比较例10)在比较例10中，除使反射膜6的底面厚度Tb为80nm，使侧壁角度α1为55度外，其他方面制作得与实施例1的相同。由于使Tb为80nm，所以界限侧壁角度为76度，侧壁角度α1大大低于此界限侧壁角度。因此，侧壁上的反射膜的厚度计算值厚至46nm。其结果是，调制度为18％，极端地低，记录功率也高至38mW。另外，将功率提高到此值以上时也只是抖动变差，调制度不增高。
权利要求
1.一种光记录介质，其特征在于，包含第1层，具备第1透光性基板，该第1透光性基板具有对于记录或再生光的入射面为凸部的第1岸台和对于记录或再生光的入射面为凹部的第1沟槽，和第1记录层，该第1记录层由在该第1透光性基板上形成的有机色素构成；第2层，具备第2透光性基板，该第2透光性基板具有第2岸台和第2沟槽、反射膜，在该第2透光性基板上形成、和第2记录层，该第2记录层由在该反射膜上形成的有机色素构成；以及中间贴合层，以所述第1岸台与所述第2沟槽相对，所述第1沟槽与所述第2岸台相对，并且所述第1和第2记录层被所述第1和第2透光性基板相夹的方式将所述第1层与所述第2层进行贴合，当设在所述第2沟槽的底面形成的所述反射膜的厚度为Tb，设通过所述第2岸台的上表面的面与所述第2沟槽的侧壁所成的角度为α1时，满足α1≥cos-1(20/Tb)的关系。
2.如权利要求1所述的光记录介质，其特征在于所述反射膜的厚度为Tb满足30nm≤Tb≤100nm。
全文摘要
本发明提供即使对L1层进行沟槽内记录也能确保足够的记录特性的光记录介质。用中间贴合层(4)将L0层与L1层进行贴合制成光记录介质D。L1层通过在具有岸台(7L)和沟槽(7G)的基板(7)上依次形成反射膜(6)、记录层(5)而得到。对基板(7)的制作使得当设通过岸台上表面(7La)的面(7La1)与沟槽的侧壁(7Gb)所成的角度为侧壁角度α1，设在沟槽底面(7Ga)形成的反射膜(6)的厚度为Tb时，满足α1≥cos
文档编号G11B7/24GK1627404SQ200410100690
公开日2005年6月15日 申请日期2004年12月8日 优先权日2003年12月8日
发明者松本郁夫, 德井健二, 下舞贤一, 田畑浩, 米原和男 申请人:日本胜利株式会社