光盘装置的制作方法

文档序号:6777030阅读:119来源:国知局
专利名称:光盘装置的制作方法
技术领域
本发明涉及至少进行向光盘上记录数据或从光盘上再现数据中的一个 的光盘装置。
背景技术
现在,参照图5 图8,讲述现有技术的光盘装置例子。这种现有技术 的例子,见专利文献l。
首先,参照图5。图.5 (a)是表示光盘装置的现有技术的例子的结构 的剖面图,图5 (b)是表示其光源周边部的侧面(垂直于图5 (a)的纸面 的面)的图形。
.在图5 (a)及图5 (b)所示的现有技术的光盘装置中,安装在光检出 基板9上的半导体激光器等光源1发射的波长入的激光la,用安装在光检 出基板9上的反射镜10反射后,被视准透镜4变换成将直线7作为光轴的 平行光。
将直线7作为光轴的平行光,透过偏振光性全息图基板2后,在1/4 波长板3的作用下,由直线偏振光(S波或P波)变换成圆偏振光。该圆偏 振光,被焦点距离f的物镜5聚光,从而在光盘6的信号面6a上聚焦。
由信号面6a反射的光,经过物镜5后,被1/4波长板的3变换成直线 偏振光(S波或P波)。该直线偏振光射入偏振光性全息图基板2上的全息图面2a后,就被衍射,分岔成将光轴7作为对称轴的1次衍射光8'、 一l 次衍射光8"。分岔光(衍射光)经过视准透镜4后被聚光,射入光检出基 板9上的检出面9a。
1/4波长板的3,在偏振光性全息图基板2上构成, 和物镜5—体移动。
检出面9a,大致位于视准透镜4的焦平面(即光源l的假想发光点位 置)。在光盘6的信号面6a中,沿着盘旋转方向的导向槽或坑列,以间距 A的间隔,在盘径方向上排列。
光轴7在光源1和视准透镜4之间的空间中,与视准透镜4的中心轴 及其延长线一致,但是在视准透镜4和光盘6的信号面6a之间的空间中, 却与物镜5的中心轴及其延长线一致
图6 (a)表示即将射入上述光盘装置中的全息图面2a之前的反射光在 与光轴7正交的平面上的光分布。图6 (b)表示对于该反射光的光分布而 言的沿着盘径方向的断面上的光强度。
图6 (a)所示的x轴、y轴,分别与盘径方向、旋转方向对应。光轴7 通过x轴和y轴交点O。
在图6 (a)中,光束被用光盘6的信号面6a反射时,在光盘6的信号 面6a中的间距A的周期结构的作用下,产生衍射。即将射入全息图面2a 之前的反射光,其0次衍射光11和1次衍射光lla部分重叠的同时,0次 衍射光11和一l次衍射光lib也部分重叠。
各衍射光的中心,在盘径方向(x轴方向)只位移d,成为物镜5的开 口 5a的外侧的光(半径r〉r0的区域,r0是物镜5的开口半径)被遮光的 光分布。但是,l次衍射光lla向x轴的+侧位移,一l次衍射光llb向一 侧位移,使用光源1发射的波长A 、物镜5的焦点距离f (=rO/NA, NA是 物镜5的开口数)、光盘6的信号面6a上周期结构的间距A,可以用下列公式决定该位移量d。
(公式1)<formula>formula see original document page 6</formula>
0次衍射光和士l次衍射光的强度之间的相位关系,取决于信号面6a 中的导向槽的形状(间距、槽宽、槽深等)及聚光点对于导向槽而言的位 置(对于导向槽中心而言的跑偏量及散焦量)。这些光互相重叠,由于干涉 而产生的反射光的光分布,也取决于导向槽的形状、跑偏量及散焦量。
光源1发射的激光la的强度分布,通常成为高斯分布,在物镜5位于 基准位置的情况下,被调整成往路时的光分布的强度中心位于x=y=0的位 置。反射光的0次衍射光成分,与将该高斯分布光轴反转的分布一致,衍 射光能够重叠的反射光的光分布,也在跑偏为零时往往成为接近于高斯分 布的分布。可是,因为实际上存在调整误差等,所以反射光的光分布对于 原点而言成为非对称的强度分布,图6 (b)的曲线13,沿着该模式描绘曲 线。进而,在实际的高斯分布中,存在相当大的不匀, 一部分区域的光量 有时小(或大)。另外,由于透镜及盘基材表面等附着的灰尘等的作用,反 射光的分布也产生不匀。图6 (a)的区域12相当于它,如图6 (b)的曲 线13a所示,作为与周边部相比强度弱的区域发挥作用。进而,伴随着对 于光盘的跟踪控制,物镜5沿着光盘直径方向位移后,反射光的光分布成 为朝着相反方向位移的曲线13'的分布。
图7表示出全息图面2a产生的光分割。全息图面2a不需要与光轴7 正交,但是在这里作为正交讲述。x轴、y轴,分别与盘径方向、旋转方向 对应,光轴7通过其交点0。
如图7所示,全息图面2a被分割线15a、 15b、 15c分割成6个区域14a、 14al、 14a2、 14b、 14bl、 14b2。用光盘6的信号面6a反射的光中,输入全 息图面2a的光,在各自的区域中被分岔,形成分岔光。各分岔光的光量,被检出面9a上的光检出器独立检出。假设各检出光量分别为S14a、 S14al、 S14a2、 S14b、 S14bl、 S14b2。
分割线15a沿着光盘旋转方向(y轴方向)等分割0次衍射光11,分 割线15b、 15c以选择土l次衍射光lla、 llb不重叠的区域的形式,沿着盘 径方向(x轴方向)分割0次衍射光11的外缘附近。演算来自光检出器的 检出信号后,生成以下的2个信号。
(公式2) <formula>formula see original document page 7</formula> (公式3)
<formula>formula see original document page 7</formula>
对于光盘6的信号面6a上的导向槽(或坑列)而言的跟踪误差信号TE, 使用系数值k,可以用下式求出。
(公式4) <formula>formula see original document page 7</formula>
物镜5伴随着对导向槽的跟踪控制,与光盘的径向跳动同步,沿着直 径方向位移。因此,反射光的分布也如图6 (b)所示,从曲线13移向曲线 13'。其影响反映给TE1、 TE2。
一般来说,对于光盘的导向槽而言的跑偏,使0次衍射光和土1次衍射 光的相位信息变化。因此,在这些衍射光干涉的区域,光强度产生变化。 这样,与(公式2)包含0次衍射光、±1次衍射光的干涉区域不同,(公 式3)是只有0次衍射光的区域,所以TE1包含关于跑偏的信息,而TE2 却不包含。就是说,TE2只包含透镜位移的信息。这样,适当选择系数值k 后,能够生成不受透镜位移影响的跟踪误差信号。图8表示出其它的现有技术的例子中的全息图面2a产生的光分割。
在这里,x轴、y轴也分别与盘径方向、旋转方向对应,光轴7通过其 交点O。全息图面2a被分割线15a、 15d、 15e分割成4个区域14a、 14al、 14b、 14bl。射入全息图面2a的反射光,在各自的区域中被分岔,其光量 被检出面9a上的光检出器独立检出。假设各检出光量分别为S14a、 S14al、 S14b、 S14bl。分割线15a沿着光盘旋转方向(y轴方向)等分割0次衍射 光11,分割线15d、 15e以选择士l次衍射光lla、 lib不重叠的区域的形式, 沿着±1次衍射光lla、 llb的外缘,分割0次衍射光11的y轴附近的区域。
演算来自光检出器的检出信号后,根据(公式2)及以下所示的(公式 5),生成2个信号TE1、 TE2。
(公式5) TE2=S14al — S14bl
对于光盘6的信号面6a上的导向槽(或坑列)而言的跟踪误差信号TE, 使用系数值k,可以用上述(公式4)求出。和图7的例子一样,TE1受 到透镜位移和跑偏的影响,而TE2是只有0次衍射光的区域,使用只受到 透镜位移的影响。这样,适当选择系数值k后,能够根据(公式4)生成不 受透镜位移影响的跟踪误差信号。
专利文献1: JP特开平9—223321号公报
在上述现有技术的光盘装置中,存在着以下问题。
在图7所示的现有技术的例子中,用与TE2的检出有关的区域14al、 14a2、 14bl、 14b2的反射光的面积,与用与TE1的检出有关的区域14a、 14b的反射光的面积相比,非常小(1/20 1/30左右)。所以,TE2的信号 电平,与TE1的信号电平相比,非常小,构成(公式4)的系数值k,成为 非常大的值(例如20 30左右)。这时,参与信号TE2的很小的干扰成分(反射光的分布不匀的影响等),被按照系数值k的量放大,由(公式4) 导致的TE信号由于干扰信号而非常紊乱。
另一方面,在图8所示的现有技术的例子中,由于用与TE2的检出有 关的区域14al、 14bl的反射光的面积增大,所以构成(公式4)的系数值 k,能够成为比较小的值(例如5 10左右)。可是如图6 (b)所示,存在 伴随着透镜位移而产生的反射光的光分布的变化(在曲线13和曲线13'之 间的变动等)时,分布斑点的区域12就沿着x轴跨越与TE2的检出有关的 区域14al及14bl。其结果,较大的干扰容易外加给TE2。
另外,光盘6的信号面6a上的周期结构的间距A的变化,使士l次衍 射光的中心位置也沿着x轴产生若干变动,所以还存在着土l次衍射光lla、 lib的外缘跨越分割线15d、 15e的情况。这时,关于跑偏的信息就混入TE2, 与根据(公式4)的TE信号的跟踪误差有关的振幅(检出灵敏度)将产生 很大的衰减。因此,现有技术的例子都深受反射光的分布不匀的影响,或 者使信号的输出衰减,所以难以生成不受透镜位移影响的稳定的跟踪误差 信号
发明内容

本发明就是为了解决上述问题而研制的,其目的在于提供不容易受到 反射光的分布不匀的影响、能够生成不受透镜位移影响的稳定的跟踪误差 信号的光盘装置。

发明内容
采用本发明的光盘装置,是至少进行向光盘上记录数据或从光盘上再 现数据中的一个的光盘装置,具备光源(该光源放射光束)、物镜(该物镜 将所述光束聚光的开口半径为rO)、光分岔元件(该光分岔元件将用所述光 盘反射的所述光束分成多个分岔光)、光检出器(该光检出器被射入所述多 个分岔光的至少一部分,生成与射入的各分岔光的光量对应的信号)和遮光部(该遮光部遮挡所述光束的一部分);所述遮光部,在垂直于所述物镜 的中心轴的假想平面上,规定包含与所述光盘的直径方向平行的x轴及垂 直于x轴的y轴的xy坐标时,使所述光束不通过在所述假想平面上的被满 足I x I 〉a、 I y I 〉b及a2+b2々02关系式(式中a、 b是正实数)的坐 标(x, y)定义的区域。
在理想的实施方式中,使所述光源放射的光束的波长为A、所述物镜 的焦点距离为f、所述光盘的导向槽及坑列的直径方向的间距为A时,所述 正实数a满足A/2入一0.04<a/f< A /2 X的关系。
在理想的实施方式中,所述光分岔元件,分岔所述光束中射入所述假 想平面上的满足y〉b而且xX)的区域和满足y〉b而且x〈0的区域的部分; 将所述光束中射入各区域的部分的光量的差信号,用于跟踪误差信号的修 正。
在理想的实施方式中,所述光分岔元件,分岔所述光束中射入所述假 想平面上的满足y〈一b而且xX)的区域和满足y〈一b而且x〈0的区域 的部分;将所述光束中射入各区域的部分的光量的差信号,用于跟踪误差 信号的修正。
在理想的实施方式中,所述光分岔元件,分岔所述光束中射入所述假 想平面上的满足iyl〈b而且x〉0的区域和满足lyl〈b而且x〈0的区域的部 分;将所述光束中射入各区域的部分的光量的差作为信号TE1,将射入满 足y〉b而且xX)的区域和满足y^而且x〈0的区域的部分的差信号作为 TE2时,生成利用TE1—kXTE2的演算公式(k为常数)表述的跟踪误差 信号。
在理想的实施方式中,所述光分岔元件,分岔所述光束中射入所述假 想平面上的满足iyl〈b而且xX)的区域和满足lyl〈b而且x〈0的区域的部 分;将所述光束中射入各区域的部分的光量的差作为信号TE1,将射入满足y〈一b而且x〉0的区域和满足y〈一b而且x〈0的区域的部分的差信 号作为TE2时,生成利用TE1—kXTE2的演算公式(k为常数)表述的跟 踪误差信号。
在理想的实施方式中,所述光分岔元件,分岔所述光束中射入所述假 想平面上的满足ly 1〉b而且xX)的区域和满足ly 1〉b而且x〈0的区域的部 分;将所述光束中射入各区域的部分的光量的差信号,用于跟踪误差信号 的修正。
在理想的实施方式中,所述光分岔元件,分岔所述光束中射入所述假 想平面上的满足lyl〈b而且xX)的区域和满足lyl〈b而且x〈0的区域的部 分;将所述光束中射入各区域的部分的光量的差作为信号TE1,将射入满 足lyl 〉b而且x〉0的区域和满足ly —b而且x〈0的区域的部分的差信号作 为TE2时,生成利用TE1—kXTE2的演算公式(k为常数)表述的跟踪误
差信号。
采用本发明后,能够用沿着透镜移动方向的分割线划分,而且能够确 保士1次衍射光不重叠的区域。因此,不容易受到反射光的分布不匀的影响、 能够生成不受透镜位移影响的稳定的跟踪误差信号。进而,即使有光盘的 导向槽的间距不匀的情况,也不容易混入士l次衍射光的重叠区域,所以能 够抑制跟踪误差信号的检出灵敏度劣化。



图1 (a)是表示采用本发明的光盘装置的实施方式的结构的剖面图, (b)是表示其光源周边部的侧面(垂直于(a)的纸面的面)的图形。 图2是表示在本实施方式中的遮光掩模16的遮光图案的图形。 图3是表示本实施方式中即将射入全息图面2a之前的反射光在与光轴 7正交的平面上的光分布的图形。
图4是表示本实施方式中的利用全息图面2a进行光分割的方式的图形。
图5 (a)是表示光盘装置的现有技术的例子的结构的剖面图,图5 (b) 是表示其光源周边部的侧面(垂直于图5 (a)的纸面的面)的图形。
图6 (a)表示即将射入上述光盘装置中的全息图面2a之前的反射光在 与光轴7正交的平面上的光分布。图6 (b)表示对于该反射光的光分布而 言的沿着盘径方向的断面上的光强度。
图7是表示第1现有技术的例子中的利用全息图面2a进行光分割的方 式的图形。
图8是表示第2现有技术的例子中的利用全息图面2a进行光分割的方 式的图形。
1—光源;2—偏振光性全息图基板;2a—全息图面;3—1/4波长板;4
—视准透镜;5—物镜;6—光盘;6a—信号面;7—光轴;8, 一1次衍射光; 8" —一l次衍射光;9一光检出基板;9a—检出面;IO—反射镜;16—遮光
掩模;16a、 16b、 16c、 16d—遮光区域。
具体实施方式

本发明的光盘装置,具备遮挡光束的一部分的遮光部,该遮光部遮挡 通过物镜的光束的特定区域。该所谓"特定区域",能够使用垂直于物镜的 中心轴的假想平面规定。首先,在该假想平面上,规定包含与光盘的直径 方向平行的x轴及垂直于x轴的y轴的xy坐标。使射入该假想平面的光束 的断面半径为r时,本发明中的遮光部能够发挥下述作用遮挡满足lxl 〉a而且I y I >13的区域。在这里,a、 b是正实数,满足a^b2 <r02的关系 式。
本发明的光盘装置,例如在物镜和光源之间具备这种遮光部后,能够 解决上述现有技术的问题。
(实施方式)下面,参照图1 图4,讲述采用本发明的光盘装置的实施方式。
首先,参照图1 (a)及(b)。图1 (a)表示本实施方式中的光盘装置 的结构,图1 (b)表示其光源周边部的侧面(垂直于图1 (a)的纸面的面)。
在本实施方式的光盘装置中,安装在光检出基板9上的半导体激光器 等光源1发射的波长入的激光la,用安装在光检出基板9上的反射镜10反 射后,被视准透镜4变换成将直线7作为光轴的平行光。
将直线7作为光轴的平行光,透过偏振光性全息图基板2后,在1/4 波长板3的作用下,由直线偏振光(S波或P波)变换成圆偏振光。该圆偏 振光的一部分,被遮光掩模16截断,其余的部分,被焦点距离f的物镜5 聚光,从而在光盘6的信号面6a上聚焦。
用信号面6a反射的光,经过物镜5,被遮光掩模16截断光束的一部分 后,被1/4波长板的3变换成直线偏振光(S波或P波)。该直线偏振光射 入偏振光性全息图基板2上的全息图面2a后,就被衍射,分岔成将光轴7 作为对称轴的1次衍射光8,、 一l次衍射光8"。分岔光(衍射光)经过视 准透镜4后被聚光,射入光检出基板9上的检出面9a。 1/4波长板的3, 在偏振光性全息图基板2上构成,和物镜5—体移动。
检出面9a,大致位于视准透镜4的焦平面(即光源1的假想发光点位 置)。在光盘6的信号面6a中,沿着盘旋转方向的导向槽或坑列,以间距 A的间隔,在盘径方向上排列。
光轴7在光源1和视准透镜4之间的空间中,与视准透镜4的中心轴 及其延长线一致,但是在视准透镜4和光盘6的信号面6a之间的空间中, 却与物镜5的中心轴及其延长线一致。
遮光掩模16,可以在透明基板上涂敷金属膜及电介质多层膜,再在其一部分上布图后形成。
图2是表示在本实施方式中采用的遮光掩模16的遮光图案的图形。遮 光掩模16不需要与光轴7正交,但是在这里作为正交讲述。
图2中的x轴、y轴,分别与盘径方向、旋转方向对应,点0是光轴7 和遮光掩模表面的交点。图中,虚线的圆形表示射入的遮光掩模16的光束 的外形5a。光束外形5a,是用光盘6的信号面6a反射、经过物镜5后射入 遮光掩模16的光束的外形,取决于物镜5的开口径。
遮光掩模16中的方形的区域16a、 16b、 16c、 16d,是遮光性区域,由 金属膜及遮光性的电介质多层膜形成。以外的区域,能够透过光。这些遮 光区域16a、 16b、 16c、 16d,和光束外形5a的一部分重叠。因此,射入遮 光掩模16的光束中,关于点0位于45度、135度的方位的4个角的部分 被遮挡。使用系数a、 b后,可以用下述公式表示该遮光掩模16中的遮光 区域。 (公式6)
<formula>formula see original document page 14</formula>
在这里,系数a是大致接近用(公式l)给予的值d的l/2的值,但是 不大于d/2。此外,由于能够尽量使系数a越大开口面积就越大地设定,所 以例如根据(公式l)最好是下列公式的范围。 (公式7)
<formula>formula see original document page 14</formula>
在公式7的(A/2A—0.04)中,作为在设计上可以允许的大致目标, 从第1项的(A/2入)中减去0.04。值0.04是比较有富余的值,可以设定 成O.Ol及0.02。
图3是表示本实施方式中即将射入全息图面2a之前的反射光在与光轴 7正交的平面上的光分布的图形。x轴、y轴,分别与盘径方向、旋转方向 对应,光轴7通过其交点0。
如图3所示,在光盘6的信号面6a中的间距A的周期结构的作用下, 反射光产生衍射光。即将射入全息图面2a之前的反射光中,在0次衍射光 11上,l次衍射光lla、 一l次衍射光llb重叠。因此,可以获得物镜5的 开口 5a的外侧的光(半径r〉r0的区域)及被遮光掩模16的遮光域遮挡的 光分布。0次衍射光11的光束的断面形状,由于在往路中被遮光掩模16遮 光,所以(公式6)的区域被遮光。1次衍射光lla、 一l次衍射光lib的光 束的断面形状,也与此一致,而且各衍射光的中心只向盘径方向(x轴方向) 位移d。这样,如用椭圆部17a、 17b、 17c、 17d所示,在反射光中,l次 衍射光lla、 一l次衍射光lib不与反射光重叠,只有0次衍射光11的区域扩大。
图4是表示本实施方式中的全息图面2a产生的光分割的图形。全息面 2a不需要与光轴7正交,但是在这里作为正交讲述。
x轴及y轴,分别与盘径方向及旋转方向对应,光轴7通过其交点0。 全息图面2a被分割线15a、 15b、 15c分割成6个区域14a、 14al、 14a2、 14b、 14bl、 14b2,射入全息图面2a的反射光,在各自的区域中被分岔, 其光量被检出面9a上的光检出器独立检出。假设各检出光量分别为S14a、 S14al、 S14a2、 S14b、 S14bl、 S14b2。分割线15a沿着光盘旋转方向(y 轴方向)等分割0次衍射光11,分割线15b、 15c以选择士l次衍射光lla、 lib不重叠的区域的形式,沿着盘径方向(x轴方向)分割0次衍射光11 的外缘附近。
演算来自光检出器的检出信号后,根据上述(公式2)、(公式3),生 成两个信号TE1、 TE2。进而,根据(公式4),生成跟踪误差信号TE。
以CD盘为例,使波长入0.80um、光盘6的信号面6a的周期结构的 间距A-1.6um、开口数NA《.5后,根据(公式l),可以获得d^0 (物镜 5的开口半径)。此时,满足a-0.5Xr0、 b-0.6Xr0地设定系数a、 b后,与 第1个现有技术的例子相比,用与TE2的检出有关的区域14al、14a2、14bl、 14b2的反射光的面积,扩大到10倍左右。因此,能够将构成(公式4)的 系数值k设定成3 5左右。这样,参与信号TE2的干扰成分(反射光的分 布不匀的影响等)给予TE信号的影响,也下降到几乎可以忽略的程度。
进而,即使有伴随着图6 (b)所示的透镜位移而产生沿着x轴的反射 光的光分布的变化,也因为沿着y轴的分割线较少,所以分布不匀横穿分 割线的频度较少,给予TE2的影响较少
另外,即使由于光盘6的信号面6a上的周期结构的间距A的细微变化, ±1次衍射光的中心位置沿着x轴产生变动,如果具有富余地使系数a小于 d/2 (例如a- d/2—0.02Xf)后,±1次衍射光也不会被区域14al、 14a2、 14bl、 14b2覆盖,就不会出现关于跑偏的信息混入TE2的情况。这样,根 据(公式4)的TE信号的跟踪误差有关的振幅(检出灵敏度)就不会衰减, 可以生成不受透镜位移影响的稳定的跟踪误差信号。
采用本实施方式后,对物镜的开口的一部分进行遮光后,虽然光的利 用效率有所下降,但是却能够在上述的条件(a=0.5XrO、 b=0.6Xr0)下收 敛到5 8%左右。另外,由于遮光区域将光轴作为中心,位于45度、135 度的方位,0度、90度的方位不会被遮光,所以在光盘信号面上的聚光点 不会向O度、90度的方位(直径方向、旋转方向)扩大。因此,不容易产 生与直径方向的光点直径有关的串扰的增大及与旋转方向的光点直径有关 的再现信号的振幅劣化等与光点直径有关的问题。
在本实施方式的光盘装置中,具备一个光源,但是也可以具备发射的 光束的波长不同的多个光源。例如是发射与CD对应的波长约7S0nm的光束的光源和发射与DVD对应的波长约660nm的光束的光源。这时,遮光 掩模16最好具有波长选择性的掩模图案。就是说,按照装入光盘装置的光 盘的种类,变更发射光束使用的光源时,需要按照光束的波长,变更透镜 的开口数NA。所以,物镜的的开口直径r0,就按照光束的波长变化。这时, 为了确保适当大小的遮光区域,最好形成遮光掩模16,以便使遮光掩模16 的遮光区域按照射入光的波长变化。
例如可以在遮光掩模16上涂敷电介质多层膜,以便遮挡波长约780nm 的射入光、透过约660nm的射入光。这样,装入CD时可以生成不受透镜 位移影响的稳定的跟踪误差信号。另一方面,装入DVD时,由于往路时复 路时都不会被遮光,所以都能够有效地利用光。
综上所述,遮光掩模16及全息图基板2,不需要与光轴7正交。它们 与光轴7正交时,(公式6)的关系就意味着将遮光掩模16的形状垂直地投 影到与光轴7正交的平面(假想平面)上的图形的关系式。就是说,x轴、 y轴被作为该假想平面上的坐标定义。
此外,在本实施方式中,根据区域14al、 14a2、 14bl、 14b2,生成 TE2。但是,还可以根据来自区域14al、 14bl的检出光量S14al、 S14bl或 来自区域14a2、 14b2的检出光量S14a2、 S14b2,生成TE2。这时,虽然带 来信号TE2的光量减少一半、系数值k增加一倍的缺点,但是可以获得以 上述实施方式为标准的效果。
遮光掩模16及全息图基板2,最好和物镜5 —体构成,但是也可以分离。
本发明的光盘装置,不容易受到来自光盘的反射光的分布不匀的影响, 能够生成不受透镜位移影响的跟踪误差信号,所以能够用于各种数据记录 装置及映像音响机器。
权利要求
1、一种光盘装置,进行向光盘上记录数据或由光盘再现数据中的至少一个,所述光盘装置具备光源,该光源放射光束;物镜,该物镜用于将所述光束聚光的开口半径为r0;光分岔元件,该光分岔元件将由所述光盘反射的所述光束分成多个分岔光;光检出器,该光检出器被射入所述多个分岔光的至少一部分,生成与射入的各分岔光的光量对应的信号;和遮光部,该遮光部遮挡所述光束的一部分,所述遮光部,在垂直于所述物镜的中心轴的假想平面上,规定包含与所述光盘的直径方向平行的x轴及垂直于x轴的y轴的xy坐标时,使所述光束不通过在所述假想平面上满足|x|>a、|y|>b及a2+b2<r02关系式的坐标(x,y)所定义的区域,式中a、b是正实数。
2、 如权利要求1所述的光盘装置,其特征在于设所述光源放射的 光束的波长为入、所述物镜的焦点距离为f、所述光盘的导向槽及坑列的 直径方向的间距为A时,所述正实数a满足A/2入一0.04<a/f<A/2X的关 系。
3、 如权利要求1或2所述的光盘装置,其特征在于所述光分岔元 件,分岔所述光束中射入所述假想平面上的满足y〉b且xX)的区域和满 足y〉b且x〈0的区域的部分;将所述光束中射入所述各区域的部分的光量的差信号,用于跟踪误差 信号的修正。
4、 如权利要求1或2所述的光盘装置,其特征在于所述光分岔元 件,分岔所述光束中射入所述假想平面上的满足y〈一b且xX)的区域和 满足y〈一b且x〈0的区域的部分;将所述光束中射入所述各区域的部分的光量的差信号,用于跟踪误差信号的修正。
5、 如权利要求3所述的光盘装置,其特征在于所述光分岔元件,分岔所述光束中射入所述假想平面上的满足l y 1〈b且x:K)的区域和满足 |y|<bix<0的区域的部分;将所述光束中射入所述各区域的部分的光量的差作为信号TE1,将射 入满足y〉b且xX)的区域和满足y〉b且x〈0的区域的部分的差信号作 为TE2时,生成由演算公式TEl—kXTE2表述的跟踪误差信号,其中k 为常数。
6、 如权利要求4所述的光盘装置,其特征在于所述光分岔元件, 分岔所述光束中射入所述假想平面上的满足i y 1〈b且xX)的区域和满足 |yl<bix<0的区域的部分;将所述光束中射入所述各区域的部分的光量的差作为信号TE1,将射 入满足y〈一b且x〉0的区域和满足y〈一b且x〈0的区域的部分的差信 号作为TE2时,生成由演算公式TE1—kXTE2表述的跟踪误差信号,其 中k为常数。
7、 如权利要求1或2所述的光盘装置,其特征在于所述光分岔元 件,分岔所述光束中射入所述假想平面上的满足lyl〉b且xX)的区域和满 足ly—b且x〈0的区域的部分;将所述光束中射入所述各区域的部分的光量的差信号,用于跟踪误差 信号的修正。
8、 如权利要求5所述的光盘装置,其特征在于所述光分岔元件, 分岔所述光束中射入所述假想平面上的满足ly |<b且x〉0的区域和满足 lyi〈b且x〈0的区域的部分;将所述光束中射入所述各区域的部分的光量的差作为信号TE1,将射 入满足l y I > b而且x>0的区域和满足lypb而且x〈0的区域的部分的 差信号作为TE2时,生成由演算公式TE1—kXTE2表述的跟踪误差信号, 其中k为常数。
全文摘要
光盘装置,具备物镜(5),其将光源(1)放射的光束聚光的开口半径为r0;偏振光性全息图基板(2),其将由光盘(6)反射的光束分成多个分岔光;光检出基板(6),其被射入多个分岔光的至少一部分并生成与射入的各分岔光的光量对应的信号;和遮光掩模(16),其遮挡所述光束的一部分。遮光掩模(16)在通过物镜(5)的中心部且垂直于光轴(7)的假想平面上规定包含与光盘(6)的直径方向平行的x轴及垂直于x轴的y轴的xy坐标时,使光束不通过在假想平面上满足|x|>a、|y|>b及a<sup>2</sup>+b<sup>2</sup><r0<sup>2</sup>关系式的坐标(x,y)所定义的区域,式中a、b是正实数。不易受反射光的分布不匀的影响、能生成不受透镜位移影响的稳定的跟踪误差信号。
文档编号G11B7/135GK101292289SQ20068003871
公开日2008年10月22日 申请日期2006年9月19日 优先权日2005年10月18日
发明者百尾和雄, 西胁青儿 申请人:松下电器产业株式会社
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