专利名称：光记录介质的制作方法
技术领域：
本发明涉及在基板上涂布了硬涂剂的光记录介质，特别是在基板上涂布了具有防静电功能的硬涂剂的光记录介质。
背景技术：
近年来，作为用光来记录或者再生信息的光记录介质，例如DVD-RW这样的光盘被应用于各种各样的领域中并得到了广泛普及。作为这样的光盘用基板材料，考虑到成形性、光学特性等，一般使用聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯等热塑性树脂。聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯等热塑性树脂具有批量生产性和成型加工性良好、廉价等优点，尤其是热变形温度较高的聚碳酸酯作为光盘用基板材料利用得最多。但是，使用了热塑性树脂的基板因为表面硬度低，所以存在处理时容易划伤、而且容易带电的缺点。
因此，在平常使用具有由热塑性树脂形成的基板的光盘时，在基板上会出现使用划伤、或者由于带电而附着灰尘等，从而成为记录或者再生时产生错误的原因。为了改善以上情形，考虑在基板表面上形成较高硬度的硬涂层，保护基板表面。
在特开平07-182692号公报(专利文献1)中，记载了一种光盘和光盘制造方法，即在基板的注射成型后，用旋涂法涂布硬涂剂并使其固化，从而在基板的一面上形成硬涂层，之后，用真空成膜装置在与形成了硬涂层的基板的一面相反的一面上形成电介质膜及记录膜、反射膜等。
专利文献1特开平07-182692号公报但是，在发明人用和专利文献1相同的方法在基板的一面上形成硬涂层来制造光盘时，尽管在基板的另一面上形成电介质膜和记录膜、反射膜等的条件是相同的，但和在基板的一面上不设置硬涂层时制造的光盘相比，电介质膜的膜厚变薄了。
如果电介质膜的膜厚相对于需要的膜厚(设计值)超过±5％的误差范围，则不能满足反射率、调制度和数据覆盖(over write)特性等要件。因此，需要在不超过设计值的±5％的误差范围的情况下形成电介质膜的膜厚。
作为可防止因使用在一面上形成了硬涂层的基板而发生电介质膜的膜厚减少的现象的方法，可以考虑下述方法在形成电介质膜后，在基板上形成硬涂层的方法；以及延长电介质膜的成膜时间直至得到需要的膜厚的方法。但是，就在形成电介质膜后在基板上形成硬涂层的方法来说，由于在成膜工序中灰尘附着到基板上所产生的影响，所以和在电介质膜的成膜之前在基板上形成硬涂层相比，成品率下降，因而是不优选的。另外，在延长成膜时间的方法中，因为生产效率下降，所以是不优选的。
如上所述，如果使用首先在一面上形成了硬涂层的基板，在基板的另一面上形成电介质膜和记录膜、反射膜等，则存在的问题是电介质膜的成膜率下降，如果在形成电介质膜后，在基板上形成硬涂层，则存在的问题是成品率下降，如果延长电介质膜的成膜时间，则存在的问题是生产效率下降。
发明内容
因此，为了解决上述问题，本发明的目的是提供即使使用在一面上形成了硬涂层的基板，在基板的另一面上继续形成的各膜的成膜率也不会下降，具有高生产率、耐擦伤性以及防静电性的光记录介质。
为了解决上述问题，本发明提供下面的(a)～(c)。
(a)利用光来记录或者再生信息的光记录介质(D)，其特征在于光记录介质(D)具有基板(1)；在上述基板的一面上形成的硬涂层(1H)；在上述基板的另一面上形成且至少由电介质膜(2)、记录膜(3)和反射膜(5)构成的信息层，上述硬涂层是使防静电性硬涂剂固化而成的，其中所述防静电性硬涂剂包含硬涂剂和作为离子性液体的防静电剂。
(b)上述(a)记载的光记录介质，其特征在于上述硬涂剂的水分含有率为0.05重量％以下。
(c)上述(b)记载的光记录介质，其特征在于该光记录介质以相对于上述防静电性硬涂剂为0.5重量％～6重量％的含有率含有上述防静电剂。
根据本发明，可以得到即使在基板的一面上形成硬涂层、接着在基板的另一面上形成各膜时，也可将各膜的成膜率下降抑制到最小限度、且具有高生产性、耐擦伤性以及防静电性的光记录介质。
图1是表示本发明的一个实施方式的光盘D的层叠结构的图。
图2是表示相对于本实施方式的硬涂剂的水分含有率的第1电介质膜2的成膜率的图。
图3是表示比较例1的光记录介质D的外观变化A1的代替图形的像片。
图4是表示比较例1的光记录介质D的外观变化A2的代替图形的像片。
图5是表示实施例9的光记录介质D的外观变化A1的代替图形的像片。
图6是表示实施例9的光记录介质D的外观变化A2的代替图形的像片。
图7是表示比较例2的光记录介质D的外观变化A1的代替图形的像片。
图8是表示比较例2的光记录介质D的外观变化A2的代替图形的像片。
图9是表示相对于本实施方式的硬涂剂中含有的导电剂的含有率的硬涂层1H的表面的电阻值R1的图。
符号说明1 基板1H 硬涂层2 第1电介质膜3 记录膜4 第2电介质膜5 反射膜6 保护膜7 粘接膜8 基板8B 标签印刷面具体实施方式
图1是表示本发明的一个实施方式的光记录介质D的放大截面图。在光记录介质D中，在基板1的一面上形成有信息层，该信息层由使用透光性无机化合物的第1电介质膜2、使用作为相变化材料的AgInSbTe合金等的记录膜3、使用透光性无机化合物的第2电介质膜4和由Al或Ag合金等构成的反射膜5构成。进一步在信息层上形成有保护膜6、粘接膜7、具有标签印刷面8B的基板8。基板1的另一面被硬涂层1H覆盖。
硬涂层1H是在将基板1成型之后，例如用旋涂法涂布硬涂剂，并通过紫外线照射使硬涂剂固化而形成的。通过在基板1的成型后别间隔时间，尽可能早地涂布硬涂剂，可以减少尘埃附着引起的涂布缺陷，因而是优选的。另外，在使硬涂剂固化时，有照射紫外线或电子束等活性能量线的固化方法，其中采用紫外线的固化方法可以抑制设备成本，对记录膜或者其它膜没有坏影响，所以是优选的。
在本实施方式中使用的硬涂剂包含树脂材料和聚合引发剂，在不损害其性能的范围内还可以添加聚合抑制剂、粘度调整剂和抗氧化剂等其它添加剂。在像本实施方式那样通过紫外线照射使硬涂剂固化的场合，使用1-羟基环己基苯基酮、二乙氧基苯乙酮、二苯甲酮等聚合引发剂。聚合引发剂的量可以根据紫外线照射量和树脂材料适当设定。
另外，为了防止硬涂层1H带电，优选在硬涂剂中适当添加离子性液体作为防静电剂(导电剂)。离子性液体是指仅仅由离子构成的化合物，其具有在室温下是液体这样的特性。也将离子性液体称为常温熔融盐。可以考虑导电效果、相溶性、保存稳定性等来适当选择离子性液体，但考虑到光记录介质的使用和保存环境，具体优选脂肪族类离子性液体、咪唑类离子性液体等。
下面，研究本实施方式的硬涂剂的水分含有率对构成光记录介质D的第1电介质膜2的成膜率的影响。
构成本实施方式的硬涂剂的树脂材料的组成是，季戊四醇三丙烯酸酯为60重量％，甲基丙烯酸异硬脂酯为20重量％，聚丁二醇二丙烯酸酯为10重量％。进而，添加6.5重量％的IRGACURE 500(日本Ciba Geigy株式会社制)作为光聚合引发剂、0.5重量％的叔丁基对苯二酚作为聚合抑制剂，在40℃下充分搅拌后，将混合调整后的产物作为本实施方式的硬涂剂。另外，由于在树脂材料自身中含有极少的水分，所以硬涂剂含有0.02重量％的水分。IRGACURE是チバスペシャルテイケミカルズホ—ルデイングインコ—ポレ—テツド的注册商标。
光记录介质D使用按下述方式制作的产品。在基板1上，利用旋涂法以每分钟8000转的转速涂布硬涂剂3秒钟，通过紫外线照射使其固化，形成厚度为3.5μm的硬涂层1H。此时的紫外线的累计照射量是1000mj/cm2。
在与形成了硬涂层1H的基板1的面相反的面上，使用ZnS·SiO2由溅射法形成膜厚为80nm的第1电介质膜2。接着用同样的方法，使用AgInSbTe合金形成膜厚为20nm的记录膜3，使用ZnS·SiO2形成膜厚为20nm的第2电介质膜4，使用Al形成膜厚为750nm的反射膜5。将从第1电介质膜2到反射膜5作为信息层。
然后，利用旋涂法在反射膜5上以4μm的厚度涂布Sony Chemical株式会社制的紫外线固化树脂(SK5110)，照射累计光量为1000mj/cm2的紫外线使其固化，形成保护膜6。使用粘接膜7，将与基板1同样形成的基板8的形成有标签面8B的面的相反面与保护膜6相对地贴合。
本实施方式中使用的所有光记录介质D在上述条件下形成了基板1、信息层、保护膜6、粘接膜7和基板8。
使用コナクシス公司制的成膜装置(型号名DVD—スプリンタ一)形成各膜，成膜时间(tact time)设定为4秒。在测定形成的第1电介质膜2的膜厚时，使用ステアグ公司制的膜厚测定器(型号名η)，在测定硬涂剂的水分含有率时，使用株式会社A&D制的水分计(型号名MS-70)。
在表1中，示出了使硬涂剂的水分含有率变化时第1电介质膜2的成膜膜厚。另外，在图2中以表1为基础示出了第1电介质膜2相对于硬涂剂的水分含有率的成膜率。利用微量注射器在按上述方法制作的硬涂剂中添加水来使硬涂剂的水分含有率变化。
在硬涂剂中完全不添加水时的水分含有率为0.02重量％，这是构成硬涂剂的树脂材料自身含有的水分量。如果在硬涂剂中添加45μl的水，则水分含有率为0.05重量％，如果添加80μl的水，则水分含有率为0.07重量％。进而，如果添加125μl的水，则水分含有率为0.10重量％，如果添加280μ1的水，则水分含有率为0.20重量％。而且，因为本实施方式的硬涂层1H是对按上述方法涂布在基板1上的硬涂剂照射紫外线使其固化而形成的，所以几乎没有因紫外线照射而引起的水分减少。因此，硬涂层1H以和使用的硬涂剂大致相同的水分含有率含有水分。
第1电介质膜2的成膜率是实际成膜的第1电介质膜2的膜厚相对于期望的膜厚(设计值)即80nm的比率。即如果第1电介质膜2以80nm的膜厚成膜，则成膜率是100％。
表1
从表1和图2可知，如果硬涂剂的水分含有率在0.05重量％以下，则第1电介质膜2的成膜率在96％以上，所以能够将相对于上述设计值的误差抑制在±5％的范围内。如果水分含有率在0.07重量％以上，则第1电介质膜2的成膜率在89％以下，相对于设计值的误差变大。
因此，如果将硬涂剂的水分含有率抑制在0.05重量％以下，则在一面上形成了硬涂层1H的基板1的另一面上成膜的第1电介质膜2能够得到相对于期望膜厚在±5％的误差范围的膜厚，所以能够使反射率、调制度和数据覆盖特性等良好。
接着，在本实施方式的硬涂剂中添加离子性液体作为防静电剂，评价硬涂层1H的防静电效果。离子性液体的定义如上所述。防静电效果是通过评价硬涂层1H表面的电阻值R1和擦拭表面后的硬涂层1H表面的电阻值R2来判断。如果电阻值(R1，R2)都一般在1×1014Ω以下，则可以获得防静电效果。
在实施例1～实施例4以及比较例1中，采用使添加到硬涂剂中的防静电剂的种类变化而在基板1的一面上形成了硬涂层1H的光记录介质D，研究各个硬涂层1H的表面的电阻值R1和擦拭表面后的电阻值R2。硬涂层1H的表面的擦拭使用以50比50的比例混合水和乙醇后的混合液进行10次。
接着，在温度为80℃、湿度为85％的高温多湿环境下(以下，记为80℃85％环境)将分别形成的光记录介质D保存96小时，观察光记录介质D的外观变化A1。也观察在80℃85％环境下保存1000小时后的光记录介质D的外观变化A2。
(实施例1)充分混合97重量％的硬涂剂、和作为防静电剂的3重量％的离子性液体即N，N-二乙基N-甲基(2甲氧基乙基)铵双(三氟甲磺酰)亚胺(以下称为导电剂1)，制作含有3重量％的离子性液体的防静电性硬涂剂，形成硬涂层1H。调制的防静电性硬涂剂的水分含有率为0.02重量％，添加离子性液体没有增加水分含有率。
另外，在本实施方式中，硬涂剂和导电剂的比例(重量％)表示的是相对于防静电性硬涂剂整体的重量的各自的含有率。而且，本实施方式的硬涂层1H是用紫外线照射如上所述涂布在基板1上的防静电性硬涂剂使其固化而形成的，所以基本不存在因紫外线照射引起的水分减少。因此硬涂层1H以和使用的防静电性硬涂剂大致相同的水分含有率含有水分，硬涂剂和导电剂的含有率也大致相同。
使用了防静电性硬涂剂的硬涂层1H的表面的电阻值R1为6.5×1010Ω，使用上述混合液擦拭表面10次后的电阻值R2为6.8×1010Ω。R1、R2中任何一个的电阻值都在1×1014Ω以下，可以获得防静电效果。
而且，观察在80℃85％环境下保存了96小时的光记录介质D的外观变化A1、以及在80℃85％环境下保存了1000小时的光记录介质D的外观变化A2，没有特别的变化。
在表2中示出上述结果。而且，对于以下说明的实施例2～实施例9和比较例1～比较例4的结果，同样也在表2中示出。
表2
(实施例2)制作含有97重量％的硬涂剂和3重量％的离子性液体的三辛基甲基铵双(三氟甲磺酰)亚胺(以下称为导电剂2)的防静电性硬涂剂，形成硬涂层1H。调制的防静电性硬涂剂的水分含有率为0.02重量％。
硬涂层1H的表面的电阻值R1、R2都在1×1014Ω以下，获得了防静电效果。
而且，观察80℃85％环境下的光记录介质D的外观变化A1、外观变化A2，没有特别的变化。
(实施例3)
制作含有97重量％的硬涂剂和3重量％的离子性液体的1-乙基-3-甲基咪唑四氟甲磺酸盐(以下称为导电剂3)的防静电性硬涂剂，形成硬涂层1H。调制的防静电性硬涂剂的水分含有率为0.02重量％。
硬涂层1H的表面的电阻值R1、R2都在1×1014Ω以下，获得了防静电效果。
而且，观察80℃85％环境下的光记录介质D的外观变化A1、外观变化A2，没有特别的变化。
(实施例4)制作含有97重量％的硬涂剂和3重量％的离子性液体的三辛基甲基铵四氟硼酸盐(以下称为导电剂4)的防静电性硬涂剂，形成硬涂层1H。调制的防静电性硬涂剂的水分含有率为0.02重量％。
硬涂层1H的表面的电阻值R1、R2都在1×1014Ω以下，获得了防静电效果。
而且，观察80℃85％环境下的光记录介质D的外观变化A1、外观变化A2，没有特别的变化。
(比较例1)在97重量％的硬涂剂中添加3重量％的季铵盐即N，N-二甲基氨基丙基丙烯酰胺(以下称为导电剂5)并充分混合，制作含有3重量％的4级铵盐的防静电性硬涂剂，形成硬涂层1H。调制的防静电性硬涂剂的水分含有率为0.15重量％。
硬涂层1H的表面的电阻值R1尽管比1×1014Ω小，但擦拭后的电阻值R2比1×1014Ω大，不能获得防静电效果。
而且，观察了80℃85％环境下的光记录介质D的外观变化A1、外观变化A2。图3所示的外观变化A1、图4所示的外观变化A2都观察到了大的斑点状析出物(bleed)。
由表2比较添加了3重量％的实施例1～4和比较例1中使用的导电剂1～5的各防静电性硬涂剂可知，添加了3重量％的导电剂1～4的各防静电性硬涂剂可以得到足以表现防静电效果的表面电阻值R1。其中，如果使用添加了导电剂2的硬涂剂来形成硬涂层1H，则可以得到最小的硬涂层1H表面的电阻值R1和擦拭后的电阻值R2。
接着在实施例5～9以及比较例2～4中，使用电阻值R1和擦拭后的电阻值R2最小的导电剂2，使添加到硬涂剂中的防静电剂(导电剂2)的添加量变化以制作防静电性硬涂剂。使用各防静电性硬涂剂在基板1的一面上形成硬涂层1H，在另一面上于上述条件下形成信息层、保护膜6、粘接膜7和基板8后得到光记录介质D，使用该光记录介质D。
对于各防静电性硬涂剂以和上述相同的方法研究电阻值R1和擦拭后的电阻值R2，观察外观变化A1和外观变化A2。在表2中示出结果。
另外，在本实施方式中，如果使用添加了3重量％的导电剂1～4的防静电性硬涂剂在基板1上形成硬涂层1H，则可以得到足以表现防静电效果的表面电阻值R1，由此可知，导电剂1～4作为硬涂层用防静电剂是有效的。
(实施例5)在98重量％的硬涂剂中添加2重量％的导电剂2并充分混合，制作含有2重量％的离子性液体的防静电性硬涂剂，形成硬涂层1H。调制的防静电性硬涂剂的水分含有率为0.02重量％。
硬涂层1H的表面的电阻值R1、R2都在1×1014Ω以下，获得了防静电效果。
而且，观察80℃85％环境下的光记录介质D的外观变化A1、外观变化A2，没有特别的变化。
(实施例6)
在99重量％的硬涂剂中添加1重量％的导电剂2并充分混合，制作含有1重量％的离子性液体的防静电性硬涂剂，形成硬涂层1H。调制的防静电性硬涂剂的水分含有率为0.02重量％。
硬涂层1H的表面的电阻值R1、R2都在1×1014Ω以下，获得了防静电效果。
而且，观察80℃85％环境下的光记录介质D的外观变化A1、外观变化A2，没有特别的变化。
(实施例7)在99.5重量％的硬涂剂中添加0.5重量％的导电剂2并充分混合，制作含有0.5重量％的离子性液体的防静电性硬涂剂，形成硬涂层1H。调制的防静电性硬涂剂的水分含有率为0.02重量％。
硬涂层1H的表面的电阻值R1、R2都在1×1014Ω以下，获得了防静电效果。
而且，观察80℃85％环境下的光记录介质D的外观变化A1、外观变化A2，没有特别的变化。
(实施例8)在96重量％的硬涂剂中添加4重量％的导电剂2并充分混合，制作含有4重量％的离子性液体的防静电性硬涂剂，形成硬涂层1H。调制的防静电性硬涂剂的水分含有率为0.02重量％。
硬涂层1H的表面的电阻值R1、R2都在1×1014Ω以下，获得了防静电效果。
而且，观察80℃85％环境下的光记录介质D的外观变化A1、外观变化A2，没有特别的变化。
(实施例9)
在94重量％的硬涂剂中添加6重量％的导电剂2并充分混合，制作含有6重量％的离子性液体的防静电性硬涂剂，形成硬涂层1H。调制的防静电性硬涂剂的水分含有率为0.02重量％。
硬涂层1H的表面的电阻值R1、R2都在1×1014Ω以下，获得了防静电效果。
而且，观察80℃85％环境下的光记录介质D的外观变化A1、外观变化A2。如图5所示，外观变化A1没有特别的变化，但外观变化A2如图6所示，观察到了小的斑点状的析出物(bleed)。
(比较例2)在92重量％的硬涂剂中添加8重量％的导电剂2并充分混合，制作含有8重量％的离子性液体的防静电性硬涂剂，形成硬涂层1H。调制的防静电性硬涂剂的水分含有率为0.02重量％。
硬涂层1H的表面的电阻值R1、R2都在1×1014Ω以下，获得了防静电效果。
而且，观察80℃85％环境下的光记录介质D的外观变化A1、外观变化A2。如图7所示，外观变化A1观察到了大的斑点状的析出物(bleed)，如图8所示，外观变化A2观察到了同样大小的析出物。
(比较例3)不添加防静电剂，仅仅由硬涂剂形成硬涂层1H。硬涂剂的水分含有率为0.02重量％。
硬涂层1H的表面的电阻值R1、R2都比1×1014Ω大，不能获得防静电效果。
而且，观察80℃85％环境下的光记录介质D的外观变化A1、外观变化A2，没有特别的变化。
(比较例4)在99.75重量％的硬涂剂中添加0.25重量％的导电剂2并充分混合，制作含有0.25重量％的离子性液体的防静电性硬涂剂，形成硬涂层1H。调制的防静电性硬涂剂的水分含有率为0.02重量％。
硬涂层1H的表面的电阻值R1、R2都比1×1014Ω大，不能获得防静电效果。
而且，观察80℃85％环境下的光记录介质D的外观变化A1、外观变化A2，没有特别的变化。
基于从以上的实施例1～9以及比较例1～4求出的结果，在图9中示出相对于各防静电性硬涂剂中含有的导电剂的含有率的硬涂层1H表面的电阻值R1。
从图9可知，如果离子性液体即导电剂2的含有率比0.5重量％小，则电阻值R1比1×1014Ω大。因此如果象比较例3和4那样，防静电性硬涂剂中含有的导电剂2的含有率低于0.5重量％，则硬涂层1H的表面的电阻值R1、R2比1×1014Ω大，不能期待防止带电的效果。
另外，从图9可知，如果导电剂2的含有率在0.5重量％以上，则硬涂层1H的表面的电阻值R1、R2小于1×1014Ω，可以获得防静电效果。
但是，如果象比较例2那样，导电剂2的含有率变大为8重量％，则将光记录介质D保存在80℃85％环境下时可以观察到外观变化。在比较例2中，如图8所示，在80℃85％环境下保存1000小时的场合(外观变化A2)观察到了大的斑点状析出物(bleed)。如果产生析出物，则成为错误率增加和跟踪偏离的原因，记录和再生变得困难。
而且，在使用导电剂的含有率为6重量％的防静电性硬涂剂的实施例9中，如图6所示，尽管在外观变化A2中观察到了小的斑点状析出物，但对记录再生的影响极小。
另外，如果象比较例1那样，使用含有以前作为导电剂使用的季铵盐的防静电性硬涂剂，则因为季铵盐的吸湿性比离子性液体强，所以防静电性硬涂剂的水分含有率成为0.15重量％，大大地超出了0.05重量％。而且，如表2所示，第1电介质膜2的成膜率是78.8％，相对于期望膜厚(80nm)不在±5％的误差范围内。在比较例1中，如图3、4所示，在80℃85％环境下保存了96小时时的外观变化A1中和保存了1000小时时的外观变化A2中都观察到了大的斑点状析出物(bleed)。
由以上内容可知，如果在本实施方式的防静电性硬涂剂中，如果相对于防静电性硬涂剂的整体重量以0.5重量％～6重量％的含有率含有作为防静电剂(导电剂)的离子性液体，则硬涂层1H的表面的电阻值R1和擦拭表面后的硬涂层1H的表面的电阻值R2为1×1014Ω以下，可以获得防静电效果。而且，在80℃85％环境下保存了96小时的光记录介质D的外观变化A1以及在80℃85％环境下保存了1000小时的光记录介质D的外观变化A2都不会观察到斑点状的析出物。
本实施方式的光记录介质D是将相变化材料用于记录膜3的改写型光记录介质，但光记录介质D的形态并不局限于此，还可以将本实施方式的硬涂剂适用于具有使用色素材料形成的追加记录型记录膜的光记录介质、和具有再生专用记录膜的光记录介质。
权利要求
1.利用光来记录或者再生信息的光记录介质，其特征在于该光记录介质具有基板；在所述基板的一面上形成的硬涂层；在所述基板的另一面上形成且至少由电介质膜、记录膜和反射膜构成的信息层，所述硬涂层是使防静电性硬涂剂固化而成的，其中所述防静电性硬涂剂包含硬涂剂和作为离子性液体的防静电剂。
2.根据权利要求1记载的光记录介质，其特征在于所述硬涂剂的水分含有率为0.05重量％以下。
3.根据权利要求2记载的光记录介质，其特征在于该光记录介质以相对于所述防静电性硬涂剂为0.5重量％～6重量％的含有率含有所述防静电剂。
全文摘要
提供一种即使使用在一面上形成了硬涂层的基板，在基板的另一面上继续形成的各膜的成膜率也不会下降，并具有高生产率、耐擦伤性以及防静电性的光记录介质。光记录介质(D)具有在一面上形成了硬涂层(1H)的基板(1)。在基板(1)的另一面上形成了至少由第1电介质膜(2)、记录膜(3)和反射膜(5)构成的信息层。硬涂层(1H)是使包含硬涂剂和作为离子性液体的防静电剂的防静电性硬涂剂固化而形成的。
文档编号G11B7/254GK101064141SQ20071010183
公开日2007年10月31日 申请日期2007年4月25日 优先权日2006年4月25日
发明者平间信 申请人:日本胜利株式会社