全息记录介质及全息记录装置的制作方法

专利名称：全息记录介质及全息记录装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种全息记录介质及全息记录装置。

背景技术：
近年来，作为高密度地记录信息的技术，正在开发利用有全息术的光信息记录装置(全息记录装置)。全息记录是通过如下方法来进行的，即，使输入了信息的信息光和与该信息光相同波长的参照光在记录介质中的记录层上叠加，记录此时产生的干涉条纹。在使被记录的信息再生时，将与记录时的参照光相同波长的光以相同角度照射到干涉条纹上，由此，在干涉条纹中使与信息光同等的光反射。
全息记录装置与目前的CD或DVD等位记录方式的光记录方式不同，每一个记录点的信息量大，可期待记录再生速度的提高。另外，由于全息具有敏锐的位置选择性、角度选择性，因此，对于相同的记录材料部分，通过变化角度或位置，可以进行记录多个不同的信息的多重记录，可以利用该特性而大幅度提高记忆容量。
但是，在全息记录中，随着多重记录的进行，记录材料发生反应，慢慢地记录材料发生收缩。因此存在如下问题随着在记录层上记录信息，干涉条纹的方向发生变化，即使在与记录时相同的条件下照射参照光，得到的再生信号的品质也会下降。
目前，为了回避该问题，需要将因记录及定影时的光照射而导致的记录材料的收缩抑制到很低。作为向光致聚合物材料记录的原理，使用光致聚合物中的单体的聚合反应时，难以避免记录材料的收缩。因此，正在进行如下研究，即，通过使用聚合收缩小的单体种类，且使其在光致聚合物中的添加量最佳化，将收缩率抑制在0.1％以下(非专利文献1、2)。
另外，已知通过使光致聚合物中所含有的单体的添加量增加，记录容量(M/#)增加(非专利文献3)，但同时收缩率也增加，因此，实际上记录材料中可以添加的单体的量受到限制。
而且，作为改善因记录层的收缩变化而导致的信号品质下降的方法，有如下提案通过调整再生时读取参照光(读取光)的角度或波长来进行补偿的方法、或控制记录点的温度等的方法(专利文献1、非专利文献4、5)。但是，在各个记录介质中，记录时的曝光量不同，记录后发生的收缩经历也不同。因此，在以这些方式读取时使条件最佳化的方法，难以根据各个介质进行最佳化。其结果，即使利用上述方法，为了进行实际的记录再生，也必须将收缩变化量的范围控制在一定的范围内、优选以最大计为0.1％以下的范围。
专利文献1日本特开2005-321597号公报
非专利文献1“全息数据存储”IBM学报研究和开发44(3)，pp.341-368
非专利文献2“Holographic recording properties in thick films ofULSH-500 photopolymer”Proceedings of SPIE-The InternationalSociety for OpticalEngineering 3291，pp.89-103
非专利文献3“Recordingmedia that exhibit high dynamic rangefor digital holographic data storage”Optics letters Vol.24，No.7，pp.487-489
非专利文献4“Evaluation of polycarbonate substrate hologramrecordingmedium regarding implication of birefringence and thermalexpansion”Optics Communicationsn 270(2007)pp.17-14
非专利文献5＂TemperatureCompensation strategy for holographicstorage”Proceedings of Optical datastorage topical meeting 2006，WC4

发明内容
本发明是鉴于以上背景而完成的，其目的在于，即使因记录时的曝光而导致介质收缩，也可以读取数据。
为了解决上述问题，本发明为一种全息记录介质，其备有至少两片基板和设置在所述两片基板之间的记录层，其特征在于，所述记录层具有其平均折射率随光的照射而下降的特性，当将比较记录前和记录后的记录层的厚度的变化率设定为α、将记录前的平均折射率设定为n1、将记录后的平均折射率设定为n2时，光学补偿量C满足0.8≤C≤1.0，其中，C＝(1-(n2/n1))/α。
对这样的全息记录介质而言，通过光照射，记录层发生收缩。由于记录层设置在基板之间，而与记录层相比基板实质上没有收缩，因此，记录层只在厚度方向发生收缩，干涉条纹的方向(斜度)发生变化。但是，由于本发明的记录层具有平均折射率因光照射而下降的特性，因此，在对干涉条纹照射再生时用于读取全息而照射的光(通常为与参照光相同条件的光。以下设定为“读取光”)时，成为光学上与记录时的参照光同等的条件。即，只要在与记录时的参照光相同的条件下照射读取光，就可以使信息光再生，而不需要进行现有技术中所必须的对再生时的条件的调整或使该调整达到最小限。
需要说明的是，平均折射率是指系统整体的折射率的平均，即使因光照射导致局部物质移动而折射率上升，但在作为整体平均的折射率下降的情况下，平均折射率也下降。
作为测定记录层的平均折射率的方法，可以使用如下方法利用棱镜耦合器、椭圆偏振技术进行测定的方法；或在迈克尔逊氏(Michelson)干涉仪、马赫策德尔(Mach-Zehnder)干涉仪的一方的光路上配置记录材料，另行对记录材料照射记录材料发生反应的波长的光，由此测量来自光路长度变化的物理收缩及平均折射率的变化的方法。
而且，当所述记录层的光学补偿量C满足0.8≤C≤1.0时，与实现通常优选的0.1％以下的材料收缩有同等效果，实质上不需要进行再生时的条件的调整。
需要说明的是，收缩率α是在将记录前的记录层的厚度设定为t1，将记录后的记录层的厚度设定为t2时通过α＝(t1-t2)/t1得到的值。需要说明的是，在本说明书及附图中，有时用100分率表示α的值(例如α＝0.01时，表示为1％)。
在所述本发明中，所述记录层可以包含至少一种具有聚合性基团的色素。
而且，优选所述具有聚合性基团的色素的吸收峰波长λmax是比全息再生光的波长小10～200nm的短波长，吸收峰波长λmax的摩尔吸光系数

为10000以上，且全息再生光的波长处的摩尔吸光系数

为100以下。
为了实现如上所述的平均折射率因光照射而下降，所述记录层可以是包含通过光的照射而吸收光谱发生变化的化合物的形式。
通过使记录层包含因光的照射而吸收光谱发生变化、即因光的照射而显色或脱色的化合物，平均折射率发生变化。对于许多化合物的情况，由于光的吸收高时折射率也升高，因此，通过使记录层中包含因光的照射而脱色的化合物，可以实现平均折射率因光照射而下降。
本发明中的使平均折射率下降的光可以是全息记录光，也可以是与全息记录光不同的光。如果因全息记录光的照射而平均折射率下降，则随着在记录层中记录信息，在材料发生收缩的同时，引起平均折射率下降，因此，在进行多重记录时，不管进行第几次记录，都可以作成适于再生的平均折射率的状态。
解决上述问题的本发明的全息记录装置，是在上述各全息记录介质上记录信息的全息记录装置，其特征在于，其具备有产生激光的记录光源；将信息输入所述激光的截面、并将一部分激光设定为信息光的同时将一部分激光设定为参照光的单元；将所述信息光和所述参照光聚光在所述全息记录介质的所述记录层上的光学系统；在与所述激光不同的波长处发光、且发出使所述记录层的平均折射率下降的光的控制折射率用光源。
另外，解决上述问题的本发明的全息记录装置，是在上述各全息记录介质上记录信息的装置，其特征在于，其具备有产生激光的记录光源；将所述激光分为信息光和参照光、并将各自的光聚光在所述全息记录介质的所述记录层上的光学系统；将信息输入所述信息光的单元；在与所述激光不同的波长处发光、且发出使所述记录层的平均折射率下降的光的控制折射率用光源。
利用这样的全息记录装置，只要用全息来记录信息、用控制折射率用光源使记录层的平均折射率下降，则即使因记录层的收缩、即厚度的减小而导致干涉条纹的方向发生变化，也可以通过平均折射率的下降在与记录时同等的条件下进行再生。因此，不需要再生时的条件调整或使其为最小限。
如上所述，根据本发明的全息记录介质及全息记录装置，可以达到如下效果，即，即使存在信息记录后记录层的收缩，记录层的平均折射率变化使伴随收缩的干涉条纹的角度变化相抵，从而不需要进行再生时的条件调整或使其为最小限。



图1是表示实施方式涉及的全息记录介质的构成图。
图2是说明在信息记录前后的干涉条纹的角度的图。
图3是双光束干涉曝光装置的构成图。
图4是表示由通常优选的记录层的0.1％的体积收缩而产生的干涉条纹角度的变化的图。
图5是表示每个交叉角中样品角的偏移量与衍射效率的关系的图。
图6是表示在特定的交叉角中、在样品角度±40度的记录条件下进行最佳补偿(角度偏移的范围与α＝0.1％为同等以下)时的收缩率与光学补偿量的关系的图。
图7是第一例涉及的全息记录装置的构成图。
图8是第二例涉及的全息记录装置的构成图。
图9是表示实施例1、2中的样品角与布拉格角的偏移量的关系的图。
图10是表示相对于伴随记录的进行的样品角的布拉格角的偏移量的图。
符号说明 10 全息记录介质 11 基板 12 记录层 13 基板
具体实施例方式 下面，参照附图的同时对本发明的全息记录介质及记录装置进行说明。在参照的图中，图1是表示实施方式的全息记录介质的构成图。
[全息记录介质] 本实施方式的全息记录介质10依次具有基板11、记录层12、基板13。
基板11是支撑记录层12的板状构件。
记录层12是包含因光照射而导致折射率等光学特性变化的色素材料等的层。记录层12的详细情况如后面所述。
基板13与基板11之间夹持记录层12，是保护记录层12不受损伤的层。
基板11和基板13的至少一方对于用于全息记录装置的全息记录光(信息光及参照光，以下简称为“记录光”)及读取光具有透过性，可以利用记录光进行信息的记录及利用读取光进行信息的再生。
基板11及基板13的材质可以使用公知的物质，没有特别限制。例如，作为基板11可以使用玻璃、陶瓷、树脂等，从成型性、成本的观点考虑，特别优选为树脂。基板13也可以使用与基板11同样的材质。
基板11及基板13，只要是以记录层12相对厚度方向上的收缩量而言在面方向上实质上没有收缩的程度来约束记录层12的基板即可，而且只要不影响作为全息记录介质的功能，其厚度及材质可以是任意的。因此，基板11及基板13有时也被称作保护层(或膜)等其他的称呼。
全息记录介质10的层构成并不限定于上述构成，还可以适当追加反射层或粘合层。也可以在基板11上形成伺服用的坑或槽。另外，全息记录介质10的制造方法也没有特别限制，可以为在基板11和基板13之间注入记录层12的方法；在基板11上涂敷记录层12并由其上形成基板13的层的方法；分别制作基板11、记录层12及基板13，用粘合剂将其相互粘贴的方法等。
记录层12由光记录用组合物构成，在光记录用组合物中包含至少一种具有聚合性基团的色素。即，包含因光的照射而由单体聚合成聚合物的所谓的聚合性单体。在记录层12中也可以包含多种色素。
记录层12具有数十μm～数mm的厚度，如公知的那样，通过全息记录的方法来记录信息。简而言之，将通过空间光调制器等在光线的截面上输入信息的信息光和作为与信息光相同波长的光的参照光同时照射在记录层12中的相同部位，由此形成光的干涉条纹，根据该干涉条纹的光的强度分布，具有聚合性基团的色素发生聚合。利用由聚合引起的折射率变化及未反应单体的扩散，可得到对应于干涉条纹的折射率分布。
记录层12具有平均折射率随光的照射而下降的特性。此时的光可以是全息记录装置的记录光，也可以是与该记录光不同波长的光。
而且，平均折射率的下降可以与记录层12的收缩量相关，当将比较记录前和记录后的记录层的厚度的变化率设定为α、将记录前的平均折射率设定为n1、将记录后的平均折射率设定为n2时，优选光学补偿量C＝(1-(n2/n1))/α满足下式(1)， 0.8≤C≤1.0 …(1) 在此所谓的记录后，如果是对记录层12进行多重曝光的情况，则是指所有的记录之后。作为光学补偿量C的测定方法之一，将记录层12中包含的色素充分反应(聚合)后作为记录后，将照射记录光之前作为记录前，可以求出光学补偿量C。
为了使记录层12具有因光的照射而平均折射率下降的特性，记录层12可以制成包含因光的照射而吸收光谱变化的化合物的形式。即，除了具有聚合性基团的色素之外，使其包含因光的照射而吸收光谱变化的化合物、即因全息再生光而脱色或显色的化合物，由此可以调节光的照射前后的平均折射率。
或者，为了使记录层12具有因光的照射而平均折射率下降的特性，具有聚合性基团的色素，在因光的照射而引起聚合反应时，可以具有平均折射率下降的特性。
[记录层12的光记录组合物] 在此，对用于记录层12的光记录用组合物进行详细叙述。记录层12的构成，如将后述的实施例所示的调合例作为一例那样，由下述组合物适当制备，以使其光学补偿量C为0.8≤C≤1.0。
<聚合性单体> 用于记录层12的光记录用组合物优选包含至少一种具有聚合性基团的色素。在此，本发明中的“色素”是指吸收波长为300～2000nm的紫外光、可见光、红外光中的任一种的化合物，更优选吸收波长为330～700nm的紫外光或可见光的化合物，进一步优选吸收波长为350～600nm的紫外光或可见光的化合物。此时，作为在该区域中的摩尔吸光系数，优选为5000以上，更优选为10000以上，最优选为20000以上。
通常情况下，色素的折射率在从最大吸收波长(λmax)附近到更长的长波长区域中采用较高的值，特别是在从λmax到比λmax长约200nm的长波长区域中采用非常高的值，根据色素而采用超过2、进一步超过2.5这样的高值。具有聚合性基团的色素，优选在吸收光谱中具有比全息再生光的波长短10～200nm短波长的λmax，更优选具有30～130nm短波长的λmax，优选

为10000以上，更优选为20000以上。
另外，全息再生光的波长中的摩尔吸光系数

为100以下，更优选为100以下，最优选为0。
在具有聚合性基团的色素中，作为该聚合性基团没有特别限制，但优选使用其为自由基聚合性、阳离子聚合性或阴离子聚合性中的任一种、优选为自由基聚合性或阳离子聚合性、特别优选为自由基聚合性。聚合性基团为自由基聚合性时，作为聚合性基团，优选具有丙烯酸基、甲基丙烯酸基、苯乙烯基、乙烯基等乙烯性不饱和基团部分，更优选具有丙烯酸基或甲基丙烯酸基。聚合性基团为阳离子聚合性或阴离子聚合性时，作为聚合性基团优选具有环氧乙烷环、氧杂环丁烷环、乙烯基醚基、N-乙烯基咔唑部位中的任一种，更优选具有环氧乙烷环或氧杂环丁烷环。这些聚合性基团可以是单官能，也可以是多官能，还可以是利用了光交联反应而成。
在具有聚合性基团的色素中，作为色素部分，优选列举菁色素、方酸菁色素、苯乙烯基色素、吡啶鎓类色素、份菁色素、亚芳基色素、Oxonol色素、薁鎓(azulenium)色素、香豆素色素、香豆素酮色素、苯乙烯基香豆素色素、吡喃色素、呫吨色素、噻吨色素、吩噻嗪色素、吩噁嗪色素、吩嗪色素、酞菁色素、氮杂卟啉色素、卟啉色素、稠环芳香族类色素、苝色素、甲亚胺色素、蒽醌色素、金属络合物色素、偶氮色素等，更优选列举菁色素、方酸菁色素、苯乙烯基色素、份菁色素、亚芳基色素、Oxonol色素、香豆素色素、呫吨色素、吩噻嗪色素、稠环芳香族类色素、偶氮色素等，进一步优选列举菁色素、份菁色素、亚芳基色素、Oxonol色素、香豆素色素、呫吨色素、偶氮色素等。
除此之外，也可以使用《色素手册》(大河原信他编讲谈社1986年)、《功能性色素的化学》(大河原信他编CMC 1981年)、《特殊功能材料》(池森忠三郎他编CMC 1986年)中记载的色素及染料作为本发明的色素部分。
作为具有聚合性基团的色素的一例，可优选列举下述C-1～C-6。

在上述C-1～C-6中，R1表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、杂环基、烷氧基、芳氧基、烷氧羰基、芳氧羰基、氨基甲酰基、氨磺酰基、氨基、酰氧基、酰氨基、羟基、羧酸基、磺酸基中的任一种。其中，优选为氢原子、卤原子、烷基、芳基、杂环基、烷氧基、芳氧基，更优选为氢原子、卤原子、烷氧基、芳氧基、氨基，最优选为氢原子、卤原子。由R1表示的上述取代基还可以具有取代基。
在上述C-1～C-6中，R2～R4表示氢原子、烷基、芳基、杂环基。其中，优选为氢原子、烷基、芳基，更优选为氢原子、烷基。由R1～R4表示的烷基、芳基或杂环基还可以具有取代基。
其中，在C-1、C-4、C-6中，R1～R4中的至少一个以上含有具有聚合性基团的取代基。在C-2中，R1或R2中的至少一个以上含有具有聚合性基团的取代基。在C-3、C-5中，R1～R3中的至少一个以上含有具有聚合性基团的取代基。
X为选自O、S、Se、C(R5)2的结构，R5表示氢原子或烷基。具体可列举甲基。Y选自O、S或Se。
作为由R1～R4表示的烷基，优选碳原子数为1～20，更优选碳原子数为1～15，特别优选碳原子数为1～10。作为这样的烷基，可以列举例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、戊基、环戊基、己基、环己基、庚基、辛基、叔辛基、2-乙基己基、癸基、十二烷基、十八烷基等。这些烷基还可以具有取代基。
作为由R1～R4表示的芳基，优选碳原子数为6～14，更优选碳原子数为6～10，特别优选碳原子数为6。作为这样的芳基，可以列举苯基、萘基、蒽基等。它们还可以具有取代基。
作为由R1～R4表示的杂环基，优选碳原子数为4～13，更优选碳原子数为4～10，最优选碳原子数为4～5。作为这样的杂环基，可以列举吡啶基、噻吩基、吡咯基、吡咯烷基、咪唑基、噁唑基、噻唑基。它们还可以具有取代基。
作为由R1表示的卤原子，可以列举例如碘原子、溴原子、氯原子、氟原子等，其中，优选为碘原子、溴原子。
作为由R1表示的烷氧基，优选碳原子数为1～20，更优选碳原子数为1～10，特别优选碳原子数为1～5。作为这样的烷氧基，可以列举例如甲氧基、乙氧基、丁氧基、丙氧基、己氧基、环己氧基、庚氧基、辛氧基、叔辛氧基、2-乙基己氧基、癸氧基、十二烷氧基、十八烷氧基等。所述烷氧基还可以用取代基取代。
作为由R1表示的芳氧基，优选碳原子数为6～12，更优选碳原子数为6。作为这样的芳氧基，可以列举例如苯氧基、萘氧基、蒽氧基等。所述芳氧基还可以用取代基取代。
作为由R1表示的烷氧羰基，优选碳原子数为2～10，更优选碳原子数为2～7，特别优选碳原子数为2～5。作为这样的烷氧羰基，可以列举例如甲氧羰基、乙氧羰基、丁氧羰基、丙氧羰基、己氧羰基、环己氧羰基、庚氧羰基、辛氧羰基、叔辛氧羰基、2-乙基己氧羰基等。所述烷氧羰基还可以用取代基取代。
作为由R1表示的芳氧羰基，优选碳原子数为7～12，更优选碳原子数为7。作为这样的芳氧羰基，可以列举例如苯氧羰基、萘氧羰基、蒽氧羰基等。所述芳氧羰基还可以用取代基取代。
作为由R1表示的氨基甲酰基，优选碳原子数为1～12，更优选碳原子数为1～6。作为这样的氨基甲酰基，可以列举例如甲基氨基甲酰基、乙基氨基甲酰基、正丙基氨基甲酰基、异丙基氨基甲酰基、正丁基氨基甲酰基、异丁基氨基甲酰基、叔丁基氨基甲酰基、苯基氨基甲酰基等。所述氨基甲酰基还可以用取代基取代。
作为由R1表示的氨磺酰基，优选碳原子数为0～12，更优选碳原子数为1～6。作为这样的氨磺酰基，可以列举例如甲基氨磺酰基、乙基氨磺酰基、正丙基氨磺酰基、异丙基氨磺酰基、正丁基氨磺酰基、异丁基氨磺酰基、叔丁基氨磺酰基、苯基氨磺酰基等。所述氨磺酰基还可以用取代基取代。
作为由R1表示的氨基，优选碳原子数为0～12，更优选碳原子数为1～6。另外可以是1取代，也可以是2取代。作为这样的氨基，可以列举例如甲基氨基、二甲基氨基、乙基氨基、二乙基氨基、正丙基氨基、异丙基氨基、正丁基氨基、异丁基氨基、叔丁基氨基、苯基氨基、二苯基氨基等。所述氨基还可以用取代基取代。
作为由R1表示的酰氧基，优选碳原子数为2～12，更优选碳原子数为2～6。作为这样的酰氧基，可以列举例如甲基碳酰氧基、乙基碳酰氧基、正丙基碳酰氧基、异丙基碳酰氧基、正丁基碳酰氧基、异丁基碳酰氧基、叔丁基碳酰氧基、苯基碳酰氧基、丙烯酰氧基等。所述酰氧基还可以用取代基取代。
作为由R1表示的酰氨基，优选碳原子数为2～12，更优选碳原子数为2～6。作为这样的酰氨基，可以列举例如甲基碳酰氨基、乙基碳酰氨基、正丙基碳酰氨基、异丙基碳酰氨基、正丁基碳酰氨基、异丁基碳酰氨基、叔丁基碳酰氨基、苯基碳酰氨基、丙烯酰氨基等。所述酰氨基还可以用取代基取代。
作为上述取代基，可以列举例如烷基、苯基、卤原子、烷氧基、芳氧基、烷氧羰基、芳氧羰基、酰氧基、酰氨基、氨基甲酰基、氨磺酰基、氰基、羧酸基、羟基、磺酸基、杂环等，在这些取代基中，优选为苯基、卤原子、烷氧基、芳氧基、烷氧羰基、芳氧羰基、酰氧基、酰氨基、氨基甲酰基、氰基、杂环，更优选为卤原子、烷氧基、芳氧基、烷氧羰基、酰氧基、酰氨基，特别优选为苯基、卤原子、烷氧基、芳氧基、烷氧羰基。
作为在上述R1～R4上取代的优选的聚合性基团，可以列举下述P-1～P-3。

在上述P-1～P-3中，W表示氢原子或甲基中的任一个，T表示-O-、-NR8-中的任一个，R8表示氢原子或烷基中的任一个，q表示0或1的整数。
上述R8中的烷基的碳原子数优选为1～5，更优选为1～2，特别优选为1。可以列举例如甲基、乙基等。它们还可以具有取代基。
作为上述取代基，可以列举例如烷基、苯基、卤原子、烷氧基、芳氧基、烷氧羰基、酰氧基、酰氨基、氨基甲酰基、氰基、羧酸基、磺酸基、氨磺酰基、磺酰胺基、氧羰基、杂环基等，在它们中，更优选为烷氧基、酰氧基、酰氨基，特别优选酰氧基、酰氨基。
在上述通式P-1～P-3中，优选为由P-1、P-2表示的聚合性基团，更优选为由P-1表示的聚合性基团。具体而言优选为丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、N-丙烯酰氨基、N-丙烯酰基-N-烷基氨基等。当上述取代基为由上述P-1表示的取代基时，有时会迅速形成聚合物。
作为C-1中由R1～R4表示的取代基，优选的情况是R1、R3、R4为氢原子、烷基，R2为具有聚合性基团作为取代基的烷基，X为O、S；另外，更优选的情况是R1、R3、R4为氢原子，R2为具有聚合性基团作为取代基的烷基，X为S。
作为C-2中由R1～R2表示的取代基，优选的情况是R1为具有聚合性基团作为取代基的烷基，R2为烷基、芳基；另外，更优选的情况是R1为具有聚合性基团作为取代基的烷基，R2为烷基。
作为C-3中由R1～R4表示的取代基，优选的情况是R1、R2、R3为未取代或具有聚合性基团作为取代基的烷基，Y为O或S；更优选的情况是R1及R2为未取代的烷基，R3为具有聚合性基团作为取代基的烷基，Y为O。
作为C-4中由R1～R4表示的取代基，优选的情况是R1为氢原子、烷基，R2或R3为具有聚合性基团作为取代基的烷基，R4为烷基，X为S、O、C(Me)2，Y为S、O；更优选的情况是R1为氢原子，R2或R3为具有聚合性基团作为取代基的烷基，R4为烷基，X为O、C(Me)2，Y为S、O；最优选的情况是R1为氢原子，R2为具有聚合性基团作为取代基的烷基，R3及R4为烷基，X为C(Me)2，Y为O。
作为C-5中由R1～R3表示的取代基，优选的情况是R1为氢原子、烷基，R2为具有聚合性基团作为取代基的烷基，X为S、O、C(Me)2，Y为O或S；更优选的情况是R1为氢原子，R2为具有聚合性基团作为取代基的烷基，X为O、C(Me)2，Y为S。
作为C-6中由R1～R4表示的取代基，优选的情况是R1、R3、R4为氢原子、烷基，R4为具有聚合性基团作为取代基的烷基，X为O、S；另外，更优选的情况是R1、R3、R4为氢原子，R4为具有聚合性基团作为取代基的烷基，X为S。
在通式C-1～C-6中，优选为C-2、C-4、C-5、C-6，更优选为C-4、C-5，最优选为C-4。
下面，例示具有聚合性基团的色素的具体例子，但本发明并不限定于这些。另外，这些单体可以单独使用一种，也可以并用两种以上。





具有聚合性基团的色素在光记录用组合物中的含量，优选为1～40质量％，更优选为3～30质量％。当所述含量低于1质量％时，有时灵敏度下降，当其超过40质量％时，有时多重记录特性变差。
<其它聚合性单体> 记录层12的光记录用组合物，除了具有聚合性基团的色素以外，还可以根据需要含有其它聚合性单体。作为其它聚合性单体没有特别限制，可以根据目的适当选择，可以列举例如具有丙烯酸基或甲基丙烯酸基这样的不饱和键的自由基聚合性单体、具有环氧环或氧杂环丁烷环这样的醚结构的阳离子聚合性单体等。这些单体可以是单官能，也可以是多官能，另外，还可以是利用光交联反应而成。
作为上述自由基聚合性的单体，可以列举例如丙烯酰吗啉、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸2-乙基己酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇PO改性二丙烯酸酯、1，9-壬二醇二丙烯酸酯、羟基新戊酸新戊二醇二丙烯酸酯、EO改性双酚A二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、二(聚氨酯-丙烯酸酯)低聚物、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇六丙烯酸酯、EO改性丙三醇三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、EO改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、2-萘并-1-氧乙基丙烯酸酯、2-咔唑基-9-基乙基丙烯酸酯、(三甲基硅氧基)二甲基甲硅烷基丙基丙烯酸酯、乙烯基-1-萘甲酸酯、N-乙烯基咔唑、2，4，6-三溴苯基丙烯酸酯、五溴苯基丙烯酸酯、丙烯酸苯硫基乙酯、丙烯酸四氢糠基酯等。
作为上述阳离子聚合性单体，可以列举例如双酚A环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、丙三醇三缩水甘油醚、1，6-己烷缩水甘油醚、乙烯基三甲氧基硅烷、4-乙烯基苯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、日本特开2007-119731号中记载的由结构式(M1)～(M6)表示的化合物等。这些单体可以单独使用一种，也可以并用两种以上。
这些聚合性单体可以单独使用一种，也可以并用两种以上。使用其它聚合性单体时在上述光记录用组合物中的含量，在全部聚合性单体的固体成份中，优选为1～40质量％，更优选为1～20质量％。另外，在本发明中，特别优选使用自由基聚合性单体。
<显色或脱色的化合物> 光记录用组合物还优选包含至少一种光记录曝光时或定影时显色或脱色的化合物。显色的化合物是指在200～2000nm的紫外光、可见光、红外光区域，吸收光谱中显示发生λmax长波长化、吸光系数

增大中的任一种的反应、进一步优选显示发生这两种变化的反应的化合物。另外，更优选显色反应在200～900nm的波长区域发生，进一步优选在300～600nm的波长区域发生。
在光记录用组合物中进行显色反应时，优选包含至少一种显色化合物，所述显色化合物可以从原来的状态吸收长波长化或

增大、并且成为在全息再生光波长处不具有吸收的显色体。来自显色化合物的显色反应通过热反应或光反应来进行，光反应时可以通过对显色化合物进行光照射引起的直接激发来显色，和/或也可以是利用来自通过对增感色素的光照射而生成的增感色素激发状态的电子移动或能量移动的显色。
光记录用组合物，优选在再生时记录材料在全息再生光波长处不具有吸收或基本不具有吸收。
因此，显色化合物在成为显色体时，优选成为在再生波长处不具有吸收、而在与其相比的短波长侧具有吸收的显色体，具体而言，优选成为在再生波长与距离再生波长200nm短波长的波长之间的区域中具有最大吸收的显色体，更优选成为在再生波长与距离再生波长150nm短波长的波长之间的区域中具有最大吸收的显色体。另外，优选增感色素在光记录或其后的定影时发生分解而失去其吸收及增感功能。
作为增感色素，优选吸收波长为200～2000nm的紫外光、可见光、红外光中的任一种而产生激发状态的物质，更优选吸收波长为300～700nm的紫外光或可见光而产生激发状态的物质。
作为增感色素，优选列举菁色素、方酸菁色素、苯乙烯基色素、吡啶鎓类色素、份菁色素、亚苄基色素、Oxonol色素、薁鎓(azulenium)色素、香豆素色素、香豆素酮色素、苯乙烯基香豆素色素、吡喃色素、呫吨色素、噻吨色素、吩噻嗪色素、吩噁嗪色素、吩嗪色素、酞菁色素、氮杂卟啉色素、卟啉色素、稠环芳香族类色素、苝色素、甲亚胺色素、蒽醌色素、金属络合物色素、茂金属色素等，更优选列举菁色素、方酸菁色素、吡啶鎓类色素、份菁色素、Oxonol色素、香豆素色素、香豆素酮色素、苯乙烯基香豆素色素、吡喃色素、呫吨色素、噻吨色素、稠环芳香族类色素、金属络合物色素、茂金属色素，进一步优选列举菁色素、份菁色素、Oxonol色素、金属络合物色素、茂金属色素。需要说明的是，作为金属络合物色素，特别优选Ru络合物色素，作为茂金属色素，特别优选二茂铁类。
除此之外，也可以使用《色素手册》(大河原信他编讲谈社1986年)、《功能性色素的化学》(大河原信他编CMC 1981年)、《特殊功能材料》(池森忠三郎他编CMC 1986年)中记载的色素及染料作为本发明的增感色素。增感色素并不限定于这些，只要是对可见光显示吸收的色素及染料，均可以任意使用。可以根据使用目的选择这些增感色素，以使其适合作为光源的激光的波长，也可以根据用途组合使用两种以上的增感色素。
需要说明的是，使用光记录用组合物作为全息记录材料时，材料必须以充分的厚膜来使用且记录光的大部分透过膜，因此，为了提高灵敏度，优选通过减小在全息曝光波长中的增感色素的摩尔吸光系数而使增感色素的添加量尽可能地多。全息曝光波长中的增感色素的摩尔吸光系数优选为1以上且10000以下，更优选为1以上且5000以下，进一步优选为5以上且2500以下，最优选为10以上且1000以下。
另外，全息记录材料的记录波长光的透光率优选为10～99％、更优选为20～95％、进一步优选为30～90％，在衍射效率、灵敏度、记录密度(多重度)方面，其最优选为40～85％。因此，优选根据全息记录材料的膜厚来调节增感色素在记录波长中的摩尔吸光系数和添加摩尔浓度。
另外，增感色素的λmax更优选为比记录光波长(或定影光波长)短的波长，进一步优选在记录光波长与距离记录光波长100nm短波长的范围之间(或在定影光波长与距离定影光波长100nm短波长的范围之间)。
下面列举增感色素的具体例子，但本发明并不限定于这些。
<菁色素>
<方酸菁色素>
<苯乙烯基色素>
<吡啶鎓色素>
<份菁色素>
<份菁色素续>
<亚芳基色素>
<Oxonol色素>
<薁鎓(azulenium)色素>
<香豆素色素>
<香豆素酮色素>
<苯乙烯基香豆素色素>
<吡喃色素> <呫吨色素>
<噻吨色素> <吩噻嗪色素>
<吩噁嗪色素> <吩嗪色素>
<酞菁色素> <氮杂卟啉色素>
<卟啉色素> <稠环芳香族类色素>
<苝色素> <甲亚胺色素>
<蒽醌色素> <金属络合物色素>

<茂金属色素>
<菁色素续>
需要说明的是，在光记录波长为532nm的YAG激光二倍波时，作为增感色素，特别优选为具有苯并噁唑环的三亚甲基菁色素、具有巴比妥酸性核的份菁色素、具有吡唑烷二酮酸性核的亚苄基色素、Ru络合物色素、二茂铁类；在光记录波长为400～415nm的GaN或InGaN等激光时，特别优选具有苯并噁唑环的单亚甲基菁色素、份菁色素、Ru络合物色素、二茂铁类。
作为增感色素的优选例，除此之外，记载于日本特开2005-99751号中。增感色素可以是市售品或利用公知的方法来合成。
作为显色成分，优选列举以下的组合。作为这些具体例，优选列举日本特开2005-99751号中记载的例子。
i)包含酸显色型显色化合物以及酸发生剂的组合、根据需要还包含酸增殖剂的组合。
作为酸发生剂，优选为二芳基碘鎓盐、锍盐、重氮盐、金属芳烃络合物、三卤甲基取代三嗪、磺酸酯或磺酰亚胺，更优选二芳基碘鎓盐或锍盐。作为优选的具体例可列举日本特开2005-99753号中记载的例子。
酸发生剂的优选具体例列举如下，但本发明并不限定于此。

由酸显色型显色化合物生成的显色体优选为呫吨色素、荧烷色素或三苯甲烷色素。酸显色性显色化合物的特别优选的具体例列举如下，但本发明并不限定于这些。

另外，作为酸显色型显色化合物，还优选使用通过酸(质子)加成而显色的菁原料(无色菁色素)。菁原料的优选具体例如下所示，但本发明并不限定于这些。

菁原料(无色菁色素)、无色 菁色素、无色

作为酸增殖剂的优选例，具体可列举日本特开2005-17730号中记载的例子。
ii)包含碱显色型显色化合物与碱发生剂的组合、根据需要还包含碱增殖剂的组合。
作为碱发生剂及碱增殖剂，优选列举日本特开2005-17354号中记载的例子，作为碱显色型显色化合物，可列举解离型偶氮色素、解离型甲亚胺色素、解离型Oxonol色素、解离型呫吨色素、解离型荧烷色素、解离型三苯甲烷型色素的非离解体。
碱显色型显色化合物的特别优选的具体例列举如下，但本发明并不限定于这些。



iii)包含如下所述的化合物的情况，所述化合物中，具有利用与来自或到达增感色素激发状态的电子移动或能量移动来切断共价键的功能的有机化合物部位、与具有通过切断共价键而成为显色体的特征的有机化合物部位以共价键键合。根据需要还包含碱的组合。
特别优选的具体例列举如下，但本发明并不限定于这些。需要说明的是，图中的箭头表示共价键的位置。



需要说明的是，作为碱，优选列举三丁基胺、三己基胺、三辛基胺、N，N-二甲基十二烷基胺、三苄基胺、四苄基乙二胺、4-(二甲氨基)吡啶等。
iv)包含如下所述的化合物的情况，所述化合物可以利用来自或到达增感色素激发状态的电子移动发生反应，从而使吸收形发生变化。
可以优选使用所谓的电致发光化合物。本发明中优选使用的电致发光化合物为聚吡咯类(优选例如聚吡咯、聚(N-甲基吡咯)、聚(N-甲基吲哚)、聚吡咯并吡咯)、聚噻吩类(优选例如聚噻吩、聚(3-己基噻吩)、聚异硫茚、聚二噻吩并噻吩、聚(3，4-乙撑二氧)噻吩)、聚苯胺类(优选例如聚苯胺、聚(N-萘基苯胺)、聚(邻苯二胺)、聚(苯胺-间磺酸)、聚(2-甲氧基苯胺)、聚(邻氨基苯酚)、聚(二烯丙基胺))、聚(N-乙烯基咔唑)、Co吡啶并四氮杂卟啉络合物、Ni菲绕啉络合物、Fe邻菲绕啉络合物、紫精类、聚紫精类、镧系二酞菁类、苯乙烯基色素类、TNF类、TCNQ/TTF络合物类、三联吡啶Ru络合物类等。
下面，对脱色的化合物进行说明。本发明中脱色的化合物是指，在200～2000nm的紫外光、可见光、红外光区域，显示引起吸收光谱的峰值波长λmax短波长化、

减小中的任一种变化那样的反应、进一步优选显示引起这两种变化那样的反应的化合物。另外，更优选脱色反应在200～900nm的波长区域发生，进一步优选在300～600nm的波长区域发生。
光记录用组合物中进行脱色反应时，优选包含至少一种脱色化合物，所述脱色化合物，可以由原来的状态成为吸收短波长化和/或

减小、且在全息再生光波长处不具有吸收的脱色体。由脱色化合物的脱色反应通过热反应或光反应来进行，光反应时可以通过对脱色化合物进行光照射引起的直接激发来脱色，或者也可以是来自脱色成分的脱色，所述脱色成分利用通过对增感色素进行光照射而生成的增感色素激发状态的电子移动或能量移动。
作为脱色反应的优选组合， (A)所述脱色化合物为在光记录波长或定影光波长处具有吸收的色素，在光记录曝光或定影光照射时吸收光，其结果使自身脱色。
(B)具有至少在光记录波长或定影光波长处具有吸收的增感色素和在全息再生光的波长的摩尔吸光系数

为1000以下、优选100以下的脱色化合物，在光记录曝光或定影光照射时增感色素吸收光，通过利用其激发能量的电子移动或能量移动，使脱色化合物脱色。
(C)通过光反应或热反应脱色剂前体或脱色剂产生，其使脱色化合物脱色。由脱色剂前体产生脱色剂是通过脱色剂前体的热分解、通过对脱色剂前体进行光照射而引起的光分解、或由增感色素的激发状态向脱色剂前体的电子移动或能量移动等引起。脱色剂优选为自由基、酸、碱、亲核剂、亲电子剂、单态氧中的任一种，因而，脱色剂前体优选为自由基发生剂、酸发生剂、碱发生剂、亲核剂发生剂、亲电子剂发生剂、三线态氧中的任一种。作为脱色前体，更优选为自由基发生剂、酸发生剂、碱发生剂中的任一种。
在上述(A)的方式中利用光记录曝光进行脱色反应时，作为脱色化合物的优选例，可列举上述的增感色素的例子。这时，优选脱色化合物的λmax在记录光波长和距离记录光波长100nm的短波长区域之间。
另一方面，在上述(A)的方式中利用定影光照射进行脱色反应的情况与(B)及(C)的方式的情况下，使用记录光波长中的吸收小的脱色化合物。这时，作为脱色化合物，其记录光波长的摩尔吸光系数优选为1000以下、更优选为100以下、最优选为0。优选脱色化合物的λmax在记录光波长和距离记录光波长200nm的短波长区域之间。
在以(A)的定影光进行脱色的情况与(B)及(C)的情况下，作为脱色化合物，优选为菁色素、方酸菁色素、苯乙烯基色素、吡啶鎓类色素、份菁色素、亚苄基色素、Oxonol色素、香豆素色素、吡喃色素、呫吨色素、噻吨色素、吩噻嗪色素、吩噁嗪色素、吩嗪色素、酞菁色素、氮杂卟啉色素、卟啉色素、稠环芳香族类色素、苝色素、甲亚胺色素、偶氮色素、蒽醌色素、金属络合物色素中的任一种，进一步优选为菁色素、苯乙烯基色素、份菁色素、亚苄基色素、Oxonol色素、香豆素色素、呫吨色素、甲亚胺色素、偶氮色素、金属络合物色素中的任一种。
特别是在(C)的方法中脱色剂为酸时，作为脱色化合物优选为解离型亚苄基色素、解离型Oxonol色素、解离型呫吨色素、解离型偶氮色素的解离体，更优选为解离型亚苄基色素、解离型Oxonol色素、解离型偶氮色素的解离体。在此所谓的解离型色素是指，具有-OH基、-SH基、-COOH基、-NHSO2R基、-CONHSO2R基等pKa为约2～14的范围内的活性氢、通过质子解离而使吸收长波长化或高

化的色素的总称。因而，只要预先用碱对解离型色素进行处理而成为解离型，就可以制备预先长波长化或高

化的色素，可以利用光酸发生剂使其变化为非解离型而进行脱色(短波长化或低

化)。
另外，特别是在脱色剂为碱时，只要使用预先用酸处理而成为显色体的三苯甲烷色素、呫吨色素、荧烷色素等酸显色性色素显色体作为脱色化合物，就可以利用光碱发生剂使其变化为非质子加成体而进行脱色(短波长化或低

化)。
下面列举本发明的脱色化合物的具体例，但本发明并不限定于这些。



<酸显色色素显色体、主要为碱脱色>
<菁原料酸显色体、主要为碱脱色>
另外，作为脱色化合物，还可以优选列举以下的脱色化合物的实例，所述脱色化合物利用来自通过光记录曝光或定影光照射生成的增感色素激发状态的电子移动来切断键，其结果可以进行脱色。
这些脱色化合物原来为菁色素，但通过因电子移动而引起的键的切断变化成菁原料(无色菁色素)，从而引起吸收的脱色或短波长化。
<通过因电子移动而引起的键的切断来脱色>
脱色剂前体为酸发生剂时，作为优选的例子，可列举上述酸发生剂的例子。为自由基发生剂时，作为优选的具体例，可列举日本特开2005-115361号中记载的例子。为碱发生剂时，作为优选的例子，可列举阴离子聚合引发剂，具体可列举日本特开2005-17354号中记载的例子。
作为脱色反应的具体例，可优选列举日本特开2005-309359号中记载的例子。
<光聚合引发剂> 光记录用组合物优选包含光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，只要是对记录光具有灵敏度的物质，就没有特别限制，可以使用光自由基聚合引发剂、阳离子聚合引发剂等。从聚合反应的效率的观点出发，优选光自由基聚合引发剂。
作为光自由基聚合引发剂，可列举例如2，2’-二(邻氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基-1，1’-二咪唑、2，4，6-三(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2，4-二(三氯甲基)-6-(对甲氧基苯基乙烯基)-1，3，5-三嗪、二苯基碘鎓四氟硼酸盐、二苯基碘鎓六氟磷酸盐、4，4’-二叔丁基二苯基碘鎓四氟硼酸盐、4-二乙氨基苯基重氮苯六氟磷酸盐、苯偶姻、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-2-酮、二苯甲酮、噻吨酮、2，4，6-三甲基苯甲酰二苯基酰基膦氧化物、三苯基丁基硼酸四乙基铵、二(η5-2，4-环戊二烯-1-基)二[2，6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)苯基钛]等。这些物质可以单独使用一种，也可以并用两种以上。另外，也可以根据照射的光的波长来并用后述的增感色素。
另外，作为阳离子聚合引发剂，可列举2，4，6-三(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2，4-二(三氯甲基)-6-(对甲氧基苯基乙烯基)-1，3，5-三嗪、二苯基碘鎓四氟硼酸盐、二苯基碘鎓六氟磷酸盐、4，4’-二叔丁基二苯基碘鎓四氟硼酸盐、4-二乙氨基苯基重氮苯六氟磷酸盐、三苯基丁基硼酸四乙基铵、二苯基-4-苯硫基苯基锍六氟磷酸盐等。
光记录用组合物中的所述光聚合引发剂的含量优选为0.01～5质量％、更优选为1～3质量％。
<基体形成成分> 光记录介质的记录层中包含通常称为基体的与记录或保存有关的单体或用于保持光聚合引发剂的聚合物。基体是为了提高涂膜性、膜强度及全息记录特性改善效果而使用的物质。本发明的光记录用组合物可以包含作为基体形成成分的固化性化合物。作为所述固化性化合物，可以使用热固化性化合物、使用催化剂等通过光照射而固化的光固化性化合物，优选热固化性化合物。
作为记录层中包含的热固化性基体，没有特别限制，可以根据目的适当选择，可列举例如由异氰酸酯化合物和醇化合物形成的聚氨酯树脂或由环氧化合物形成的环氧化合物、蜜胺化合物、福尔马林化合物、将(甲基)丙烯酸或衣康酸等不饱和酸的酯化合物或酰胺化合物进行聚合得到的聚合物等。其中，优选由异氰酸酯化合物和醇化合物形成的聚氨酯基体，从记录的保持性方面考虑，最优选由多官能异氰酸酯和多官能醇形成的三维聚氨酯基体。
下面，对于可以形成聚氨酯基体的多官能异氰酸酯及多官能醇，叙述具体例。
作为所述多官能异氰酸酯，具体可列举二环己基甲烷二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、亚苯基-1，3-二异氰酸酯、亚苯基-1，4-二异氰酸酯、1-甲氧基亚苯基-2，4-二异氰酸酯、1-甲基亚苯基-2，4-二异氰酸酯、2，4-甲苯撑二异氰酸酯、2，6-甲苯撑二异氰酸酯、1，3-苯二亚甲基二异氰酸酯、1，4-苯二亚甲基二异氰酸酯、亚联苯基-4，4’-二异氰酸酯、3，3’-二甲氧基亚联苯基-4，4’-二异氰酸酯、3，3’-二甲基亚联苯基-4，4’-二异氰酸酯、二苯甲烷-2，4’-二异氰酸酯、二苯甲烷-4，4’-二异氰酸酯、3，3’-二甲氧基二苯甲烷-4，4’-二异氰酸酯、3，3’-二甲基二苯甲烷-4，4’-二异氰酸酯、亚萘基-1，5-二异氰酸酯、亚环丁基-1，3-二异氰酸酯、亚环戊基-1，3-二异氰酸酯、亚环己基-1，3-二异氰酸酯、亚环己基-1，4-二异氰酸酯、1-甲基亚环己基-2，4-二异氰酸酯、1-甲基亚环己基-2，6-二异氰酸酯、1-异氰酸酯-3，3，5-三甲基-5-异氰酸酯甲基环己烷、环己烷-1，3-二(甲基异氰酸酯)、环己烷-1，4-二(甲基异氰酸酯)、异佛尔酮二异氰酸酯、二环己基甲烷-2，4’-二异氰酸酯、二环己基甲烷-4，4’-二异氰酸酯、亚乙基二异氰酸酯、四亚甲基-1，4-二异氰酸酯、六亚甲基-1，6-二异氰酸酯、十二亚甲基-1，12-二异氰酸酯、苯基-1，3，5-三异氰酸酯、二苯甲烷-2，4，4’-三异氰酸酯、二苯甲烷-2，5，4’-三异氰酸酯、三苯甲烷-2，4’，4”-三异氰酸酯、三苯甲烷-4，4’，4”-三异氰酸酯、二苯甲烷-2，4，2’，4’-四异氰酸酯、二苯甲烷-2，5，2’，5’-四异氰酸酯、环己烷-1，3，5-三异氰酸酯、环己烷-1，3，5-三(甲基异氰酸酯)、3，5-二甲基环己烷-1，3，5-三(甲基异氰酸酯)、1，3，5-三甲基环己烷-1，3，5-三(甲基异氰酸酯)、二环己基甲烷-2，4，2’-三异氰酸酯、二环己基甲烷-2，4，4’-三异氰酸酯、赖氨酸二异氰酸甲酯、或利用这些有机异氰酸酯化合物的化学计量的过量与含多官能性活性氢的化合物的反应而得到的两末端异氰酸酯预聚物等。其中，特别优选二环己基甲烷二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯。这些物质可以单独使用一种，也可以并用两种以上。
所述多官能醇可以是单独的多官能醇，也可以是与其它多官能醇的混合状态。作为多官能醇，可列举乙二醇、三乙二醇、二乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、聚丙二醇、新戊二醇等甘醇类；丁二醇、戊二醇、己二醇、庚二醇、四甲撑二醇等二醇类；双酚类、或将这些多官能醇用聚环氧乙烷链或聚环氧丙烷链进行修饰而成的化合物、将甘油、三羟甲基丙烷、丁三醇、戊三醇、己三醇、癸三醇等三醇类等这些多官能醇用聚环氧乙烷链或聚环氧丙烷链进行修饰而成的化合物等。
光记录用组合物中的所述基体形成成分的含量优选为10～95质量％、更优选为35～90质量％。如果所述含量为10质量％以上，则可以容易地得到稳定的干涉图像，如果所述含量为95质量％以下，则在衍射效率方面可以得到期望的性能。
<其它成分> 在光记录用组合物中，根据需要，为了改良光记录用组合物的贮存稳定性，也可以添加阻聚剂、抗氧化剂。
作为所述阻聚剂或抗氧化剂，可列举例如氢醌、对苯醌、氢醌单甲醚、2，6-二叔丁基-对甲酚、2，2’-亚甲基二(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、三苯基亚磷酸酯、三壬基苯基亚磷酸酯、吩噻嗪、N-异丙基-N’-苯基-对苯二胺等。
所述阻聚剂或抗氧化剂的添加量，相对于记录用单体的总量优选为3质量％以下。当所述添加量超过3质量％时，有时会使聚合变慢，或者极端情况下不发生聚合。
光记录用组合物中，还可以根据需要添加增感色素。作为所述增感色素，可以使用“Research Disclosure，Vol.200，1980年12月、20036项”、“增感剂”(p.160～p.163、讲谈社；德丸克己·大河原信/编、1987年)等中记载的公知的化合物。
作为所述增感色素，具体可列举日本特开昭58-15603号公报中记载的3-香豆素酮化合物、日本特开昭58-40302号公报中记载的噻喃鎓盐(thiopyrylium)、日本特公昭59-28328号公报、日本特公昭60-53300号公报中记载的萘并噻唑份菁化合物、日本特公昭61-9621号公报、日本特公昭62-3842号公报、日本特开昭59-89303号公报、日本特开昭60-60104号公报中记载的份菁化合物。
另外，还可以列举“功能性色素的化学”(1981年、CMC出版社、p.393～p.416)、“着色剂”(60[4]212-224(1987))等中记载的色素。具体可列举阳离子性次甲基色素、阳离子性碳正离子色素、阳离子性醌亚胺色素、阳离子性吲哚啉色素、阳离子性苯乙烯基色素。
另外，分光增感色素中还包含香豆素(也包含香豆素酮或磺酰香豆素)色素、部分苯乙烯基(merostyryl)色素、Oxonol色素、hemioxonol色素等酮基色素；非酮基聚次甲基色素、三芳基甲烷色素、呫吨色素、蒽色素、罗丹明色素、吖啶色素、苯胺色素、偶氮色素等非酮基色素；甲亚胺色素、菁色素、碳菁色素、二碳菁色素、三碳菁色素、半菁色素、苯乙烯基色素等非酮基聚次甲基色素；吖嗪色素、噁嗪色素、噻嗪色素、喹啉色素、噻唑色素等醌亚胺色素等。
所述增感色素可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
光记录用组合物中，为了提高由所述光记录用组合物形成的记录层的灵敏度，还可以含有光热变换材料。
作为所述光热变换材料没有特别限制，可以根据目标的功能或性能来适当选择，例如，从与光聚合物一起向记录层添加时的简便性、入射光不发生散射等的特性方面考虑，优选有机染料色素，另外，从不吸收、不散射用于记录的光源的光的方面考虑，优选红外线吸收色素。
所述红外线吸收色素没有特别限制，可以根据目的适当选择，优选阳离子性色素、络合物形成色素、醌系中性色素等。另外，所述红外线吸收色素的最大吸收波长优选为600～1000nm的范围、更优选为特别是700～900nm的范围。
所述红外线吸收色素的含量，在由本发明的光记录用组合物形成的记录层中，可以由红外区域中吸光度最高的波长的吸光度来确定。作为该吸光度优选为0.1～2.5的范围、更优选为0.2～2.0的范围。
在光记录用组合物中，为了缓和聚合时的体积变化，可以进一步根据需要添加与聚合成分向反方向扩散的成分，或者也可以添加具有酸裂解构成的化合物。
光记录用组合物可以用于通过包含有信息的光的照射来进行该信息记录的各种全息记录用组合物，特别优选用作体全息记录用组合物。
需要说明的是，只要全息记录用组合物具有足够低的粘度，就可以通过流延形成记录层。另一方面，当其为无法流延的高粘度时，使用分配器在下侧基板上安装记录层，并在该记录层上以上侧基板作盖的方式进行按压，使其扩展在整个面上，从而可以形成记录介质。
[折射率补偿的意义] 对如上所述的全息记录介质10中的折射率补偿的意义进行说明。
<干涉条纹的角度变化> 在参照的图中，图2是说明信息记录前后的干涉条纹的角度的图。需要说明的是，实际上以图2所示的角度并不能记录干涉条纹，图2是为了便于说明而概念地进行表示的图。
图2所示的干涉条纹S，成为相对记录层12的厚度方向N(垂直相交于记录层12的平面方向P的方向)构成角度φ的干涉条纹。记录了该干涉条纹S的记录层12，在通过记录时的聚合反应及记录后的温度下降而发生收缩时，平面方向P受到基板11和基板13的约束几乎没有尺寸变化，但由于厚度方向N是自由的，因此，其结果记录层12几乎仅在厚度方向N上发生收缩。于是，干涉条纹S仅角度Δ

方向改变，成为干涉条纹S’。干涉条纹S’相对于厚度方向N构成角度φ*。
这样的角度φ*，根据FPR(Fringe Plane Rotation)模型，将记录层12的收缩率设定为α，通过下述式(2)来求出。


…(2) 由此，在向全息记录介质10记录信息的前后，因记录层12的收缩而导致干涉条纹S的角度发生变化。而且，根据上述式(2)，在实际样品中，可以估算记录层12的收缩率α。
在估算收缩率α时，利用如后所述的普通的平面波双光束干涉装置，在全息记录介质10的样品上以规定的角度φ来记录弱衍射效率(～1％)的干涉条纹，其后利用记录介质的定影操作使全息记录介质10的光反应成分完全消耗后，对衍射效率的再生角度依赖性进行测量，再次测量干涉条纹S的角度。记录时，利用定影后的干涉条纹倾斜角的变化，可以由上述式(2)估算记录层12的收缩率α。
<双光束干涉曝光装置> 因干涉条纹的角度变化而导致对再生信号输出功率的影响，可以使用图3所示的双光束干涉曝光装置来测定。
图3所示的双光束干涉曝光装置50的构成为，其备有曝光用激光装置L、ND滤光片51、空间滤光片52、光束扩大器53、1/2波长板54(54a及54b)、光栏55、偏振光分束器56、反射镜57(57a及57b)、样品架58及功率计PM。
作为曝光用激光装置L，可以使用例如波长532nm的SHG激光。在双光束干涉曝光装置50中，由曝光用激光装置L射出的光束，通过ND滤光片51进行光量调整，通过空间滤光片52形成针孔状除去噪声后，利用光束扩大器53，扩大成直径6mm的光束。然后，通过1/2波长板54a调整直线偏振光的角度，通过偏振光分束器56分支为两个光束。此时，为了使分支的两个光束为相同强度，用1/2波长板54a进行调整。用偏振光分束器56分支而成的一个光束通过1/2波长板54b，成为与另一个光束相同方向的偏振光。然后，利用反射镜57，对样品架58上支撑的全息记录介质的样品59的记录层照射各光束。
在对记录的干涉条纹上的再生光输出功率进行测定时，通过照射用偏振光分束器56分支而成的光束之一(相当于读取光)使其产生再生光，用功率计PM测定该再生光的强度。样品架58可以旋转，通过改变样品59的方向，可知样品角θ与再生光强度的关系。
图4是表示由通常优选的记录层的0.1％的体积收缩而发生的干涉条纹角度的变化的图。在图4中，横轴为图3所示的样品架的角度(样品角θ)，在此为记录干涉条纹时的样品角θ。样品角θ将信息光与参照光的入射角度相等的方向设定为0度。纵轴表示布拉格角(满足衍射条件的角度)的偏移量。布拉格角的偏移量表示在有0.1％的收缩时，如果与记录时有任何程度的角度偏移，则再生光输出功率变得最大。各线的说明表示交叉角θAIR和收缩率α。例如，“5度-0.1％”表示交叉角θAIR为5度、收缩率α为0.1％。
在图4所示的任一种交叉角的条件下，当样品角θ为0度时，其布拉格角的偏移都为0度。其原因在于，当样品角θ为0度时，由于相对于记录层12的垂直方向(参照图2的厚度方向N)，信息光和参照光对称地入射，因此，在沿厚度方向N的方向上形成干涉条纹S，即使其厚度因记录层12的收缩而发生变化，干涉条纹S的角度及间隔也没有变化。
在任一种交叉角的条件下，记录时的样品角θ越大，其布拉格角的偏移量越大。当然，0.1％的收缩率是通常良好的条件，由图4可看出，只要布拉格角的偏移量为约±0.04度，就可以是实际应用上可以容许的偏移。
需要说明的是，应当注意，图4的布拉格角的偏移量是假设在光照射前后记录层12上平均折射率没有变化的情况的偏移量。即，如果没有本发明利用平均折射率的变化的补偿，则当收缩率为0.1％时，就会发生仅此程度的布拉格角的偏移。
因再生时的读取光入射角的偏移而导致的衍射效率的下降，可以利用Kogelnik的耦合波理论来计算。图5是表示每个交叉角上样品角的偏移量与衍射效率的关系的图。在图5中，横轴表示样品角θ，纵轴标准化地表示衍射效率。各线的说明表示交叉角θAIR。
如图5所示，相对于以交叉角θAIR为5～45度来记录的干涉条纹，当再生时读取光(参照光)的角度偏移时(该偏移相当于横轴的样品角θ的大小)，衍射效率慢慢下降。例如，可知在交叉角θAIR为45度时，如果参照光的角度偏移0.04度，则衍射效率下降50％。根据交叉角θAIR不同，记录时形成的干涉条纹的间隔也不同，交叉角θAIR为5度时宽，交叉角θAIR为45度时窄。在交叉角θAIR大至45度那样时，由参照光(读取光)的角度偏移带来的影响大。
需要说明的是，应当注意，在图5中表示假设记录前后的记录层12没有收缩、平均折射率没有变化的情况下的计算结果。
<光学补偿量C的范围> 如上所述，在记录层12的收缩(即参照光的角度偏移)与衍射效率的关系下，图6表示如本发明那样的光学补偿量C(＝(1-(n2/n1))/α)的优选范围。图6是表示在特定的交叉角中、在样品角度±40度的记录条件下进行最佳补偿(角度偏移的范围与α＝0.1％为同等以下)时的收缩率与光学补偿量C的关系的图。例如，在交叉角θAIR为5度的情况下，收缩率α为0.5％时，如果计算布拉格角的偏移为0的光学补偿量，则其为0.95。如果参照图6，则在交叉角θAIR为5度时，其不因收缩率α而异，大致为0.95，这意味着相对于收缩前后的厚度变化，平均折射率的变化比例大致相同时，可以得到光学补偿。
参照图6可知，在实用上的交叉角为5～45度的范围中，当光学补偿量C满足0.8≤C≤1.0时，大致可以得到不因交叉角θAIR而异的良好的光学补偿。
[全息记录装置] 本发明的实施方式涉及的全息记录装置之一，是将记录光源发出的记录光分为信息光和参照光、并将各自的光聚光在全息记录介质上的装置，可以使用与图3所示的双光束干涉曝光装置同等的装置。图7是第一例中的全息记录装置的构成图。全息记录装置60的构成为，相对图3所示的双光束干涉曝光装置，追加空间调制元件61、控制折射率用光源62，设置数据读取装置63来取代功率计PM，设置底座64来取代样品架58。
空间调制元件61用于将信息输入到信息光(设定为直进偏振光分束器56的光束)的截面上，将记录的信息以像素配列的方式显示，通过利用该像素来遮挡光束，由此在光的横截面上输入信息。
控制折射率用光源62是包含于全息记录介质10中的、发出使与聚合性单体不同的化合物显色或脱色的光的光源。该控制折射率用光源62的波长与曝光用激光装置L不同。控制折射率用光源62在向全息记录介质10记录信息后，通过未图示的控制装置或通过使用者的操作来发光。
数据读取装置63具有CCD等矩阵状的光学读取元件，是对包含于再生光的横截面的像素状的数据配列进行读取的公知的装置。
底座64，在支撑全息记录介质10的同时，为了改变全息记录介质10中的记录位置，通过在全息记录介质10的平面方向上旋转或平行移动等可以移动，由此，可以在全息记录介质10的整个面上记录信息。例如，底座64可以以旋转载物台的方式构成。
根据这样的全息记录装置60，在记录信息后，照射来自控制折射率用光源62的光，使全息记录介质10的记录层12的平均折射率下降，可以补偿因记录层12的收缩而导致的光学偏移。
下面，对全息记录装置的其它形式进行说明。图8是第二例中的全息记录装置的构成图。
如图8所示，全息记录装置70的构成为，其主要备有激光光源71、反射镜72、DMD元件73、物镜74a、74b、数据读取装置75、底座76、控制折射率用光源77及控制装置78。
激光光源71是射出相干光的光源，配置在将其光向反射镜72射出的方向上。
反射镜72配置在使来自激光光源71的光向DMD元件33反射的方向上。
DMD元件73的构成为，其备有配置成矩阵状的多个微小的反射镜73a、使各反射镜73a的方向转换的转换装置73b。通过使从反射镜72侧射出的光在规定的反射镜73a上反射，生成信息光和参照光。例如，使配置在外围附近的环状区域的多个反射镜73a的一部分以固定的图案面向物镜74a侧，将由这一部分反射镜73a反射的环状的光设定为参照光。另外，基于从控制装置78输入的数据，将配置在形成参照光的一部分反射镜73a的内侧的多个反射镜73a的方向，适当设定为与物镜74a侧的方向不同的方向，将由该内侧区域的反射镜73a反射的光设定为信息光。即，利用DMD元件73，在信息光的横截面上以矩阵状配置光信息。
物镜74a使来自DMD元件73的参照光及信息光聚光，使这些光在全息记录介质10的记录层12中发生干涉。
数据读取装置75与全息记录装置60的数据读取装置63同样。
底座76在支撑全息记录介质10的同时，为了改变记录介质10中的记录位置，向与入射到全息记录介质10的光的光轴垂直的方向上，相对于该光可进行相对移动，由此，可以在全息记录介质10的整个面上记录信息。例如，底座76可以以旋转载物台的方式构成。
控制折射率用光源77与控制折射率用光源62同样，以可以向位于底座76的全息记录介质10发光的方式来配置。
控制装置78是数字控制激光光源71、DMD元件73及底座76的装置。
控制装置78与向全息记录装置70指示信息记录的装置、例如个人电脑终端或录像装置等连接，在记录信息时由这些装置输入信息，在读取信息时将读取的信息向这些装置输入。
在记录信息时，控制装置78根据记录的信息来改变DMD元件73的反射镜73a的方向，同时由激光光源71射出光，生成信息光和参照光。另外，为了在全息记录介质10的适当的位置上记录记录点(干涉条纹)，驱动底座76。另外，控制装置78的构成为，在全息记录结束时，其使控制折射率用光源77发光，以使记录层12的平均折射率下降。
需要说明的是，在由全息记录介质10读取信息时，控制装置78控制DMD元件73的相当于信息光的区域的反射镜73a，使得光不面向物镜74a，且将相当于参照光的区域的反射镜73a控制在与记录时相同图案的方向上，由此对全息记录介质10仅照射参照光。另外，在全息记录介质10中，驱动底座76，以使参照光(读取光)照射到应该读取的记录点(干涉条纹)上。然后，取得入射到数据读取装置75的再生光，向指示读取的装置输出。
根据如上构成的全息记录装置70，在向全息记录介质10记录信息后，由控制折射率用光源77照射光，使全息记录介质10的记录层12的平均折射率下降，可以补偿因记录层12的收缩而导致的光学偏移。
以上对本发明的实施方式进行了说明，但本发明并不限定于上述的实施方式，可以进行适当变形来实施。例如，在上述全息记录装置60、70中，采用了与全息记录光不同波长的光作为使平均折射率下降的光，但也可以用全息记录光使平均折射率下降。即，作为用于记录层12的光记录组合物，也可以使用通过照射全息记录光而使平均折射率下降的物质。
下面，对确认了本发明效果的实施例进行说明。参照以下的实施例可以更加理解本发明的意义。
实施例 本实施例是利用聚合性单体的聚合而使平均折射率下降的例子。使用后述的特定的记录材料(实施例1、实施例2)，即使在因全息记录而发生收缩后，也确认再生时的布拉格角的变化小。
<记录层的涂敷液的制备> 将记录层组合物分成下述溶液A和溶液B来制备。在供给干燥氮的手套箱中进行制备，所述干燥氮是如下所述来进行制备的，进一步使用简易空气干燥器(IAC株式会社制、商品名EFA5-100-A)将氮气中的水分除去，使其在25℃时的相对湿度低于20％，所用的用具或容器预先进行了充分干燥而除去水分。
(实施例1) ·溶液A DM-55(具有聚合性基团的色素)…1.30g 二(环戊二烯基)-二(2，6-二氟-3-(吡咯-1-基)苯基)钛(由汽巴精化株式会社制造、商品名IRGACURE784) …0.25g 六亚甲基二异氰酸酯(三井化学聚氨酯株式会社制造、商品名Takenate T-700) …5.9g ·溶液B 甘油的PO改性三醇(三井化学聚氨酯株式会社制造、商品名MN-300) …8.08g 聚乙二醇(东京化成工业株式会社制造)…7.16g 固化剂(San-Apro株式会社制造、商品名U-CATSA102) …0.30g (实施例2) ·溶液A DM-55(具有聚合性基团的色素) …1.73g 二(环戊二烯基)-二(2，6-二氟-3-(吡咯-1-基)苯基)钛(由汽巴精化株式会社制造、商品名IRGACURE784) …0.25g 六亚甲基二异氰酸酯(三井化学聚氨酯株式会社制造、商品名Takenate T-700)…5.9g ·溶液B 甘油的PO改性三醇(三井化学聚氨酯株式会社制造、商品名MN-300)…8.08g 聚乙二醇(东京化成工业株式会社制造) …7.16g 固化剂(San-Apro株式会社制造、商品名U-CATSA102) …0.30g (现有例) ·溶液A 9，9’-联苯基芴的EO改性丙烯酸酯(大阪气体化学株式会社制造、商品名Ogsol EA0200) …1.73g 二(环戊二烯基)-二(2，6-二氟-3-(吡咯-1-基)苯基)钛(由汽巴精化株式会社制造、商品名IRGACURE784)…0.25g 六亚甲基二异氰酸酯(三井化学聚氨酯株式会社制造、商品名Takenate T-700) …5.9g ·溶液B 甘油的PO改性三醇(三井化学聚氨酯株式会社制造、商品名MN-300) …8.08g 聚乙二醇(东京化成工业株式会社制造) …7.16g 固化剂(San-Apro株式会社制造、商品名U-CATSA102)…0.30g <记录层的形成> 将如上所述制备的记录层组合物的溶液A为7.88g和溶液B为9.36g的比例混合。在预先使其充分干燥而除去了表面水分的两片玻璃基板之间夹持隔板，构成设有300μm厚度的空隙的矩形单元，在该空隙中注入该混合溶液。用烘箱使其在80℃下加热固化6小时，得到全息记录介质。到溶液的混合、向矩形单元的注入，与制备时同样在供给干燥氮的手套箱内进行。
<干涉条纹的记录> 对干涉条纹的记录而言，使用图3所示的双光束干涉曝光装置50，在激光光源的波长532nm、θAIR＝15度、样品角度θ为-31.5～+31.5度的范围中，每4.5度多重记录15个干涉条纹。其后，为了使记录层的材料完全消耗，用Xe灯进行定影(记录材料的消耗)。
<布拉格角的偏移量的测定> 对于定影后的样品，以记录光的一方作为参照光，测定记录角度与衍射光的再生峰角度的偏移量。为了缓和全息记录中的记录材料消耗的影响，调节曝光强度，使其因15多重记录引起的材料动态范围(M/#)的消耗为5％以下。
另外，在该评价中，由于记录层的厚度变化和平均折射率变化都影响角度偏移的结果，因此，另外利用迈克尔逊氏(Michelson)干涉系统测定记录层的厚度。在实施例1、2中，收缩率α及光学补偿量C如下所述。
实施例1 收缩率α 0.6％ 光学补偿量C 0.95 实施例2 收缩率α 1.0％ 光学补偿量C 0.97 图9是表示实施例1、2中的样品角与布拉格角的偏移量的关系的图。在图9中，除了实施例1、2的值以外，表示收缩率α为0.6％或1.0％的情况下没有平均折射率变化时的计算值。
可知收缩率α为0.6％及1.0％时，布拉格角的偏移量分别为-0.35～+0.24度及-0.6～+0.38度，相对于此，在实施例1、2中，利用因记录后的平均折射率下降而带来的光学补偿效果，抑制布拉格角的偏移量在-0.02～+0.03度。
<伴随记录的进行的收缩校正> 对于实施例1、2，伴随记录的进行明确了因记录层的平均折射率变化而进行的收缩校正。
使用图3所示的双光束干涉曝光装置50，在波长532nm、θAIR＝15度、记录时的样品角度θ为-32.76～+32.76度的范围中，使步距角为1.092度，记录61全息。61全息记录需要的累计曝光能量均为15000mJ/cm2，记录层的材料几乎全部被消耗。将此时的再生时的布拉格角的偏移量示于图10。
在现有例中，在记录前半(-32.76～-15.00度)中，与收缩率α＝0.72％的曲线(参照计算值的曲线)几乎一致。在记录中盘～后半，布拉格角的偏移量比理论值小，其原因在于，由于因由记录引起的聚合反应而导致材料被消耗，因此，伴随记录的进行的收缩量发生变化。
另一方面，在实施例1、2中，显示从记录的初期(-32.76度侧)到最后(32.76度侧)角度偏移都被校正，即使记录的干涉条纹的收缩量在每个干涉条纹中均有变化时，也可以进行良好的补偿。即，显示可以统一设定在再生时的角度偏移的校正中所需要的波长·角度·温度这些参数。
权利要求
1.一种全息记录介质，其具备有至少两片基板和设置在所述两片基板之间的记录层，其特征在于，所述记录层具有平均折射率随光照射而下降的特性，当将比较记录前和记录后的记录层的厚度的变化率设定为α、将记录前的平均折射率设定为n1、将记录后的平均折射率设定为n2时，光学补偿量C满足0.8≤C≤1.0，其中，C＝(1-(n2/n1))/α。
2.根据权利要求1所述的全息记录介质，其特征在于，所述记录层包含至少一种具有聚合性基团的色素。
3.根据权利要求2所述的全息记录介质，其特征在于，所述具有聚合性基团的色素的吸收峰波长λmax是比全息再生光的波长小10～200nm的短波长，吸收峰波长λmax的摩尔吸光系数∈为10000以上，且全息再生光的波长中的摩尔吸光系数∈为100以下。
4.根据权利要求1所述的全息记录介质，其特征在于，所述记录层包含通过光的照射而吸收光谱发生变化的化合物。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的全息记录介质，其特征在于，使平均折射率下降的所述光是与全息记录光不同的光。
6.根据权利要求1～4中任一项所述的全息记录介质，其特征在于，使平均折射率下降的所述光是全息记录光。
7.一种全息记录装置，其在如权利要求1～5中任一项所述的全息记录介质上记录信息，其特征在于，其备有
产生激光的记录光源；
将信息输入所述激光的截面、并将一部分激光设定为信息光的同时将一部分激光设定为参照光的单元；
将所述信息光和所述参照光聚光在所述全息记录介质的所述记录层上的光学系统；
在与所述激光不同的波长处发光、且发出使所述记录层的平均折射率下降的光的控制折射率用光源。
8.一种全息记录装置，其在权利要求1～5中任一项所述的全息记录介质上记录信息，其特征在于，其备有
产生激光的记录光源；
将所述激光分为信息光和参照光、并将各自的光聚光在所述全息记录介质的所述记录层上的光学系统；
将信息输入所述信息光的单元；
在与所述激光不同的波长处发光、且发出使所述记录层的平均折射率下降的光的控制折射率用光源。
全文摘要
本发明提供全息记录介质及全息记录装置。全息记录介质即使因记录时的曝光而导致介质收缩也可以读取数据。所述全息记录介质(10)具备有至少两片基板(11，13)、设置在两片基板(11，13)之间的记录层(12)。记录层(12)的构成为，其具有平均折射率随光的照射而下降的特性，当将比较记录前和记录后的记录层的厚度的变化率设定为α、将记录前的平均折射率设定为n1、将记录后的平均折射率设定为n2时，光学补偿量C满足0.8≤C≤1.0，其中，C＝(1-(n2/n1))/α。
文档编号G11B7/246GK101373609SQ20081014455
公开日2009年2月25日 申请日期2008年8月22日 优先权日2007年8月22日
发明者佐佐木俊央, 山田悟, 铃木博幸, 宇佐美由久, 加茂诚 申请人:富士胶片株式会社