专利名称：蓝光光盘片的覆盖层涂布机构与其方法
技术领域：
本发明是有关于一种蓝光光盘片，且特别是有关于一种蓝光光盘片的覆盖层的涂布机构与方法。
背景技术：
光盘片烧录技术的产生，让数据备份的方法多了一种十分便利的方式，只要将空白光盘片放入刻录机中，经由参数设定，就可以轻易地将数据写入空白光盘片里。光盘片的规格从最早的 CD-R(Compact Disc-Recordable)进步到 DVD_R(Digital Versatile Disk-Recordable)、DVD+R，光储存媒介的容量也跟着增加。现在更有运用蓝光激光技术的高容量蓝光光盘片，让使用者可以在单一光盘片里储存更多的数据。如何维持光盘片生产工艺的一致性，尤其是涂布工艺一致性，将会决定光盘片质量的关键。而对于蓝光光盘片而言，其对于生产制成一致性的需求比一般的⑶-R或是 DVD-R更高。蓝光光盘片中覆盖层(cover layer)的涂布工艺是否稳定，更会影响蓝光光盘片的良率以及质量。参照图1，其是绘示现有的蓝光光盘片的覆盖层涂布机构的示意图。蓝光光盘片的覆盖层涂布机构100包含有一号涂布站110、二号涂布站120、三号涂布站130、输送带140、 以及预硬化站150。现今的覆盖层涂布工艺为一号涂布站110、二号涂布站120及三号涂布站130同时对光盘片基材170进行涂布上胶，涂布完的光盘片基材170再依序进入预硬化站150进行预硬化工艺。然而，涂布一片光盘片基材170的时间约需30秒，预硬化一片光盘片基材170的时间约需10秒。一般的做法是由出自三号涂布站130的光盘片基材170开始进入预硬化站150，接着是出自二号涂布站120的光盘片基材170，而后才会是出自一号涂布站110的光盘片基材170送入预硬化站150。当光盘片基材170离开一号涂布站110之后，需要等上 20秒的时间才能进入预硬化站150，而出自三号涂布站130的光盘片基材150则是马上进入预硬化站150。如此一来，出自不同涂布站的光盘片基材之间将会产生等待的时间差，这种差异将会致使光盘片的质量难以一致。因此，如何维持蓝光光盘片生产质量的一致性，便成为一个重要的课题。
发明内容
因此本发明的目的就是在提供一种蓝光光盘片的覆盖层涂布机构及方法，用以维持蓝光光盘片生产质量的一致性。依照本发明的一实施例，提出一种蓝光光盘片的覆盖层涂布机构，包含多个涂布站、预硬化站及传送带，其中传送带用以单片输送光盘片基材进入涂布站，以及在涂布站与预硬化站之间单片输送光盘片基材。蓝光光盘片的覆盖层涂布机构还包含多个取放片站， 取放片站设置于涂布站与输送带之间，以及预硬化站与输送带之间。本发明的另一实施例为一种蓝光光盘片的覆盖层涂布方法，包含从多个涂布站的其中一者取出涂布有覆盖层的光盘片基材至输送带，接着，输送带输送光盘片基材至预硬化站，以及自预硬化站取出光盘片基材之后，输送带再将另一光盘片基材送入涂布站，其中输送带每次仅单片输送光盘片基材进入涂布站。本发明的又一实施例为一种蓝光光盘片的覆盖层涂布方法，依序包含自一号涂布站取出涂布完成的一号光盘片基材，输送一号光盘片基材至预硬化站进行预硬化，自预硬化站取出一号光盘片基材，自二号涂布站中取出二号光盘片基材，输送二号光盘片基材至预硬化站进行预硬化，自预硬化站取出二号光盘片基材，自三号涂布站取出三号光盘片基材，输送三号光盘片基材至预硬化站进行预硬化，以及自预硬化站取出三号光盘片基材。其中在输送一号光盘片基材至预硬化站进行预硬化之后，还包含输送另一一号光盘片基材进入一号涂布站。其中在输送二号光盘片基材至预硬化站进行预硬化之后，还包含输送另一二号光盘片基材进入二号涂布站。其中在输送三号光盘片基材至预硬化站进行预硬化之后，还包含输送另一三号光盘片基材进入三号涂布站。由于输送时间以及取放片的时间极短，本发明通过单进单出的原则，预先错开光盘片基材进入各个涂布站的时间。如此一来，覆盖层涂布完成的光盘片基材便可以直接从涂布站送入预硬化站中进行预硬化工艺，而不需要在输送带上等待，可以有效确保蓝光光盘片的覆盖层涂布质量的一致性。
为让本发明的上述和其它目的、特征、优点与实施例能更明显易懂，所附附图的详细说明如下图1是绘示现有的蓝光光盘片的覆盖层涂布机构的示意图；图2是绘示本发明的蓝光光盘片的覆盖层涂布机构一实施例的示意图；图3A至图3L是绘示使用本发明的蓝光光盘片的覆盖层涂布方法流程图。主要组件符号说明200 涂布机构210 —号涂布站220 二号涂布站230 三号涂布站240 输送带250 预硬化站260 取放片站270 一号光盘片基材280 二号光盘片基材290 三号光盘片基材slO s32 步骤
具体实施例方式以下将以附图及详细说明清楚说明本发明的精神，任何所属技术领域中具有通常知识者在了解本发明的较佳实施例后，当可由本发明所教示的技术，加以改变及修饰，其并不脱离本发明的精神与范围。 如前所述，在光盘片基材上涂布覆盖层所需要的时间约为30秒，而光盘片基材进行预硬化的时间约为10秒钟。因此，以下的实施例中以涂布站与预硬化站为3比1的比例进行说明。随着不同机台的差异或是工艺的改进，了解本案技术内容的人员当可依实际状况调整涂布站与预硬化站的比例。 请参照图2，其是绘示本发明的蓝光光盘片的覆盖层涂布机构一实施例的示意图。 蓝光光盘片的覆盖层涂布机构200包含有一号涂布站210、二号涂布站220及三号涂布站 230等多个涂布站，以及输送带240与预硬化站250。蓝光光盘片的覆盖层涂布机构200还包含有多个取放片站沈0。取放片站260设置在涂布站210、220、230与输送带240之间，以在涂布站210、220、230与输送带240之间进行取放片交换的动作。取放片站260亦设置在预硬化站250与输送带240之间，以在预硬化站250与输送带240之间进行取放片交换的动作。其中输送带240是单进单出地在涂布站210、220、230与预硬化站250之间输送光盘片基材。输送带240为单片单片输送光盘片基材进入涂布站210、220、230，以及在涂布站 210、220、230与预硬化站250之间单片输送光盘片基材。换言之，从涂布站210、220、230涂布完成的光盘片基材为直接进入预硬化站250中进行预硬化工艺，减少因等待而导致光盘片质量无法一致的风险。参照图3A至图3L，其是绘示使用本发明的蓝光光盘片的覆盖层涂布方法流程图。 为方便说明起见，送入一号涂布站210处理的光盘片基材称为一号光盘片基材270，送入二号涂布站220处理的光盘片基材称为二号光盘片基材观0，送入三号涂布站230处理的光盘片基材称为三号光盘片基材290。这些光盘片基材本质上均为相同的光盘片基材，仅是为了在说明时方便区隔而在名称上有所不同，合先叙明。图3A的步骤SlO中，一号涂布站210所涂布覆盖层完成的一号光盘片基材270经由取放片站260送至输送带240上输送至预硬化站250。图;3B的步骤sl2是取放片站260将第一光盘片基材270由输送带240上取下，再放至预硬化站250中进行第一光盘片基材270的预硬化工艺。待一号光盘片基材270进入预硬化站250之后，如图3C的步骤sl4所示，输送带 240再送入另一一号光盘片基材270，并经由取放片站260将一号光盘片基材270送入一号涂布站210中，进行一号光盘片基材270的覆盖层涂布工艺。接着，图3D步骤sl6中，预硬化站250中的一号光盘片基材270完成预硬化工艺， 由取放片站260取出放至存放区(图中未绘示)。图3E的步骤sl8为二号涂布站220完成二号光盘片基材观0的覆盖层涂布工艺， 取放片站260将二号光盘片基材280从二号涂布站220中取出，放至输送带240上以送至预硬化站250。接着，图3F的步骤s20为取放片站260将二号光盘片基材观0由输送带240上取下，送至预硬化站250中，以进行二号光盘片基材观0的预硬化工艺。待二号光盘片基材280进入预硬化站250之后，参见图3G的步骤s22，输送带MO 再送入另一二号光盘片基材洲0，由取放片站沈0送到二号涂布站220中进行覆盖层涂布的工艺。
图3H的步骤W4中，预硬化站250中的二号光盘片基材280已经完成预硬化工艺， 由取放片站260取出放至存放区(图中未绘示)。接着，图31的步骤s26中，三号涂布站230完成三号光盘片基材四0的覆盖层涂布工艺，三号光盘片基材四0由取放片站260送至输送带240上，以送往预硬化站250。图3J的步骤s28中，取放片站260将三号光盘片基材四0由输送带240上取下， 送入预硬化站250中进行预硬化工艺。待三号光盘片基材290进入预硬化站250之后，参照图I的步骤s30，输送带MO 再将另一三号光盘片基材290送至三号涂布站230前，由取放片站260将三号光盘片基材 290送至三号涂布站230中进行三号光盘片基材四0的覆盖层涂布工艺。图3L的步骤s32为取放片站260将预硬化站250中完成预硬化工艺的三号光盘片基材290取出，放至存放区(图中未绘示)。接着，再一次回到图3A的步骤slO，重复进行步骤SlO至步骤s32。由于输送时间以及取放片的时间极短，本发明通过单进单出的原则，预先错开光盘片基材进入各个涂布站的时间。如此一来，覆盖层涂布完成的光盘片基材便可以直接从涂布站送入预硬化站中进行预硬化工艺，而不需要在输送带上等待，可以有效确保蓝光光盘片的覆盖层涂布质量的一致性。虽然本发明已以实施方式揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何熟悉此技艺者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视所附的权利要求书所界定的范围为准。
权利要求
1.一种蓝光光盘片的覆盖层涂布机构，其特征在于，包含 数个涂布站；一预硬化站；以及一传送带，用以单片输送一光盘片基材进入该些涂布站，以及在该些涂布站与该预硬化站之间单片输送该光盘片基材。
2.根据权利要求1所述的蓝光光盘片的覆盖层涂布机构，其特征在于，还包含数个取放片站，设置于该些涂布站与该输送带之间，以及该预硬化站与该输送带之间。
3.—种蓝光光盘片的覆盖层涂布方法，其特征在于，包含从数个涂布站的其中一者取出涂布有一覆盖层的一光盘片基材至一输送带； 该输送带输送该光盘片基材至一预硬化站；自该预硬化站取出该光盘片基材之后，该输送带再将另一光盘片基材送入该些涂布站，其中该输送带每次仅单片输送该光盘片基材进入该些涂布站。
4.一种蓝光光盘片的覆盖层涂布方法，其特征在于，依序包含 自一一号涂布站取出涂布完成的一一号光盘片基材； 输送该一号光盘片基材至一预硬化站进行预硬化；自该预硬化站取出该一号光盘片基材；自一二号涂布站中取出一二号光盘片基材；输送该二号光盘片基材至该预硬化站进行预硬化；自该预硬化站取出该二号光盘片基材；自一三号涂布站取出一三号光盘片基材；输送该三号光盘片基材至该预硬化站进行预硬化；以及自该预硬化站取出该三号光盘片基材。
5.根据权利要求4所述的蓝光光盘片的覆盖层涂布方法，其特征在于，在输送该一号光盘片基材至一预硬化站进行预硬化之后，还包含输送另一一号光盘片基材进入该一号涂布站。
6.根据权利要求4所述的蓝光光盘片的覆盖层涂布方法，其特征在于，在输送该二号光盘片基材至该预硬化站进行预硬化之后，还包含输送另一二号光盘片基材进入该二号涂布站。
7.根据权利要求4所述的蓝光光盘片的覆盖层涂布方法，其特征在于，在输送该三号光盘片基材至该预硬化站进行预硬化之后，还包含输送另一三号光盘片基材进入该三号涂布站。
全文摘要
本发明提供一种蓝光光盘片的覆盖层涂布机构以及一种单进单出的蓝光光盘片的覆盖层涂布方法。所述蓝光光盘片的覆盖层涂布机构包含多个涂布站、预硬化站及传送带，其中传送带用以单片输送地在涂布站与预硬化站之间输送光盘片基材。
文档编号G11B7/26GK102479527SQ20101055797
公开日2012年5月30日 申请日期2010年11月19日 优先权日2010年11月19日
发明者刘康照, 谢逸萍 申请人:铼德科技股份有限公司