Pi液涂布方法
【技术领域】
[0001 ]本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种Pi液涂布方法。
【背景技术】
[0002]随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting D1de，0LED)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。
[0003]现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilm Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)与彩色滤光片基板(ColorFilter，CF)之间灌入液晶分子，并在两片基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。
[0004]为了使液晶分子按照特定的旋转方向进行排列，需要在薄膜晶体管阵列基板和彩色滤光片基板的内侧制作配向膜，配向膜可用于限制液晶分子的配向状态。传统的配向膜制作方法是将溶有高分子化合物的PI (Polyimide，聚酰亚胺)液喷涂在需要制作配向膜的基板面上，之后加热PI液或用紫外光照射PI液，使其溶解的高分子化合物产生聚合反应，形成带有预倾角的长链大分子固体聚合物，这些聚合物与液晶分子间的作用力较强，使液晶分子按照预倾角的方向排列。
[0005]在实际PI液的涂布过程中，常常由于TFT或CF基板表面的状态而影响PI膜的涂布效果。PI液一般是亲水性物质，在有机物残留较多的表面容易扩散不均，进而导致TFT-LCD产品出现碎亮点，影响产品的品质。此外，在采用喷墨打印的方法进行PI液涂布的过程中，一般通过ΡΓ液图案变化来控制PI液涂布的精度，使得PI液均匀地涂布在基板的显示区域中，但该方法在基板的表面状态不一致时，可能导致PI液扩散超出，进而影响框胶涂布或者产生周边缺陷(defect)。
【发明内容】
[0006]本发明的目的在于提供一种PI液涂布方法，能够改善PI液涂布的精度，提高配向膜的成膜品质，防止PI液扩散超出，减少产品的缺陷。
[0007]为实现上述目的，本发明提供一种PI液涂布方法，包括以下步骤:
[0008]步骤1、提供一基板、一超紫外光源、一第一光罩、一第二光罩、及一传送机台；
[0009]所述第一光罩的长度等于基板的宽度；
[0010]所述第一光罩包括:一第一透光区、及分别位于第一透光区的两端沿所述第一光罩的宽度方向延伸的两条状的第一遮光区；
[0011 ]所述第二光罩的长度等于基板的长度；
[0012]所述第二光罩包括:第二透光区、及分别位于第二透光区的两端沿所述第二光罩的宽度方向延伸的两条状的第二遮光区；
[0013]步骤2、将第一光罩设置于超紫外光源下，将基板放置在传送机台上，使基板的一条宽边与第一光罩的一条长边对齐，传送机台开始传送基板，超紫外光源经过第一光罩对基板进行照射，直至基板的另一条宽边也与第一光罩的另一条长边对齐为止；
[0014]步骤3、将第二光罩设置于超紫外光源下，将基板顺时针或逆时针旋转90°后再放置在传送机台上，使基板的一条长边与第二光罩的一条长边对齐，传送机台开始传送基板，超紫外光源经过第二光罩对基板进行照射，直至基板的另一条长边与第二光罩的另一条长边对齐为止，从而在基板上形成有机物浓度不同的第一区域和第二区域，所述第一区域为位于所述基板边缘的经过一次和没有经过超紫外光照射的区域，所述第二区域为位于所述基板中央的经过两次超紫外光照射的区域，所述第一区域包围所述第二区域；
[0015]步骤4、将PI液涂布在基板的第二区域。
[0016]所述步骤I中的基板在前一制程中经过湿式清洗。
[0017]所述步骤I中的基板为薄膜晶体管阵列基板。
[0018]所述步骤I中的基板为彩色薄膜滤光基板。
[0019]所述步骤I中的基板为玻璃基板。
[0020]所述第一区域的有机物浓度大于所述第二区域的有机物浓度。
[0021]所述第一区域为所述基板涂布框胶的区域，其宽度等于框胶的宽度。
[0022]所述步骤3中基板旋转的方向为顺时针。
[0023]所述步骤3中基板旋转的方向为逆时针。
[0024]所述步骤2与步骤3中传送机台勾速传送基板。
[0025]本发明的有益效果:本发明提供的PI液涂布方法，提供了长度分别与基板宽度和基板长度相等的第一光罩与第二光罩，并在第一光罩和第二光罩宽边所在的边缘设置宽度为框胶宽度的第一遮光区和第二遮光区，将基板放置在传送机台上使超紫外线光通过第一光罩对基板进行照射，之后将基板90°旋转后使超紫外线光通过第二光罩对基板进行照射，由于位于基板中心的第二区域经过两次超紫外光照射，表面分布的有机物较少，使PI液分布均匀，配向膜品质较好;第一区域部分经过一次照射，部分没有经过照射，表面分布的有机物较多，基板上产生有机物浓度不同的区域，PI液不易从第二区域扩散至第一区域，能够改善PI液涂布精度，防止PI液扩散超出，影响框胶涂布或者产生周边缺陷，提升配向膜的成月旲品质，减少广品的缺陷。
【附图说明】
[0026]为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
[0027]附图中，
[0028]图1为本发明中的PI液涂布方法的流程图；
[0029]图2为本发明的PI液涂布方法中步骤I的第一光罩的结构图；
[0030]图3为本发明的PI液涂布方法中步骤I的第二光罩的结构图；
[0031]图4为本发明的PI液涂布方法中步骤2的左视示意图；
[0032]图5为本发明的PI液涂布方法中步骤2的俯视示意图；
[0033]图6为本发明的PI液涂布方法中步骤3的左视示意图；
[0034]图7为本发明的PI液涂布方法中步骤3的俯视示意图；
[0035]图8为本发明的PI液涂布方法中经过两次超紫外光照射后基板的示意图。
【具体实施方式】
[0036]为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
[0037]请参阅图1，本发明提供一种PI液涂布方法，包括以下步骤:
[0038]步骤1、请参阅图4，并结合图2和图3，提供一基板100、一超紫外光源200、一第一光罩300、一第二光罩400、及一传送机台500。
[0039]所述第一光罩300的长度等于基板100的宽度；
[0040]所述第一光罩300包括:一第一透光区320、及分别位于第一透光区320的两端沿所述第一光罩300的宽度方向延伸的两条状的第一遮光区310。
[0041]所述第二光罩400的长度等于基板100的长度；
[0042]所述第二光罩400包括:第二透光区420、及分别位于第二透光区420的两端沿所述第二光罩400的宽度方向延伸的两条状的第二遮光区410。
[0043]具体地，设M、N、及K为正数，所述基板100的长度为M，宽度为N，所述第一遮光区310和第二遮光区410的宽度均为K。基板100可以为液晶显示面板的薄膜晶体管阵列基板或是彩色薄膜滤光基板。优选的，所述基板100为玻璃基板。
[0044]特别的，所述基板100在前一制程中经过湿式清洗。所述超紫外光源200能够发射超紫外光(Extreme Ultrav1let Lithography，EUV)，当超紫外光EUV照射到基板100上时，能够打断基板100表面上有机物的键，生成氧(O)的自由基，将有机物分解为二氧化碳(CO2)和水(H2O),进而去除基板100表面的有机物。
[0045]步骤2、请参考图4和图5，将第一光罩300设置于超紫外光源200下，将基板100放置在传送机台500上，使基板100的一条宽边与第一光罩300的一条长边对齐，传送机台500开始传送基板100，超紫外光源200经过第一光罩300对基板100进行照射，直至基板100的另一条