技术特征：
技术总结
本发明的实施方式能得到抑制了产品的偏差的磁记录介质的制造方法、多层膜的成膜系统以及成膜调整方法。实施方式涉及的磁记录介质的制造方法包括：测定包含磁记录层的多层膜的特性，算出用于设定溅射功率的指示值与特性的残差，算出残差的移动平均值而求出反馈修正值，使用从使用了假想计测技术而得到的计算膜厚进行特性预测的计算模型，参照反馈修正值，在使用了电子计算机的求解器进行逆运算，分别算出多层膜的各层的新指示值。
技术研发人员：本田雅树;岩佐健治;江口英孝
受保护的技术使用者：株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
技术研发日：2018.01.25
技术公布日：2018.10.09