具有微粒子俘获用的孔状旋转过滤板的成膜装置和方法

专利名称：具有微粒子俘获用的孔状旋转过滤板的成膜装置和方法
技术领域：
本发明涉及通过能量射束的照射、电弧放电等方式，产生作为薄膜形成成分的飞散微粒子束，使该飞散微粒子束附着于基板上，形成各种材料的膜的成膜装置和方法，本发明特别是涉及采用用于防止在膜中附着小滴(droplet)，提高膜的质量的过滤器的成膜装置和成膜方法。
背景技术：
在通过激光烧蚀法、溅射法、电弧放电法等方式在基板上制作金属、半导体、陶瓷等的薄膜的成膜方法中，必须不能将构成小滴的微粒子(在薄膜中，呈液滴状堆积的群聚(cluster)粒子)附着于基板上。作为防止该现象的方法，人们知道有将激光照射到靶上时的入射角控制在43度或以下的方法(专利文献1)、使靶高速旋转的方法(专利文献2、3)等。
另外，为了防止小滴附着于基板表面上，损坏膜的表面性的情况，具有在飞行中途，俘获群聚粒子的方法，比如，人们知道有在具有多个间隙的通过面积控制部件的微粒子入射面侧，附着质量较大的群聚粒子的方法(专利文献4)、采用机械开闭器、分子流开闭器的方法(专利文献5)、不使高速或低速的原子通过的机械式断路器(chopper)采用设置狭缝的旋转盘的成膜法(专利文献6、7、8)、采用多个旋转叶片的成膜装置(比如，专利文献9)。
对于前者，激光为脉冲式照射，必须要求与过滤器同步，所选择的速度范围受到限制。对于后者，由于叶片具有角度，故叶片不俘获微粒子，而将其反射，这样，无法完全地俘获作为低速成分的微粒子。另外，由于用于俘获作为低速成分的微粒子的叶片的设计极麻烦，多个叶片的设置困难，故必须要求增加微粒子的飞行方向的过滤器的厚度，其结果是，由于必须增加靶和基板之间的距离，故具有难以获得良好品质的膜等的问题。并且，同时过滤器的制作要求极高的技术，价格高，另外，具有再次释放一度俘获的微粒子，膜受到污染的缺点。
相对该情况，本发明人发明而提出了采用高速旋转的过滤器，去除小滴的成膜装置和成膜方法的专利申请(专利文献10)，但是，具有难以完全地防止小滴的再次释放，另外，过滤器的制作花费成本也存在相关的问题。
JP特许文献1JP特开平06-017237号文献JP特许文献2JP特开平07-166331号文献JP特许文献3JP特开2001-107225号文献JP特许文献4JP特开平08-176805号文献JP特许文献5JP特开平04-202762号文献JP特许文献6JP特开平10-030168号文献JP特许文献7JP特开2001-192811号文献JP特许文献8JP特开2003-277919号文献JP特许文献9JP特开平10-030169号文献JP特许文献10JP特开2003-049262号文献发明内容本发明的目的在于提供一种成膜装置和方法，其中，在于在真空容器内部，产生薄膜形成成分的飞散微粒子束，使该飞散微粒子束附着于基板上，形成各种材料的膜的场合，即使在过滤器呈容易制造的形状，低价格的情况下，仍可俘获小滴，另外，通过这样的过滤器，确实不会出现在平板叶片型过滤器的场合存在的原理上的困难，即一度俘获的微粒子被再放出。
为了解决上述问题，本发明的特征在于过滤器的形状不是过去的叶片型，而是在圆板中开设多个通孔的结构的孔状旋转过滤板。
即，本发明涉及产生作为薄膜形成成分的飞散微粒子束，将该飞散微粒子束附着于基板上的成膜装置，其特征在于将孔状旋转过滤板设置于靶和基板之间，该孔状旋转过滤板在圆板中开设贯通到两个表面的多个通孔，能以该圆板的中心为旋转轴高速旋转，该孔状旋转过滤板按照仅仅在该通孔中飞行而穿过该孔的微粒子堆积于基板上，构成小滴的飞行速度较慢的微粒子俘获于该通孔的内面的方式设置。另外，本发明还涉及采用该成膜装置的成膜方法。
在本发明的装置中，孔状旋转过滤板的内部的通孔的直径大于孔状旋转过滤板的表面部分，由此，利用俘获于通孔的内面上的微粒子通过孔状旋转过滤板的旋转，集中于通孔的内面的中间部的特性，将已俘获的微粒子封闭于通孔中，可确实不使其再次释放。按照本发明的装置，还可全部俘获在通孔中飞行的速度为规定的较快的速度以上的微粒子和为规定的较慢的速度以下的微粒子。
按照本发明，可仅仅通过在圆板中开设多个通孔的化学加工或机械加工，制作过滤器，可通过简单的结构，与过去的叶片型过滤器相同，实现微粒子的俘获，并且可采用通孔的内部的曲面，借助过滤器的旋转，将一度俘获的微粒子封闭于通孔的内面的中间部分，可在不产生已俘获的微粒子的再次释放的情况下形成膜。
在采用平板叶片型过滤器而堆积的膜中，观测到从过滤器再次释放的微粒子，但是，在采用本发明的孔状旋转过滤板而堆积的膜中，完全观测不到被认为是由于再次释放而出现在膜上的微粒子，获得高品质的膜。另外，孔状旋转过滤板的制作与过去的平板叶片型相比较，可低价格，高精度地制作。


图1为表示采用旋转过滤器的激光烧蚀薄膜制作装置的结构的一个实例的外形图；图2为本发明的装置所采用的孔状旋转过滤板的外形立体图；图3为表示通孔的直径与所俘获的微粒子的速度的关系的孔状旋转过滤板的剖视图；图4为表示通孔的深度方向的形状的孔状旋转过滤板的剖视图；图5为通孔倾斜的孔状旋转过滤板的剖视图；图6为在图2所示的通孔的结构中，沿其中心线方向倾斜，使微粒子入射方向倾斜的实例的剖视图；图7为表示在图5所示的倾斜的通孔的结构中，对应于微粒子入射方向，其中心线方向倾斜的实例的剖视图；图8为表示通过光刻法，通过金属圆板，制作通孔状结构的旋转过滤板的方法的步骤图；图9为采用钻头或激光蚀刻，制作通孔状结构的旋转过滤板的方法的步骤图；图10为通过3块板的贴合，制作通孔状结构的旋转过滤板的方法的步骤图；
图11为表示实施例1中，孔状旋转过滤板的旋转速度和可俘获的微粒子的最大速度的关系的曲线图；图12为表示实施例1中，采用硅靶的场合的按照孔状旋转过滤板的转数(a)为1000rpm、(b)2500rpm、(c)3000rpm制作的膜的膜表面SEM像的代替图用照片。
具体实施例方式
图1为具有过去的旋转过滤器的激光烧蚀成膜装置的一个实例的外形图。在图1中，通过透镜52会聚的激光53对靶55进行照射，该靶55设置于设在真空容器内部的旋转的靶支架54上，从靶55产生的飞散微粒子56附着于设在基板支架57上的基板58上。基板58和靶55之间的距离最好在10～100mm的范围内。对靶55照射激光53，产生薄膜形成成分的飞散微粒子束，使其飞向基板58方向。俘获构成小滴的飞行速度较慢的微粒子的旋转叶片51设置于靶55和基板58的中间，支承于旋转轴59上，高速地旋转，通过隔断微粒子的飞行通路用旋转的部分，俘获飞行速度较慢的微粒子。在本发明的方法中，代替过去的旋转过滤器，而采用孔状旋转过滤板。
图2为以示意方式表示在本发明的装置中所采用的孔状旋转过滤板的结构的一个实例的立体图。多个通孔3按照其中心线在孔状旋转过滤板1的两个面，沿上下方向而与微粒子的飞行方向平行的方式形成。在图2中，图中未示出的靶(图的下方侧)的面和图中未示出的基板(图的上方侧)的面与孔状旋转过滤板1的两个面平行，通孔3的中心线方向按照与孔状旋转过滤板1的旋转轴方向平行的方式设置。如果孔状旋转过滤板1的旋转停止，则从靶向基板而飞行的微粒子，穿过通孔3而堆积于基板上。
当然，由于与孔状旋转过滤板1的靶侧的表面碰撞的微粒子附着于此处，减小基板上的微粒子的堆积速度，故尽可能地增加通孔3的部分的总面积。在采用该孔状旋转过滤板1的场合，就过滤板的一个面来说，通孔3的部分的总面积占孔状旋转过滤板1的总表面积的比例决定所生成的膜的堆积速度。从没有该孔状旋转过滤板1的场合的堆积速度到采用孔状旋转过滤板的场合的堆积速度怎样减少，可按照下述的公式进行调节。其中，过滤板1的两个面的通孔3的直径相等。
(堆积速度)＝(没有过滤板的场合的堆积速度)×(通孔的部分的总表面积/过滤板的总表面积)在比如，没有过滤板的场合的堆积速度为100nm/min，通孔部分的总面积占过滤板的总表面积的比例为50％的场合，堆积速度为50nm/min，在上述比例为90％的场合，堆积速度为90nm/min。于是，该比例越大，膜堆积越好。另外，最好还从过滤板的重量减轻的方面来考虑。于是，对于孔状旋转过滤板1的两个面，(通孔部分的总表面积/过滤板的总表面积)在80％或以上，特别是最好在90％或以上。如果考虑开孔加工的技术限制、过滤器的机械的强度，则其上限值为95％。
像这样，通过增加通孔部分的总表面积，如果按照一定速度旋转过滤板，则飞行速度较快的微粒子在通孔的内部飞行而通过该内部，但是，飞行速度较慢的微粒子俘获于通孔的内面上。群聚粒子还附着于微粒子的入射侧的旋转板表面的通孔的部分以外，但是，其比例小。必须确定在过滤板的旋转速度、过滤板的两个表面之间的通孔的距离、通孔的尺寸中沿过滤板的圆周方向计算的最大距离(如果通孔的截面为圆形，则与其直径相同)，以便能够充分地俘获构成小滴的较慢的群聚粒子。
像图2所示的那样，孔状旋转过滤板1的表面2的通孔3的形状为圆形，在其直径由X表示，从过滤板1的旋转轴4的中心线到通孔3的中心线的距离由R表示的场合，可通过孔状旋转过滤板1俘获的微粒子的最大速度Vmax(单位＝mm/秒)＝(1/2)hω/tan-1(X/2R)。其中，h表示孔状旋转过滤板1的微粒子飞行方向的通孔的距离(单位＝mm)，ω表示孔状旋转过滤板1的旋转的角速度(单位＝弧度/秒)。按照超过最大速度Vmax的速度飞行的微粒子在通孔的内部飞行而通过该内部，堆积于基板上，Vmax以下的微粒子俘获于孔状旋转过滤板1的通孔的内面上。
像图3所示的那样，如果通孔的直径在入射侧仍为X，在出口侧直径减小，为X’，则低速粒子与上述相同，俘获(1/2)hω/tan-1(X/2R)以下的速度的粒子，另外，如果为满足X-2X’＞0的条件的设计，则还俘获(1/2)hω/tan-1(X-X’/2R)以上的高速粒子。
在统一可通过靠近孔状旋转过滤板1的旋转轴而设置的通孔和靠近周缘而设置的通孔俘获的微粒子的最大速度的场合，必须要求靠近旋转轴的孔的直径较小，靠近周缘部较大。即，越向孔状旋转过滤板的周缘侧，孔的直径越大。针对孔状旋转过滤板1上的每个位置，改变通孔3的直径X和形状，由此，灵活地改变孔状旋转过滤板1的俘获特性。
图4着眼于孔状旋转过滤板的1个通孔，表示过滤板的沿厚度方向的截面。通孔3按照伴随在其深度方向的内部的延伸，直径X增加的方式设计。由此，在通孔的内部形成曲面，已俘获的微粒子集中于通孔3中的扩大的中心部附近的内面，不再次释放。
图5着眼于1个通孔，将通孔3按照其中心线方向沿孔状旋转过滤板1的圆周方向，即，旋转方向倾斜的方式形成的场合的实例，以孔状旋转过滤板1的圆周方向的剖视图来表示。通孔的中心线也可沿过滤板的圆周方向而为直线，但是，作为理想方式，也可按照沿旋转板的圆周延伸的方式而形成曲线，形成弯曲的形状的通孔。另外，像上述那样，与孔状旋转过滤板的上下方向笔直地贯穿的孔相同，如果伴随在其深度方向的内部的延伸，直径X增加，则已俘获的微粒子集中于通孔的内部的扩大的中心部附近的内面，不再次释放。
在图5中，靶位于孔状旋转过滤板1的底侧，从底侧射入微粒子，伴随朝向左侧，孔状旋转过滤板1的旋转，通孔3移动。通孔3必须从入射面向右上方而倾斜，在此时的靶侧的孔状旋转过滤板的表面的通孔3的形状，以沿孔状旋转过滤板1的圆周方向计算的最大距离X、通孔3从微粒子入射面侧朝向反旋转方向倾斜的投影面的通孔3的偏离宽度(投影面的底孔的右端和顶孔的左端的差)d像图示那样定义。
通过使孔状旋转过滤板1的通孔3相对旋转面而倾斜，如通过下面的公式所示的那样，能够全部地俘获可在通孔中飞行而通过该孔的最低速度在Vmin以下的微粒子束和可在通孔中飞行而通过该孔的最大速度Vmax以上的微粒子束。Vmin＝(1/2)hω/tan-1((2X+d)/2R)，Vmax＝(1/2)hω/tan-1(d/2R)。其中，h表示孔状旋转过滤板1的微粒子飞行方向的通孔的距离(单位＝mm)，ω表示孔状旋转过滤板1的旋转的角速度(单位＝弧度/秒)，R表示从靶侧的孔状旋转过滤板1的表面的旋转轴的中心线到通孔3的中心线的距离，X表示在靶侧的过滤板表面的通孔的形状中，沿过滤板的圆周方向计算的最大距离，d表示通孔3从微粒子的入射面侧朝向反旋转方向倾斜的投影面的通孔3的偏离宽度。
像这样，通孔相对孔状旋转过滤板的旋转面倾斜，由此，可形成全部地能够俘获大于可通过通孔设定的微粒子的通过最大速度的微粒子束和低于可通过通孔设定的微粒子的通过最小速度的微粒子束的带通(band-pass)过滤器。并且，孔状旋转过滤板1的粒子入射侧和射出侧的通孔3的直径作为不同的值来调整偏离宽度，由此，可改变通过的微粒子的最大速度。
以上，对微粒子沿垂直方向射入孔状旋转过滤板的旋转面的场合进行了描述，但是，在靶面和基板的面不平行，而倾斜地设置的场合，通孔的中心线方向也可按照相对孔状旋转过滤板的旋转轴方向倾斜的方式设置。图6表示在图2所示的通孔的结构中，其中心线方向倾斜，微粒子入射方向倾斜的实例。另外，图7表示在图5所示的倾斜的通孔的结构中，其中心线方向对应于微粒子入射方向而倾斜的实例。如果过滤板的旋转方向的微粒子的入射角由φ表示，则像图7所示的那样，必须改变通孔3的倾斜角度。
另外，在上面的描述中，对通孔的截面形状为圆形，孔的大小为直径的场合进行了说明，但是，即使为椭圆、多边形等的任意的截面形状，均没有关系。于是，在截面形状不为圆形的场合，将通孔的截面形状计算为沿过滤板的圆周方向的最大距离相当于圆的场合的直径。
下面通过附图，对孔状旋转过滤板的制作方法进行描述。图8着眼于1个通孔，表示采用光刻法，通过由金属形成的圆板形成通孔状结构的方法。通过光刻法，按照所需的位置和直径，以良好的精度，在圆板中形成多个通孔3。孔状旋转过滤板的材质最好为钛等的比重较小的材料，以便减轻旋转系统的负担，但是，也可为真空的释放气体少的不锈钢、铝合金等的其它的金属。
在金属圆板11的两个面上涂敷光抗蚀剂12。在光抗蚀剂12干燥后，按照在所需的位置，形成所需的直径的通孔的方式设置光掩模13，进行光照射。在冲洗后，通过酸或碱溶液进行蚀刻，去除曝光部分。按照挖除的方式对通孔的内部进行蚀刻。通过该蚀刻，形成内部的直径大于表面的贯穿金属圆板11的两个面的通孔3。最后，去除光抗蚀剂12。由此，获得在金属圆板11中开设通孔3的孔状结构的过滤板1。
在金属圆板为不锈钢的场合，蚀刻液一般为38-42Be氯化铁溶液、氯化铁溶液+硝酸，或盐酸100份+硝酸亚汞6.5份+水100份，在金属圆板为钛的场合，采用40％氟酸1份容量+水9份容量(30～32℃)或过硫酸盐+氟化物。
图9着眼于1个通孔而表示通过钻头或激光蚀刻在金属圆板11中形成通孔结构的方法。首先，在由钛板、不锈钢板形成的金属圆板11中，采用钻头或高功率激光、模冲压，形成所需位置和直径的孔。然后，在内外两个表面上，涂敷耐酸或耐碱性的抗蚀剂12，将其浸渍于酸或碱溶液中，对通孔的内部进行蚀刻。其结果是，形成内部的直径大于表面的直径的通孔3。如果蚀刻结束，则在最后去除抗蚀剂12。由此，获得在金属圆板11中开设通孔3的孔状结构的过滤板1。
图10表示3块板贴合，形成通孔结构的一个实例。通过将多块板A、B、C贴合，形成孔状旋转过滤板1。相应的板的孔可采用光刻、激光蚀刻、钻头、模的冲压等方式形成。板A和板C中的相同直径的孔位于相同位置，在其之间，夹持形成直径较大的孔的板B。通孔3的中间部的直径较大，过滤器内部所采用的板的通孔的直径X2大于外侧所采用的板的直径X1。
实施例1下面针对采用图1所示的装置的激光烧蚀法，对俘获构成小滴的原因的微粒子的具体实例进行描述。
在通过涡轮分子泵而实现排气的5×10-7Torr或以下的真空容器内部，按照入射角45°对Si靶照射ArF准分子激光(波长为193nm，FWHM＝20ns)，产生飞散微粒子束，在以50mm的距离间隔开而相对的玻璃基板上，进行Si膜堆积。在靶基板之间，设置图2所示的那样的可高速旋转的孔状旋转过滤板，进行微粒子的俘获。
孔状旋转过滤板按照其旋转轴与微粒子的飞行方向平行的方式设置。通孔的尺寸按照沿通孔的圆周方向的直径部分的旋转轴的内角为3.6度的方式设计，以便统一可在孔状旋转过滤板的中心附近和外侧实现俘获的最大速度。即，图2的X与R按照满足2tan-1(X/2R)＝3.6/180，即，X＝2.00R×10-2(mm)的关系的方式设计。
微粒子射入的一侧的通孔的直径(旋转方向，即，圆周方向)X和通孔的中心线和旋转轴的中心线之间的距离R按照满足X＝2.00R×10-2(mm)的关系的方式设计。孔状旋转过滤板采用直径为200mm，厚度h为10mm的钛圆板。对于通孔的外面和内部的直径的差，内部的直径比外面的直径大约40％。孔状旋转过滤板的旋转速度和可俘获的微粒子的最大速度的关系如图11所示。通孔的部分的总面积占孔状旋转过滤板的总表面的面积的比例约为90％。激光脉冲的通量(fluence)F为4J/cm2，重复频率为10Hz，基板温度为室温。
采用扫描型电子显微镜(SEM)，对已制作的硅薄膜中的微粒子的附着程度进行了评价。图12表示按照孔状旋转过滤板的转数(a)为1000rpm，(b)2500rpm，(c)3000rpm制作的硅薄膜的膜表面观察像。如果上述转数为3000rpm，则知道，将微粒子完全俘获。
产业上的应用可能性本发明的装置和方法可用作通过激光烧蚀法、溅射法、电弧放电法等，在基板上制作金属、半导体、陶瓷等的薄膜的机构，低价格地提供微粒子俘获用的过滤器。另外，用于没有小滴的附着，并且没有已俘获的小滴的再次释放造成的污染的高品质的薄膜的制造。
权利要求
1.一种成膜装置，在该成膜装置中，产生作为薄膜形成成分的飞散微粒子束，将该飞散微粒子束附着于基板上，其特征在于将孔状旋转过滤板设置于靶和基板之间，该孔状旋转过滤板在圆板中开设贯通到两个表面的多个通孔，能以该圆板的中心为旋转轴高速旋转，该孔状旋转过滤板按照仅仅在该通孔中飞行而穿过该孔的微粒子堆积于基板上，构成小滴的飞行速度较慢的微粒子俘获于该通孔的内面的方式设置。
2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于在孔状旋转过滤板的两个表面，通孔的部分的总的表面积占孔状旋转过滤板的总表面积的比例在80％或以上。
3.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于通孔的内部直径大于孔状旋转过滤板的通孔的表面部分的直径。
4.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于通孔中的孔状旋转过滤板的微粒子的入射侧的表面部分的直径大于微粒子的射出侧的表面部分的直径。
5.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于越靠近过滤板的周缘侧，通孔的直径越大，以便在孔状旋转过滤板的表面整个区域，使飞行速度较慢的微粒子的俘获特性保持一定。
6.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于通孔的中心线方向按照与孔状旋转过滤板的旋转轴方向平行的方式设置。
7.根据权利要求6所述的成膜装置，其特征在于孔状旋转过滤板的表面的通孔的形状为圆形，在其直径为X、从孔状旋转过滤板的旋转轴的中心线到通孔的中心线的距离为R时，可通过孔状旋转过滤板能俘获的微粒子的最大速度Vmax(单位＝mm/秒)＝(1/2)hω/tan-1(X/2R)(其中，h表示孔状旋转过滤板的微粒子飞行方向的通孔的距离(单位＝mm)，ω表示孔状旋转过滤板的旋转的角速度(单位＝弧度/秒))。
8.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于通孔的中心线方向按照相对孔状旋转过滤板的旋转轴方向倾斜的方式设置。
9.根据权利要求8所述的成膜装置，其特征在于对于可在通孔中飞行而通过该孔的最低速度在Vmin以下的微粒子束和可通过的最高在速度Vmax以上的微粒子束，Vmin＝(1/2)hω/tan-1((2X+d)/2R)、Vmax＝(1/2)hω/tan-1(d/2R)(其中，h表示孔状旋转过滤板的微粒子飞行方向的通孔的距离(单位＝mm)，ω表示孔状旋转过滤板的旋转的角速度(单位＝弧度/秒)，R表示从靶侧的孔状旋转过滤板的表面的旋转轴的中心线到通孔的中心线的距离，X表示将靶侧的孔状旋转过滤板的表面的通孔的形状，以沿孔状旋转过滤板的圆周方向计算的最大距离，d表示通孔从微粒子的入射面侧朝向反旋转方向倾斜的投影面的通孔的偏离宽度)。
10.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于通孔的中心线方向按照相对孔状旋转过滤板的旋转轴方向倾斜的方式设置。
11.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于通过蚀刻，在由金属形成的圆板中形成通孔。
12.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于通孔通过将通孔的直径不同的多块圆板贴合的方式形成。
13.一种成膜方法，其特征在于采用权利要求1～12中的任何一项所述的成膜装置。
14.根据权利要求13所述的成膜方法，其特征在于根据通孔的直径和形状，调整孔状旋转过滤板的表面的各领域的微粒子俘获特性。
15.根据权利要求13或14所述的成膜方法，其特征在于全部俘获高于可通过通孔设定的微粒子的通过最大速度的微粒子束、和低于可通过通孔设定的微粒子的通过最小速度的微粒子束。
16.根据权利要求13～15中的任何一项所述的成膜方法，其特征在于成膜方法为激光烧蚀方法。
全文摘要
本发明的课题在于在通过激光烧蚀法、溅射法、电弧放电法等，产生薄膜形成成分的飞散微粒子束，使该飞散微粒子束附着于基板上的成膜装置中，即使在用于俘获小滴的过滤器呈容易制作形状，价格低的情况下，仍容易实现俘获，并且，确实地不再次释放一度俘获的微粒子，防止薄膜的污染。将孔状旋转过滤板设置于靶和基板之间，该孔状旋转过滤板在圆板中开设贯通到两个表面的多个通孔，能以该圆板的中心为旋转轴高速旋转，该孔状旋转过滤板按照仅仅在该通孔中飞行而穿过该孔的微粒子堆积于基板上，构成小滴的飞行速度较慢的微粒子俘获于该通孔的内面的方式设置。通孔的部分的总的表面积占孔状旋转过滤板的总表面积的比例在80％或以上，通孔的内部直径最好大于过滤板的表面部分的直径。
文档编号H01L21/02GK1863936SQ20048002928
公开日2006年11月15日 申请日期2004年8月11日 优先权日2003年10月10日
发明者吉武刚 申请人:独立行政法人科学技术振兴机构