专利名称：真空传输系统及其实现压力控制的方法
技术领域：
本发明涉及一种半导体加工技术，尤其涉及一种真空传输系统及其实现压力控制的方法。
背景技术：
在半导体的基片传输过程中，机械手把基片从真空传输平台腔室搬运到真空反应腔 室。为了减少颗粒污染要求真空传输平台腔室压力与真空反应腔室压力应当匹配。 一般通 过控制真空传输平台腔室压力来实现与真空反应腔室的压力匹配，进而达到颗粒控制的目 的。
如图1所示，现有技术中，在真空传输平台腔室和真空泵连接的真空管路之间安装了 一个针阔，在真空传输平台的氮气气路系统中，靠近真空传输平台腔室的管路中安装一个 控制阀。在手动调节针阀的配合下，控制器依据通过调节控制阀来实现真空腔室压力控 制，使其与真空反应腔室的压力匹配，进而实现颗粒控制的目的。
上述现有技术至少存在以下缺点
在使用中对于真空传输平台腔室本身及管路的控制模型依赖度较大，模型建立不准 确，不便于实现真空传输平台腔室的压力控制。
发明内容
本发明的目的是提供一种真空传输系统及其实现压力控制的方法，该系统和方法能简 便、精确的控制真空传输平台腔室的压力。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的.-
本发明的真空传输系统，包括真空传输平台腔室，所述真空传输平台腔室连接有进气 管路，所述的进气管路上设有质量流量控制器，用于调节进入所述真空传输平台腔室的气 体流量。
本发明的上述的真空传输系统实现压力控制的方法，通过控制进气管路上的质量流量 控制器的开度，调节进入真空传输平台腔室的气体流量，实现对真空传输平台腔室的压力 控制。
由上述本发明提供的技术方案可以看出，本发明所述的真空传输系统及其实现压力控 制的方法，由于真空传输平台腔室的进气管路上设有质量流量控制器，通过控制质量流量 控制器的开度，调节进入真空传输平台腔室的气体流量，实现对真空传输平台腔室的压力 控制。能简便、精确的控制真空传输平台腔室的压力。
图l为现有技术中真空传输系统的结构示意图； 图2为本发明的真空传输系统的结构示意图。
具体实施例方式
本发明的真空传输系统，其较佳的具体实施方式
，包括真空传输平台腔室，所述真空 传输平台腔室连接有进气管路，进气管路上设有质量流量控制器，用于调节进入所述真空 传输平台腔室的气体流量。进气管路上也可以设置压力控制器代替质量流量控制器，也能 够实现同样的目的。质量流量控制器与真空传输平台腔室之间的连接管路的长度小于等于 1.5米。进气管路上还可以设有调压阀、手动开关阀等。
真空传输系统还包括传输平台控制器，真空传输平台腔室设有压力检测装置，压力检 测装置可以为真空规等。压力检测装置检测真空传输平台腔室的压力信号，并将该信号输 入给传输平台控制器，传输平台控制器根据该信号控制所述质量流量控制器的开度。
真空传输平台腔室的抽气管路上设有开关阀，开关阀可以为气动阀。传输平台控制器 可以根据压力信号控制所述开关阀的开关，也可以根据指令控制开关阀的开关。
本发明的上述的真空传输系统实现压力控制的方法，可以通过控制进气管路上的质量 流量控制器的开度，调节进入真空传输平台腔室的气体流量，实现对真空传输平台腔室的 压力控制。可以根据真空传输平台腔室的压力信号控制质量流量控制器的开度。还可以根 据真空传输平台腔室的压力信号控制抽气管路的开关。
如图2所示，具体实施例
在真空传输系统的氮气气路系统中，靠近真空传输平台的管路中安装一个质量流量控 制器。通过质量流量控制器调节进入真空腔室的氮气流量来实现真空传输平台腔室的压力 控制，使其与真空反应腔室的压力匹配，进而达到颗粒控制的目的。
具体包括真空传输平台腔室、氮气气路、真空气路、控制电路。另外真空传输平台腔 室的还连接有快速充气、快速抽真空气路(图中未示出)。其中，
真空传输腔室 一般来讲至少包含两个门阔连接反应腔室(刻蚀、物理汽相沉积、化 学汽相沉积等)和真空大气互锁腔室，至少一个机械手进行基片传输，包括一个氮气接 口、 一个抽真空接口，这两个接口应当放置在真空传输腔室相反的位置上(比如一个在真 空传输腔室的顶部一个在真空传输腔室的底部，或者在在真空传输腔室的底部的相反两 侧，又或者分别在真空传输腔室的两侧墙壁等)。
氮气气路包括工厂氮气接口，手动开关阀、调压阀(安装在手动开关阀与质量流量 控制器之间)、质量流量控制器(距离真空传输腔室安装管路长度小于等于1.5米)。
真空气路包括气动开关阀、真空泵(干泵、分子泵、冷凝泵等)。
控制电路包括传输平台控制器(包含处理器、存储单元以及相应的支持电路)、真 空规(数字压力变送器、模拟压力变送器等)、电磁阀等。 本发明中的真空传输系统按照以下方式进行工作 系统工作之前应使氮气气路中的手动开关阀处于打开状态。
首先，传输平台控制器输出信号控制真空泵工作，并打开真空气路中的开关阀。在此 过程中，控制器通过安装在真空传输腔室真空规不断监视真空传输腔室的压力，当压力接 近预先设定值的时候，控制器输出信号让质量流量控制器以一定的设定点投入工作，通过 质量流量控制器的调节使得真空传输腔室达到一个动态的平衡，控制压力到预先设定值， 以期与反应腔室的压力相匹配，进而达到颗粒控制的目的。
本发明通过控制质量流量控制器，实现真空传输腔室压力控制，以便减少基片传输中 的颗粒污染，进而达到颗粒控制的目的，简化了传输控制平台控制器的工作，使得系统架 构趋于分布式架构，减少系统升级改造的繁杂程度。同时避免了过分依赖控制系统模型的 缺陷。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式
，但本发明的保护范围并不局限于此，任 何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都 应涵盖在本发明的保护范围之内。
权利要求
1、一种真空传输系统，包括真空传输平台腔室，所述真空传输平台腔室连接有进气管路，其特征在于，所述的进气管路上设有质量流量控制器，用于调节进入所述真空传输平台腔室的气体流量。
2、 根据权利要求l所述的真空传输系统，其特征在于，还包括传输平台控制器，所述 的真空传输平台腔室设有压力检测装置，所述压力检测装置检测所述真空传输平台腔室的 压力信号，并将该信号输入给所述传输平台控制器，所述传输平台控制器根据该信号控制 所述质量流量控制器的开度。
3、 根据权利要求2所述的真空传输系统，其特征在于，所述的压力检测装置为真空规。
4、 根据权利要求2所述的真空传输系统，其特征在于，所述的真空传输平台腔室连接 有抽气管路，所述抽气管路上设有开关阀，所述传输平台控制器根据所述压力信号控制所 述开关阀的开关。
5、 根据权利要求4所述的真空传输系统，其特征在于，所述的开关阀为气动阀。
6、 根据权利要求l所述的真空传输系统，其特征在于，所述的质量流量控制器与所述 真空传输平台腔室之间的连接管路的长度小于等于l. 5米。
7、 根据权利要求l所述的真空传输系统，其特征在于，所述的进气管路上还设有调压阀。
8、 一种权利要求1至7所述的真空传输系统实现压力控制的方法，其特征在于，通过 控制进气管路上的质量流量控制器的开度，调节进入真空传输平台腔室的气体流量，实现 对真空传输平台腔室的压力控制。
9、 根据权利要求8所述的实现压力控制的方法，其特征在于，根据所述真空传输平台腔室的压力信号控制所述质量流量控制器的开度。
10、 根据权利要求9所述的实现压力控制的方法，其特征在于，根据所述真空传输平台腔室的压力信号控制抽气管路的开关。
全文摘要
本发明公开了一种真空传输系统及其实现压力控制的方法，包括真空传输平台腔室，真空传输平台腔室的进气管路上设有质量流量控制器，通过控制进气管路上的质量流量控制器的开度，调节进入真空传输平台腔室的气体流量，实现对真空传输平台腔室的压力控制，使其与真空反应腔室的压力匹配，进而实现硅片传输过程中的颗粒控制的目的。
文档编号H01L21/67GK101383312SQ20071012134
公开日2009年3月11日 申请日期2007年9月4日 优先权日2007年9月4日
发明者晓 魏 申请人:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司