专利名称：传输机构以及具有该传输机构的湿制程设备的制作方法
技术领域：
本发明关于一种传输机构，尤其涉及一种具有调整装置的传输机构以及具有该传输机构的湿制程设备。
背景技术：
在电子制造工业生产中，尤其是制造液晶显示面板的过程中，对基板的表面进行 湿化学处理是一种常见的操作过程，有多道制程会涉及湿化学处理。所谓湿化学处理是指 采用化学溶液对基板的表面进行腐蚀、沉积薄膜或清洗的操作过程。例如，印刷线路板制造 过程中的电子线路的定义和线路板的清洗步骤就属于湿化学处理过程。湿化学处理设备主 要是让基板承载于传动机构上，并经由传输系统的传动，让基板经过喷洒药剂的喷洒系统， 以让药剂均勻冲刷该基板，而依据所使用药剂的不同，即可以对基板进行不同的湿化学处 理作业。请参见图1，图1所示为现有技术中的传输机构的与基板的结合示意图。传统的连 续湿化学处理设备中，其基板1的传输系统2包含多个上压滚轮3和多个下压滚轮4，位于 传输系统2的输送路径5的上侧与下侧，上下侧的滚轮用于带动输送路径5上的基板1，而 且上压滚轮3和下压滚轮4是采用固定式的设计，即上压滚轮3和下压滚轮4被固定在输送 路径的两侧上，因而上压滚轮3和下压滚轮4之间的距离是不可以调整的，当然根据需要， 上压滚轮3和下压滚轮4可以对称也可以不对称。这种固定式滚轮设计的缺点是，单纯的 藉由上压滚轮3本身材质的重量产生下压的力量很难保证各个上压滚轮3和下压滚轮4之 间的间距相同，或者说，很难保证各个上压滚轮3和下压滚轮4之间的压力相同，因此这种 固定式上下滚轮组在传输基板1时，要么由于上压滚轮3和下压滚轮4不能同时接触基板 1而达不到传输的效果，形成一定的倾斜度引起传送面的不平稳导致基板偏移，要么由于上 压滚轮3和下压滚轮4之间的间距太小使得施加在基板1上的压力太大而造成损伤。很明 显，传统的固定式滚轮设计已经越来越不能适应现代半导体工业的要求。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提供一种传输机构，利用调整装置调整施加在上压 滚轮的下压力度，改善基板传送时的稳定性问题，避免因下压力道不易调整而易有破片或 基板偏移的风险，并配合传送速度进行有效调整。为达上述目的，本发明提供一种传输机构，用以传送基板。该传输机构包括上压机 构、下压机构和调节结构。该上压机构包括上压滚轮、上固定座和调整装置，上固定座用以 固定该上压滚轮；调整装置用以调整该上压滚轮的高度和压力，该调整装置固定于该上固 定座，并具有与该上压滚轮的轴承接触的压制块、设置于该压制块上的至少一弹性件以及 用于调整该弹性件弹力的压力调整元件。该下压机构包括下压滚轮和下固定座，该下压滚 轮与该上压滚轮配合夹制并传输该基板；该下固定座用以固定该下压滚轮。该调节结构连 接该上固定座和该下固定座，并用以调节该上固定座和该下固定座之间的高度。
作为可选的技术方案，该调整装置还包括第一层板，固设于该上固定座；第二层板，与该压制块平行；支撑杆，其顶端突设于该第一层板，且该支撑杆贯穿第二层板并穿设 该弹性件且固接于该压制块；以及高度调整螺栓，具有第一端和第二端，该第一端突设于该 第一层板，该第二端突设于该第二层板，连接该第一端和该第二端的螺杆依次螺入第一螺 帽、第二螺帽和该压力调整元件，其中第一螺帽和第二螺帽分设于该第一层板的两侧，该压 力调整元件设置于该第二层板上，并位于该第一层板和该第二层板之间。本发明还提供一种湿制程设备。该湿制程设备包括如上所述的传输机构，该传输 机构用以传送基板。作为可选的技术方案，该湿制程包括该基板的表面腐蚀、表面沉积、表面清洗、表 面图形定义、水清洗或吹干。关于本发明的优点与精神可以藉由以下的发明详述及所附图式得到进一步的了解。
图1所示为现有技术中的传输机构与基板的结合示意图；图2所示为依据本发明的传输机构的结构示意图；图3所示为依据本发明的传输机构与基板的结合示意图。
具体实施例方式请参见图2和图3，图2所示为依据本发明的传输机构的结构示意图，图3所示为 依据本发明的传输机构与基板的结合示意图。本发明的湿制程设备包括有传输机构10，用 以传送基板1，图3中只是以一个传输机构10为示例，实际使用中，湿制程设备可包含多个 传输机构10，且分布于基板1传输路径的两侧。湿制程例如为连续湿化学处理，具体为使用 一组或一组以上的滚轮组使得基板1沿着一个方向不断移动，从而对基板1使用溶液进行 连续湿化学处理，包括基板1的表面腐蚀、表面沉积、表面清洗、表面图形定义、水清洗或吹 干。上述溶液例如为水或化学溶液。传输机构10包括上压机构11、下压机构12和调节结构13。上压机构包括上压滚 轮14、上固定座15和调整装置16，上固定座15用以固定上压滚轮14。调整装置16用以 调整上压滚轮14的高度和压力，调整装置16固定于上固定座15，并且调整装置16具有与 上压滚轮14的轴承20接触的压制块17、设置于压制块17上的至少一弹性件18以及用于 调整弹性件18弹力的压力调整元件19。在本实施方式中，调整装置16相对位于上压滚轮 14的正上方。且在压制块17上两侧设置有相对设置的两个弹性件18，这两个弹性件18利 用其弹性缓冲作用能驱使压制块17恒下压上压滚轮14的轴承20，从而带动其上压滚轮14 下压至基板1上。下压机构12包括下压滚轮24和下固定座25，下固定座25用以固定下压滚轮24， 下压滚轮24与上压滚轮14配合夹制并传输基板1。上压滚轮14和下压滚轮24分别固定 在上滚轮轴34和下滚轮轴44上，上下两个滚轮轴在各自的主动驱动轴的驱动下使得上压 滚轮14和下压滚轮24相对转动带动夹在上压滚轮14、下压滚轮24之间的基板1在上下传 动滚轮间输送。其中最尤情况，上压滚轮14和下压滚轮24以相同的线速度分别沿顺时针方向和逆时针方向相对转动。 调整装置16还包括第一层板161、第二层板162、支撑杆163以及高度调整螺栓 164。第一层板161固设于上固定座15，而且第二层板162与压制块17平行，这样能保证 调整压制块17施加在上压滚轮14时力道均衡。支撑杆163的顶端突设于第一层板161， 且支撑杆163贯穿第二层板162并穿设弹性件18且固接于压制块17，弹性件18是位于第 二层板162与压制块17之间。可以理解的，支撑杆163的顶端直径会大于杆部的直径，可 防止支撑杆163的顶端跳脱第一层板161。其中弹性件18例如为弹簧。高度调整螺栓164 具有第一端165和第二端166，第一端165突设于第一层板161，第二端166突设于第二层 板162，连接第一端165和第二端166的螺杆167依次螺入第一螺帽168、第一层板161、第 二螺帽169、压力调整元件19和第二层板162，其中压力调整元件19例如为螺帽。同样可 以理解的，第一端165和第二端166的直径会大于螺杆167的直径，防止高度调整螺栓164 自第一层板161和第二层板162跳脱。而且第一螺帽168和第二螺帽169分设于第一层板 161的两侧，根据基板1传输过程中的实际情况调整弹性件18的伸缩长度后，利用第一螺 帽168和第二螺帽169紧邻第一层板161的两侧将高度调整螺栓164固定。之后再利用压 力调整元件19调节施加在压制块17上的压力，其中压力调整元件19设置于第二层板162 上，并位于第一层板161和第二层板162之间。当基板1通过下压滚轮24和上压滚轮14之间时，由于调整装置16的压制块17 通过弹性件18压置在上压滚轮14的轴承20上，保证了上压滚轮14在任何情况下始终能 有一个力施加在基板1上，因此即使上压滚轮14和下压滚轮24之间的间距发生变化，本发 明的压制块17仍然能够保持有一定的压力在基板1上，保证了基板1能始终平稳地通过上 压滚轮14和下压滚轮24之间，以便顺利地进行连续湿化学处理。同时，传输机构10还包括有调节结构13，调节结构13连接上固定座15和下固定 座25，并用以调节上固定座15和下固定座25之间的高度，从而与调整装置16配合使用将 施加在上压滚轮14上的力调到最适状态，保证基板1在上压滚轮14和下压滚轮24之间的 顺利传输。其中调节结构13可为螺栓或螺丝。本实施方式中以在传输机构10的两侧分别 设有一调节结构13为例，这样能保证上固定座15和下固定座25之间的高度调节平衡。综上所述，本发明主要是利用具弹性件的上压机构压制在上压滚轮的轴承上，根 据传送过程中的实际情况实时调整上压滚轮的压力，同时配合调节机构调整上压滚轮的上 固定座和下压滚轮的下固定座之间的高度，可有效使基板于湿制程设备传送时不因倾斜及 重力影响而产生偏移，进而改善基板传送效果。藉由以上具体实施方式
的详述，是希望能更加清楚描述本发明的特征与精神，而 并非以上述所揭露的具体实施方式
来对本发明的权利要求范围加以限制。相反地，其目的 是希望能涵盖各种改变及具相等性的安排于本发明的权利要求范围内。因此，本发明的权 利要求范围应该根据上述的说明作最宽广的解释，以致使其涵盖所有可能的改变以及具相 等性的安排。
权利要求
一种传输机构，用以传送基板，其特征在于该传输机构包括上压机构，该上压机构包括上压滚轮；上固定座，用以固定该上压滚轮；以及调整装置，用以调整该上压滚轮的高度和压力，该调整装置固定于该上固定座，并具有与该上压滚轮的轴承接触的压制块、设置于该压制块上的至少一弹性件以及用于调整该弹性件弹力的压力调整元件；下压机构，该下压机构包括下压滚轮，与该上压滚轮配合夹制并传输该基板；以及下固定座，用以固定该下压滚轮；以及调节结构，该调节结构连接该上固定座和该下固定座，并用以调节该上固定座和该下固定座之间的高度。
2.如权利要求1所述的传输机构，其特征在于该压力调整元件为螺帽。
3.如权利要求2所述的传输机构，其特征在于该调整装置还包括第一层板，固设于该上固定座；第二层板，该第二层板与该压制块平行；支撑杆，该支撑杆的顶端突设于该第一层板，且该支撑杆贯穿第二层板并穿设该弹性 件且固接于该压制块；高度调整螺栓，具有第一端和第二端，该第一端突设于该第一层板，该第二端突设于该 第二层板，连接该第一端和该第二端的螺杆依次螺入第一螺帽、第二螺帽和该压力调整元 件，其中第一螺帽和第二螺帽分设于该第一层板的两侧，该压力调整螺帽设置于该第二层 板上，并位于该第一层板和该第二层板之间。
4.如权利要求1所述的传输机构，其特征在于该调节结构为螺栓或螺丝。
5.如权利要求1所述的传输机构，其特征在于该弹性件为弹簧。
6.如权利要求1所述的传输机构，其特征在于上压滚轮和下压滚轮传送速度相同。
7.—种湿制程设备，其特征在于该湿制程设备包括如权利要求1-6任意一项所述的传 输机构，该传输机构用以传送基板。
8.如权利要求7所述的湿制程设备，其特征在于湿制程设备的湿制程包括该基板的表 面腐蚀、表面沉积、表面清洗、表面图形定义、水清洗或吹干程序。
全文摘要
传输机构以及具有该传输机构的湿制程设备，用以传送基板。该传输机构包括上压机构、下压机构和调节结构。该上压机构包括上压滚轮、上固定座和调整装置，上固定座用以固定该上压滚轮；调整装置用以调整该上压滚轮的高度和压力，该调整装置固定于该上固定座，并具有与该上压滚轮的轴承接触的压制块、设置于该压制块上的至少一弹性件以及用于调整该弹性件弹力的压力调整元件。该下压机构包括下压滚轮和下固定座，该下压滚轮与该上压滚轮配合夹制并传输该基板；该下固定座用以固定该下压滚轮。该调节结构连接该上固定座和该下固定座，并用以调节该上固定座和该下固定座之间的高度。
文档编号H01L21/00GK101847593SQ20091013064
公开日2010年9月29日 申请日期2009年3月23日 优先权日2009年3月23日
发明者张圣正, 徐瑞富, 杨俊良, 谢明达 申请人:友达光电股份有限公司