专利名称：光阻取样装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种装置，具体地说，涉及一种应用于半导体制造的光阻取样装置。
背景技术：
涂布显影机用于对硅片表面进行喷涂，并进行曝光、显影，从而将设计的电路映射 到硅片表面上。在喷涂的过程中，为了保证喷涂的质量，需要经常将喷出的光阻材料进行抽 样分析和检测。为了取得光阻材料样品，传统的方法需要用手将位于涂布显影机内的承载小车上 的喷嘴摘下，并手持喷嘴在涂布显影机外面，再将烧杯放置到喷嘴口下取样，这样才能消除 涂布显影机自锁并操作光阻喷嘴喷出取样，对于放置在涂布显影机内部深处的喷嘴，甚至 需要将承载小车拉出才能操作，由于喷嘴位于涂布显影机内部深处，而且空间比较小，操作 十分困难，容易碰到光阻喷嘴，造成对光阻喷嘴的损伤。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种光阻取样装置，操作简单，避免碰及 光阻喷嘴造成的损伤。为解决以上技术问题，本实用新型提供的一种光阻取样装置，所述光阻取样装置 包含承载面，所述承载面的正面中心位置处设有承载部件，所述承载面的反面上设有卡持 机构，优选地，所述承载面的反面为平面，所述承载面呈圆形。进一步的，所述承载部件为突出块，所述突出块内部设有凹槽，所述凹槽的中心与 所述承载面同心，优选的，所述防漏圈为圆环。进一步的，所述承载面的正面上还设有防漏圈，所述承载部件位于所述防漏圈内。进一步的，所述卡持机构呈圆环状，与所述承载面同心。进一步的，所述卡持机构包括若干卡持块，所述卡持块以所述承载面的圆心为中 心，呈圆状分布。进一步的，所述卡持机构包括若干卡持块，所述卡持块以所述承载面的圆心为中 心，呈对称分布。进一步的，所述承载面、卡持机构、防漏圈以及承载部件一体成型。与现有技术相比，本实用新型提出的光阻取样装置，通过在所述光阻取样装置的 正面中心位置处设有一承载部件，并在该突出块上放置一取样用的烧杯，配合对机器的操 作即可实现自动化取样，从而避免了人工在取样的过程中操作困难及容易碰伤光阻喷嘴的 问题。
图1为本发明实施例的光阻取样装置正面的立体示意3[0014]图2为本发明实施例的光阻取样装置反面的立体示意图；图3为本发明的卡持机构一种实施例的平面示意图；图4为本发明的卡持机构另一种实施例的平面示意图；图5为本实用新型实施例的光阻取样装置应用的分解示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的技术特征更明显易懂，
以下结合附图与实施例，对本实用新型 做进一步的描述。请参阅图1，图1为本发明实施例的光阻取样装置正面的立体示意图，本实施例的 光阻取样装置2包含承载面24，所述承载面2呈圆形，在该承载面1的正面中心位置处设 有一承载部件21，所述承载部件21为突出块，其内部设有凹槽22，所述凹槽22的中心与 所述承载面24同心，用以放置对光阻进行采样的烧杯，其尺寸在设计时与烧杯的外径相适 应，在所述承载面24的正面上还设置有防漏圈20，从而可以防止喷出或取出光阻时的意外 洒出液体污染机器内环境，所述承载部件21位于所述防漏圈20内。请参阅图2，图2为本发明实施例的光阻取样装置反面的立体示意图，所述承载面 24的反面为平面，便于在将所述承载面24的反面固定在旋转吸盘时，采用真空吸住。在所 述承载面24的反面上设有卡持机构23，该卡持机构23呈圆环状，与所述承载面24同心。 所述承载面24、卡持机构23、防漏圈20以及承载部件21 —体加工成型制成。请参阅图3以及图4，所述卡持机构并不仅仅局限上述结构，如图3所示，图3为本 发明的卡持机构一种实施例的平面示意图，所述卡持机构包括六块卡持块23，所述卡持块 23以所述承载面24的圆心为中心，呈圆状分布。如图4所示，图4为本发明的卡持机构另一种实施例的平面示意图，所述卡持机构 包括二块卡持块23，所述卡持块23以所述承载面24的圆心为中心，呈对称分布。请参阅图5，图5为本实用新型实施例的光阻取样装置应用的分解示意图，在生产 时，涂布显影机的机械手臂(未标示)将晶圆(未标示)放置到旋转吸盘3上，旋转吸盘3 再提供真空将晶圆吸紧固定，喷涂时，机械手臂将光阻喷嘴提起并移动至晶圆中心上方，启 动机器，光阻喷嘴1喷涂出光阻，喷涂的同时，旋转吸盘3带动晶圆旋转，在离心力的作用 下，喷涂在晶圆上的光阻均勻散开，在晶圆的表面上形成一层光阻层(未标示)，为了防止 由光阻飞溅引起的污染，通常在承载小车5上设置有一外罩4，该外罩4高出所述旋转吸盘 3，从而可以防止光阻飞溅出去。为了取得喷嘴1上的光阻样品来进行分析，取出晶圆之后，本实施例中，将光阻取 样装置2反面的卡持机构23与旋转吸盘3相卡持进行定位，待定位好后，旋转吸盘3提供真 空才将光阻取样装置2吸紧固定，并在所述承载部件21内设置的凹槽22放置有烧杯(未 标示)，再操作机械手臂将喷嘴1移动至烧杯正上方，光阻喷嘴1喷涂出光阻在小烧杯内，再 将机械手臂移动喷嘴回原位，即可取出光阻样品，整个过程不需要拉出承载小车，也不需要 接触光阻喷嘴，实现自动化方式取得光阻样品，避免了传统方法取样时人工摘下喷嘴过程 中操作困难以及容易碰伤光阻喷嘴1的问题。以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行 业的技术人员应该了解，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进 都落入要求保护的本实用新型范围内。
权利要求一种光阻取样装置，其特征在于所述光阻取样装置包含承载面，所述承载面的正面中心位置处设有承载部件，所述承载面的反面上设有卡持机构。
2.如权利要求1所述的光阻取样装置，其特征在于所述承载面的反面为平面。
3.如权利要求1所述的光阻取样装置，其特征在于所述承载面呈圆形。
4.如权利要求1所述的光阻取样装置，其特征在于所述承载部件为突出块，所述突出 块内部设有凹槽，所述凹槽的中心与所述承载面同心。
5.如权利要求1所述的光阻取样装置，其特征在于所述承载面的正面上还设有防漏 圈，所述承载部件位于所述防漏圈内。
6.如权利要求5所述的光阻取样装置，其特征在于所述防漏圈为圆环。
7.如权利要求1所述的光阻取样装置，其特征在于所述卡持机构呈圆环状，与所述承 载面同心。
8.如权利要求1所述的光阻取样装置，其特征在于所述卡持机构包括若干卡持块，所 述卡持块以所述承载面的圆心为中心，呈圆状分布。
9.如权利要求1所述的光阻取样装置，其特征在于所述卡持机构包括若干卡持块，所 述卡持块以所述承载面的圆心为中心，呈对称分布。
10.如权利要求5所述的光阻取样装置，其特征在于所述承载面、卡持机构、防漏圈以 及承载部件一体成型。
专利摘要本实用新型公开了一种光阻取样装置，所述光阻取样装置包含承载面，所述承载面的正面中心位置处设有承载部件，所述承载面的反面为平面，所述承载面的反面上设有卡持机构，所述承载面呈圆形。所述承载部件为突出块，所述突出块内部设有凹槽，所述凹槽的中心与所述承载面同心，优选的，所述防漏圈为圆环，进一步的，所述承载面的正面上还设有防漏圈，所述承载部件位于所述防漏圈内。本实用新型提出的光阻取样装置，通过在所述光阻取样装置的正面中心位置处设有一承载部件，并在该突出块上放置一取样用的烧杯，配合对机器的操作即可实现自动化取样，从而避免了人工在取样的过程中操作困难及容易碰伤光阻喷嘴的问题。
文档编号H01L21/66GK201681799SQ20102018076
公开日2010年12月22日 申请日期2010年4月29日 优先权日2010年4月29日
发明者蒋国伟, 袁刚 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;武汉新芯集成电路制造有限公司