专利名称：缓冲式药液添加系统的制作方法
技术领域：
缓冲式药液添加系统
技术领域：
本实用新型涉及ー种用于太阳能硅电池湿法刻蚀机及制绒机的缓冲式药液添加系统，该系统主要应用于防止腐蚀性药液添加时快速不安全性，解决了该设备中添加的精确度和安全性。
背景技木目前，国内国产的太阳能硅电池湿法刻蚀及制绒设备中，由于药液添加的特殊エ艺要求，添加速度过快，导致添加盒液位波动较大，当液位波动较大时影响添加药液的精度同时，对液位监测传感器带来干扰。
实用新型内容为了保证药液添加系统的精确度和传感器的准确输出，本实用新型提供了ー种缓冲式药液添加系统，通过这套缓冲系统，解决了传统的添加导致精确度低，传感器误反馈的难题。充分提高了药液的浓度比例，使エ艺达到理想的要求。本实用新型的上述目的通过以下的技术方案来实现一种缓冲式药液添加系统，包括缓冲盒、进液管和添加液管，其特征在干所述缓冲盒内设有高精度液位计，并且液位计设有保护装置使液位上升是在浮力作用下完成，避免了连续添加液面浮动所带来的误差，提闻液位显不精度。所述液位计保护管上方开有透气孔，避免内压差使液位不准确。本实用新型的有益效果是药液快速添加时能精确控制添加药液体积，明显提高药液配比浓度同时达到理想的エ艺要求。
图I为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型进ー步详述如图I所示，一种缓冲式药液添加系统，包括缓冲盒I、进液管2和添加液管3，其特征在于所述缓冲盒I内设有高精度液位计4，所述高精度液位计4上设有液位计保护管5。药液通过进液管2进入缓冲盒I内，由于高精度液位计4有液位计保护管5的保护，当进液管2快速进液时，对高精度液位计4产生较小的干扰保证液位计准确反馈液位高度。为了尽可能在结构上降低液面波动，在液位计保护管5上方开有透气孔(图中未示出)，保证液位计4因压カ差带来的误显示的情况，致使药液添加精度降低。由于药液添加通常在几次连续添加过程中完成，缓冲式药液添加系统通过液位保护管，在浮力的作用下使液位缓慢上升，液面波动微小可以消除连续添加中带来的误差提高添加精度。 则本技术方案实施完毕。
权利要求1.一种缓冲式药液添加系统，包括缓冲盒、进液管和添加液管，其特征在于所述缓冲盒内设有高精度液位计，所述高精度液位计上设有液位计保护管。
2.根据权利要求I所述的ー种缓冲式药液添加系统，其特征在于所述液位计保护管上方开有透气孔。
专利摘要本实用新型公开了一种缓冲式药液添加系统，包括缓冲盒、进液管和添加液管，其特征在于所述缓冲盒内设有高精度液位计，所述高精度液位计上设有液位计保护管。本实用新型的有益效果是药液快速添加时能精确控制添加药液体积，明显提高药液配比浓度同时达到理想的工艺要求。
文档编号H01L31/18GK202601696SQ201220104208
公开日2012年12月12日 申请日期2012年3月19日 优先权日2012年3月19日
发明者施利君, 钱诚 申请人:苏州晶洲装备科技有限公司