磁吸式按键的制作方法

文档序号:7010961阅读:155来源:国知局
磁吸式按键的制作方法
【专利摘要】本发明提供了一种磁吸式按键,其包含底板、键帽、第一磁吸部以及第二磁吸部。第二磁吸部被第一磁吸部磁吸,以提供键帽向上回复力。本发明的磁吸式按键还包含缓冲构件或减噪结构。缓冲构件设置于第二磁吸部朝向第一磁吸部运动的运动路径上。减噪结构至少形成于第一磁吸部和第二磁吸部其中之一上。本发明的磁吸式按键不但可以提供操作者按压手感,还可以在操作过程能减少噪音。
【专利说明】磁吸式按键
【技术领域】
[0001]本发明是关于一种磁吸式按键,特别是关于在操作过程能减少噪音的磁吸式按键。
【背景技术】
[0002]一般的磁吸式按键,是利用磁铁等磁性元件吸引导磁性元件,以提供键帽向上回复力。当键帽被外力按压克服向上回复力时,键帽移动至按压位置。当按压键帽的外力消失时,导磁性元件朝向磁性元件移动,最后撞击磁性元件,再次提供键帽向上回复力。藉此,磁吸式按键可以提供操作者按压手感。
[0003]然而,导磁性元件撞击磁性元件时会发生噪音。

【发明内容】

[0004]因此,本发明所欲解决的技术问题在于提供一种在操作过程能减少噪音的磁吸式按键。
[0005]本发明提出了一种磁吸式按键,其特征在于该磁吸式按键包含:底板;键帽,安置在该底板的上方,且该键帽于未按压位置与按压位置之间做上下移动;第一磁吸部,设置于该底板上;向上作用力构件,具有第二磁吸部以及受力部,该向上作用力构件可活动地设置于该底板与该键帽之间,该第二磁吸部被该第一磁吸部磁吸,致使该受力部提供该键帽一向上回复力;以及缓冲构件,设置于该第二磁吸部朝向该第一磁吸部运动的运动路径上;
[0006]其中,当该键帽被外力按压而克服该向上回复力时,该键帽伴随该受力部移动至该按压位置,且该第二磁吸部远离该第一磁吸部,该缓冲构件恢复原状;当该外力消失使该键帽未被按压时,该第二磁吸部沿着该运动路径向该第一磁吸部接近,该第二磁吸部先接触该缓冲构件,导致该缓冲构件变形后,该第二磁吸部再继续朝向该第一磁吸部靠近。
[0007]作为可选的方案,该向上作用力还包括一转轴,该向上作用力构件以该转轴可转动地连接至该底板,该缓冲构件设置在该第一磁吸部与该转轴之间;或者该第一磁吸部设置在该缓冲构件与该转轴之间。
[0008]作为可选的方案,该磁吸式按键进一步包含:
[0009]连接构件,该连接构件具有连杆上端与连杆下端,该连杆上端可转动地连接至该键帽的下表面,该连杆下端可转动地连接至该底板,致使该键帽被限制于该未按压位置与该按压位置之间做上下移动;
[0010]其中,该受力部抵住该连杆上端,当该第二磁吸部被该第一磁吸部磁吸时,该受力部经由该连杆上端提供该键帽该向上回复力。
[0011]本发明还公开了一种磁吸式按键,其特征在于该磁吸式按键包含:底板;键帽,安置在该底板的上方,且该键帽于一未按压位置与一按压位置之间做上下移动;第一磁吸部,设置于该键帽的下表面上;向上作用力构件,具有第二磁吸部以及受力部,该向上作用力构件可活动地设置于该底板与该键帽之间,该第二磁吸部被该第一磁吸部磁吸,致使该受力部提供该键帽一向上回复力;以及缓冲构件,设置于该第二磁吸部朝向该第一磁吸部运动的运动路径上;
[0012]其中,当该键帽被外力按压而克服该向上回复力时,该键帽伴随该受力部移动至该按压位置,且该第二磁吸部远离该第一磁吸部,该缓冲构件恢复原状;当该外力消失使该键帽未被按压时,该第二磁吸部沿着该运动路径向该第一磁吸部接近,该第二磁吸部先接触该缓冲构件,导致该缓冲构件变形后,该第二磁吸部再继续朝向该第一磁吸部靠近。
[0013]作为可选的方案,该向上作用力构件还包含以转轴,该向上作用力构件以该转轴可转动地连接至该键帽的该下表面,该缓冲构件设置在该第一磁吸部与该转轴之间;或者该第一磁吸部设置在该缓冲构件与该转轴之间。
[0014]本发明还公开了一种磁吸式按键,其特征在于该磁吸式按键包含:底板;键帽,安置在该底板的上方,且该键帽于未按压位置与按压位置之间做上下移动;钩脚,自该键帽的下表面向下延伸,且具有一脚面;第一磁吸部,设置于该脚面上;悬臂桥,自该底板向上延伸至该第一磁吸部上方,且该悬臂桥具有第二磁吸部,该钩脚藉由该第一磁吸部磁吸该第二磁吸部以提供该键帽一向上回复力;以及缓冲构件,设置于该第二磁吸部朝向该第一磁吸部运动的运动路径上;
[0015]其中,当该键帽被外力按压而克服该向上回复力时,该键帽移动至该按压位置,且该第二磁吸部远离该第一磁吸部,该缓冲构件恢复原状;当该外力消失使该键帽未被按压时,该第二磁吸部沿着该运动路径向该第一磁吸部接近,该第二磁吸部先接触该缓冲构件,导致该缓冲构件变形后,该第二磁吸部再继续朝向该第一磁吸部运动接近。
[0016]作为可选的方案,该缓冲构件设置于该脚面或者该第二磁吸部上。
[0017]本发明还公开了一种磁吸式按键,其特征在于该磁吸式按键包含:底板;键帽,安置在该底板的上方,且该键帽于未按压位置与按压位置之间做上下移动;第一磁吸部,设置于该底板上;向上作用力构件,具有第二磁吸部以及受力部,该向上作用力构件可活动地设置于该底板与该键帽之间,该第二磁吸部与该第一磁吸部相互磁吸,致使该受力部提供该键帽一向上回复力;以及减噪结构,至少形成于该第一磁吸部和该第二磁吸部其中之一上,当该第二磁吸部与该第一磁吸部相互磁吸至最近距离时,该第一磁吸部投影至该第二磁吸部上的投影区域定义为磁吸面积,该第一磁吸部和该第二磁吸部实际接触部分定义为接触面积,该减噪结构使该接触面积小于该磁吸面积;
[0018]其中,当该键帽被一外力按压克服该向上回复力时,该键帽伴随该受力部移动至该按压位置,且该第二磁吸部远离该第一磁吸部;当该键帽未被按压时,该第一磁吸部向该第二磁吸部接近,直到该第一磁吸部与该第二磁吸部通过该减噪结构而相互接触。
[0019]作为可选的方案,该减噪结构为形成在该第二磁吸部上的弯折突出部分,其中,当该键帽未被按压,该第一磁吸部向该第二磁吸部相互接近时,该第二磁吸部上邻近该弯折突出部分的未弯折部分接触该第一磁吸部。
[0020]作为可选的方案,该减噪结构为形成在该第一磁吸部顶部的凸块,其中,当该键帽未被按压,该第一磁吸部向该第二磁吸部相互接近时,该凸块接触该第二磁吸部。
[0021]作为可选的方案,该减噪结构为形成在该第一磁吸部顶部的倾斜面,其中,当该键帽未被按压,该第一磁吸部向该第二磁吸部相互接近时,该倾斜面接触该第二磁吸部。
[0022]作为可选的方案,该磁吸式按键进一步包含:[0023]连接构件,具有连杆上端与连杆下端,该连杆上端可转动地连接至该键帽的下表面,该连杆下端可转动地连接至该底板,致使该键帽被限制于该未按压位置与该按压位置之间做上下移动;
[0024]其中,该受力部抵住该连杆上端,当该第二磁吸部被该第一磁吸部磁吸时,该受力部经由该连杆上端提供该键帽该向上回复力。
[0025]本发明还公开了一种磁吸式按键,其特征在于该磁吸式按键包含:底板;键帽,安置在该底板的上方,且该键帽于一未按压位置与一按压位置之间做上下移动;第一磁吸部,设置于该键帽上;向上作用力构件,具有第二磁吸部以及受力部,该向上作用力构件可活动地设置于该底板与该键帽之间,该第二磁吸部与该第一磁吸部相互磁吸,致使该受力部提供该键帽一向上回复力;以及减噪结构,至少形成于该第一磁吸部和该第二磁吸部其中之一上,当该第二磁吸部与该第一磁吸部相互磁吸至最近距离时,该第一磁吸部投影至该第二磁吸部上的投影区域定义为磁吸面积,该第一磁吸部和该第二磁吸部实际接触部分定义为接触面积,该减噪结构使该接触面积小于该磁吸面积;
[0026]其中,当该键帽被外力按压而克服该向上回复力时,该键帽伴随该受力部移动至该按压位置,且该第二磁吸部远离该第一磁吸部;当该键帽未被按压时,该第一磁吸部向该第二磁吸部接近,直到该第一磁吸部与该第二磁吸部通过该减噪结构而相互接触。
[0027]作为可选的方案,该减噪结构为形成在该第二磁吸部上的弯折突出部分,其中,当该键帽未被按压,该第一磁吸部向该第二磁吸部相互接近时,该第二磁吸部上邻近该弯折突出部分的未弯折部分接触该第一磁吸部。
[0028]作为可选的方案,该减噪结构为形成在该第一磁吸部底部的凸块,其中,当该键帽未被按压,该第一磁吸部向该第二磁吸部相互接近时,该凸块接触该第二磁吸部。
[0029]作为可选的方案,该减噪结构为形成在该第一磁吸部底部的倾斜面,其中,当该键帽未被按压,该第一磁吸部向该第二磁吸部相互接近时,该倾斜面接触该第二磁吸部。
[0030]与现有技术不同,本发明的磁吸式按键不但可以提供操作者按压手感,还可以在操作过程能减少噪音。
【专利附图】

【附图说明】
[0031]图1为本发明的第一较佳具体实施例的键盘的元件展开图。
[0032]图2至图9分别为本发明的第一较佳具体实施例的磁吸式按键的局部剖面视图。
[0033]图10至图21分别为本发明的第二较佳具体实施例的磁吸式按键的局部剖面视图。
[0034]图22至图25分别为本发明的第三较佳具体实施例的磁吸式按键的局部剖面视图。
[0035]图26至图31分别为本发明的第四较佳具体实施例的磁吸式按键的局部剖面视图。
[0036]图32至图35分别为本发明的第五较佳具体实施例的磁吸式按键的局部剖面视图。
【具体实施方式】[0037]请参阅图1至图9。图1为本发明的第一较佳具体实施例的键盘的元件展开图。图2至图9分别为本发明的第一较佳具体实施例的磁吸式按键I的局部剖面视图。
[0038]如图1至图9所示,本发明的第一较佳具体实施例的磁吸式按键I包含底板10、键帽12、连接构件19、薄膜开关层11、第一磁吸部14、向上作用力构件16以及缓冲构件18。键帽12安置在底板10的上方,并且能于未按压位置与按压位置之间做上下移动。
[0039]第一磁吸部14设置于底板10上。向上作用力构件16具有第二磁吸部162以及受力部164。向上作用力构件16外形类似一个翘翘板,通过转轴166而可转动地连接至底板10上,如此第二磁吸部162被第一磁吸部14磁吸而向下运动,致使受力部164提供键帽12向上回复力。受力部164可以直接抵接施力于键帽12 ;或先抵接于连接构件19,再由连接构件19间接向上带动键帽12。
[0040]于一具体实施例中,如图2及图3所示,缓冲构件18设置于第二磁吸部162朝向第一磁吸部14运动的运动路径上。并且,缓冲构件18设置在第一磁吸部14与转轴166之间。
[0041]于另一具体实施例中,如图4及图5所示,第一磁吸部14设置在缓冲构件18与转轴166之间。
[0042]如图2及图4所示,当键帽12被外力按压克服向上回复力时,键帽12伴随受力部164移动至按压位置,并且第二磁吸部162远离第一磁吸部14,缓冲构件18恢复原状。如此利用"第二磁吸部162远离第一磁吸部14后,磁吸力会大幅减弱"特性,本发明的磁吸式按键I可以提供操作者按压按键时的段落手感,按键回馈力到达一最大值后,继续往下按压按键行程,则按键回馈力会减小。
[0043]如图3及图5所示,当外力消失使键帽12未被按压时,第二磁吸部162沿着运动路径向第一磁吸部14接近,第二磁吸部162先接触缓冲构件18,导致缓冲构件18变形后,第二磁吸部162再继续朝向第一磁吸部14靠近。可以设计让第二磁吸部162最后直接磁吸而接触于第一磁吸部14上,或两者间磁吸相互接近最后仍保持一间隙。藉此,本发明的磁吸式按键I可以在操作过程减少噪音,甚至完全消除噪音。
[0044]如图1至图9所示。如同典型的按键,为让键帽12运动过程维持平衡,本发明的磁吸式按键I包含两个连接构件19,也可以包含两个受力部164,如图1所示。为说明方便,于图2至图9绘示的局部剖面视图中,仅绘示一个连接构件19以及一个受力部164 ;其中连接构件19具有连杆上端192与连杆下端194。连杆上端192可转动地连接至键帽12的下表面120,连杆下端194可转动地连接至底板10,致使键帽12被限制于未按压位置与按压位置之间做上下移动。薄膜开关层11设置在底板10上,并且包含开关112。向上作用力构件16还包含致动部168,该致动部168从受力部164向下延伸。
[0045]于图2至图5所示范例中,受力部164抵住键帽12的下表面120。当键帽12位在按压位置时,致动部168致动开关112触发。但本发明的磁吸式按键I并不以致动部168致动开关112触发为限,也可以利用其他构件随着键帽12移动至按压位置时来致动开关112触发。
[0046]如图6至图9所示,于本发明的磁吸式按键I的一变化中,受力部164抵住连杆上端192。例如,连接构件19上靠近连杆上端192处具有孔洞196,受力部164侧向延伸且深入孔洞196内,并抵住孔洞196上缘的内侧壁。藉此,受力部164在移动过程皆可抵住连杆上端192。
[0047]于图6及图8所示范例中,当键帽12被外力按压克服向上回复力时,键帽12经由连杆上端192推压受力部164且移动至按压位置,并且第二磁吸部162远离第一磁吸部14,变形的缓冲构件18恢复原状。于图7及图9所示范例中,当外力消失使键帽12未被按压时,第二磁吸部162先接触缓冲构件18,导致缓冲构件18变形后,第二磁吸部162再继续朝向第一磁吸部14靠近,并且受力部164经由连杆上端192提供键帽12向上回复力。
[0048]图6及图7所绘示的缓冲构件18是置在第一磁吸部14与转轴166之间。图8及图9所绘示的第一磁吸部14设置在缓冲构件18与转轴166之间。
[0049]请参阅图10至图21。图10至图21分别为本发明的第二较佳具体实施例的磁吸式按键2的局部剖面视图。
[0050]如图10至图21所示,本发明的第二较佳具体实施例的磁吸式按键2包含底板20、键帽22、第一磁吸部24、向上作用力构件26以及减噪结构28。键帽22安置在底板20的上方,并且能于未按压位置与按压位置之间做上下移动。
[0051]第一磁吸部24设置于底板20上。向上作用力构件26具有第二磁吸部262以及受力部264。向上作用力构件26可活动地设置于底板20与键帽22之间。第二磁吸部262与第一磁吸部24相互磁吸,致使受力部264提供键帽22向上回复力。
[0052]减噪结构28至少形成于第一磁吸部24和第二磁吸部262其中之一上。当第二磁吸部262与第一磁吸部24相互磁吸至最近距离时,第一磁吸部24投影至第二磁吸部262上的投影区域定义为磁吸面积,第一磁吸部24和第二磁吸部262实际接触部分定义为接触面积。减噪结构28使接触面积小于磁吸面积。
[0053]于一具体实施例中,如图10及图11所示,减噪结构28为形成在第二磁吸部262上的弯折突出部分267。当键帽22未被按压,第一磁吸部24向第二磁吸部262相互接近时,弯折突出部分267不会接触撞击第一磁吸部24,仅弯折突出部分267以外的未弯折部分会接触第一磁吸部24。
[0054]于另一具体实施例中,如图12及图13所示,减噪结构28为形成在第一磁吸部24顶部的凸块242。当键帽22未被按压,第一磁吸部24向第二磁吸部262相互接近时,仅凸块242的上表面会接触第二磁吸部262,凸块242以外的第一磁吸部24上表面不会接触第二磁吸部262。
[0055]于另一具体实施例中,如图14及图15所示,减噪结构28为形成在第一磁吸部24顶部的倾斜面244,且向上作用力构件26和底板20枢接的转轴266位置低于第一磁吸部24的上表面。当键帽22未被按压,第一磁吸部24向第二磁吸部262相互接近时,仅倾斜面244会接触该第二磁吸部262,而非第一磁吸部24的全部上表面都会接触到该第二磁吸部262。
[0056]如图10、图12及图14所示,当键帽22被外力按压克服向上回复力时,键帽22伴随受力部264移动至按压位置,并且第二磁吸部262远离第一磁吸部24。
[0057]如图11、图13及图15所示,当键帽22未被按压时,第一磁吸部24向第二磁吸部262接近,直到第一磁吸部24与第二磁吸部262通过减噪结构28而相互接触。藉此,本发明的磁吸式按键2可以在操作过程减少噪音,甚至完全消除噪音。
[0058]进一步,如图10至图21所示,本发明的第二较佳具体实施例的磁吸式按键2还包含连接构件29以及薄膜开关层21,其具体结构分别类似图1第一较佳具体实施例的连接构件19和薄膜开关层11。连接构件29具有连杆上端292与连杆下端294。连杆上端292可转动地连接至键帽22的下表面220。连杆下端294可转动地连接至底板20,致使键帽22被限制于未按压位置与按压位置之间做上下移动。向上作用力构件26以转轴266可转动地连接至底板20。薄膜开关层21设置在底板20上,并且包含开关212。向上作用力构件26还包含致动部268,该致动部268从受力部264向下延伸。
[0059]于图10至图15所示范例中,受力部264抵住键帽22的下表面220。当键帽22位在按压位置时,致动部268致动开关212触发。但本发明的磁吸式按键2并不以致动部268致动开关212触发为限,也可以利用其他构件随着键帽22移动至按压位置时来致动开关212触发。
[0060]于图16至图21所示范例中,于本发明的磁吸式按键2的一变化中,受力部264抵住连杆上端292。例如,连接构件29上靠近连杆上端292处具有孔洞296,受力部264侧向延伸且深入孔洞296内,并抵住孔洞296上缘的内侧壁。藉此,受力部264在移动过程皆可抵住连杆上端292。
[0061]于图16、图18及图20所示范例中,当键帽22被外力按压克服向上回复力时,键帽22经由连杆上端292推压受力部264且移动至按压位置,并且第二磁吸部262远离第一磁吸部24。于图17、图19及图20所示范例中,当外力消失使键帽22未被按压时,第二磁吸部262被第一磁吸部24磁吸,受力部264经由连杆上端292提供键帽22向上回复力。图16及图17所绘示的第二磁吸部262具有弯折突出部分267,作为减噪结构28。图18及图19所绘示的第一磁吸部24顶部具有凸块242,作为减噪结构28。图20及图21所绘示的第一磁吸部24顶部具有倾斜面244,作为减噪结构28。
[0062]请参阅图22至图25。图22至图25分别为本发明的第三较佳具体实施例的磁吸式按键3的局部剖面视图。
[0063]如图22至图25所示,本发明的第三较佳具体实施例的磁吸式按键3包含底板30、键帽32、第一磁吸部34、向上作用力构件36以及缓冲构件38。键帽32安置在底板30的上方,并且能于未按压位置与按压位置之间做上下移动。
[0064]第一磁吸部34设置于键帽32的下表面320上。向上作用力构件36具有第二磁吸部362以及受力部364。向上作用力构件36可活动地设置于底板30与键帽32之间。第二磁吸部362被第一磁吸部34磁吸,致使受力部364提供键帽32向上回复力。如同典型的按键,为让键帽32运动过程维持平衡,本发明的磁吸式3包含两个向上作用力构件36,对称地安置。为说明方便,于图22至图25绘示的局部剖面视图中,仅绘示一个向上作用力构件36。本发明的第三较佳具体实施例的磁吸式按键3还包含薄膜开关层31。薄膜开关层31设置在底板30上,并且包含开关312。
[0065]缓冲构件38设置于第二磁吸部362朝向第一磁吸部34运动的运动路径上。向上作用力构件36以转轴366可转动地连接至键帽32的下表面320。转轴366与受力部364为同一部位,但本发明的磁吸式按键3并不以此为限。
[0066]于一具体实施例中,如图22及图23所示,缓冲构件38设置在第一磁吸部24与转轴366之间。
[0067]于另一具体实施例中,如图24及图25所示,第一磁吸部34设置在缓冲构件38转轴366与之间。
[0068]如图22及图24所示,当键帽32被外力按压克服向上回复力时,键帽32伴随受力部364移动至按压位置,并且第二磁吸部362远离第一磁吸部34,缓冲构件38恢复原状。
[0069]如图23及图25所示,当外力消失使键帽32未被按压时,第二磁吸部362沿着运动路径向第一磁吸部34接近,第二磁吸部362先接触缓冲构件38,导致缓冲构件38变形后,第二磁吸部362再继续朝向第一磁吸部34靠近。藉此,本发明的磁吸式按键3可以在操作过程减少噪音,甚至完全消除噪音。
[0070]于图22至图25所示范例中,键帽32还具有凸柱322,从下表面320向下延伸。当键帽32位在按压位置时,凸柱322致动开关312触发。但本发明的磁吸式按键3并不以凸柱322致动开关312触发为限,也可以利用其他构件随着键帽32移动至按压位置时来致动开关312触发。
[0071]请参阅图26至图31。图26至图31分别为本发明的第四较佳具体实施例的磁吸式按键4的局部剖面视图。
[0072]如图26至图31所示,本发明的第四较佳具体实施例的磁吸式按键4包含底板40、键帽42、第一磁吸部44、向上作用力构件46以及减噪结构48。键帽42安置在底板40的上方,并且能于未按压位置与按压位置之间做上下移动。
[0073]第一磁吸部44设置于键帽42的下表面420上。向上作用力构件46具有第二磁吸部462以及受力部464。向上作用力构件46可活动地设置于底板40与键帽42之间。第二磁吸部462与第一磁吸部44相互磁吸,致使受力部464提供键帽42向上回复力。如同典型的按键,为让键帽42运动过程维持平衡,本发明的磁吸式按键4包含两个向上作用力构件46,对称地安置。为说明方便,于图26至图31绘示的局部剖面视图中,仅绘示一个向上作用力构件46。本发明的第四较佳具体实施例的磁吸式按键4还包含薄膜开关层41。薄膜开关层41设置在底板40上,并且包含开关412。向上作用力构件46以转轴466可转动地连接至键帽42的下表面420。转轴466与受力部464为同一部位,但本发明的磁吸式按键4并不以此为限。
[0074]减噪结构48至少形成于第一磁吸部44和第二磁吸部462其中之一上。当第二磁吸部462与第一磁吸部44相互磁吸至最近距离时,第一磁吸部44投影至第二磁吸部462上的投影区域定义为磁吸面积。第一磁吸部44和第二磁吸部462实际接触部分定义为接触面积。减噪结构48使接触面积小于磁吸面积。
[0075]于一具体实施例中,如图26及图27所示,减噪结构48为形成在第二磁吸部462上的弯折突出部分467。当键帽42未被按压,第一磁吸部44向第二磁吸部462相互接近时,仅邻近弯折突出部分467的未弯折部分会接触第一磁吸部44。
[0076]于另一具体实施例中,如图28及图29所示,减噪结构48为形成在第一磁吸部44底部的凸块442。当键帽42未被按压,第一磁吸部44向第二磁吸部462相互接近时,仅凸块442会接触第二磁吸部462。
[0077]于另一具体实施例中,如图30及图31所示,减噪结构48为形成在第一磁吸部44底部的倾斜面444。当键帽42未被按压,第一磁吸部44向第二磁吸部462相互接近时,仅倾斜面444会接触该第二磁吸部462。
[0078]如图26、图28及图30所示,当键帽42被外力按压克服向上回复力时,键帽42伴随受力部464移动至按压位置,并且第二磁吸部462远离第一磁吸部44。
[0079]如图27、图29及图31所示,当键帽42未被按压时,第一磁吸部44向第二磁吸部462接近,直到第一磁吸部44与第二磁吸部462通过减噪结构48而相互接触。藉此,本发明的磁吸式按键4可以在操作过程减少噪音,甚至完全消除噪音。
[0080]于图26至图31所示范例中,键帽42还具有凸柱422,从下表面420向下延伸。当键帽42位于按压位置时,凸柱422致动开关412触发。但本发明的磁吸式按键4并不以凸柱422致动开关412触发为限,也可以利用其他构件随着键帽42移动至按压位置时来致动开关412触发。
[0081]请参阅图32至图35。图32至图35分别为本发明得第五较佳具体实施例的磁吸式按键5的局部剖面视图。
[0082]如图32至图35所示,本发明的第五较佳具体实施例的磁吸式按键5包含底板50、键帽52、钩脚54、第一磁吸部56、悬臂桥58以及缓冲构件59。键帽52安置在底板50的上方,并且能于未按压位置与按压位置之间做上下移动。
[0083]钩脚54自键帽52的下表面520向下延伸,并且具有脚面542。第一磁吸部56设置于脚面542上。悬臂桥58自底板50向上延伸至第一磁吸部56上方,并且具有第二磁吸部582。钩脚54藉由第一磁吸部56磁吸第二磁吸部582,以提供键帽52向上回复力。如同典型的按键,本发明的磁吸式按键5还包含支撑装置57以及薄膜开关层51。支撑装置57分别可转动地连接至键帽52的下表面520以及底板50,藉此,键帽52被支撑装置57限制在未按压位置与按压位置之间做上下移动。于图32至图35所示范例中,支撑装置57为一剪刀式支撑装置,但本发明的磁吸式按键5并不以此为限。薄膜开关层51设置在底板50上,并且包含开关512。
[0084]缓冲构件59设置于第二磁吸部582朝向第一磁吸部36运动的运动路径上。
[0085]于一具体实施例中,如图32及图33所示,缓冲构件59设置于脚面542上。
[0086]于另一具体实施例中,如图34及图35所示,缓冲构件59设置于第二磁吸部582上。
[0087]如图32及图34所示,当键帽52被外力按压克服向上回复力时,键帽52移动至按压位置,并且第二磁吸部582远离第一磁吸部56,缓冲构件59恢复原状。
[0088]如图33及图35所示,当外力消失使键帽52未被按压时,第二磁吸部582沿着运动路径向第一磁吸部56接近,第二磁吸部582先接触缓冲构件59,导致缓冲构件59变形后,第二磁吸部582再继续朝向第一磁吸部56靠近。藉此,本发明的磁吸式按键5可以在操作过程减少噪音,甚至完全消除噪音。
[0089]于图32至图35所示范例中,本发明的磁吸式按键5还包含凸柱544。凸柱544安置在脚面542的下方。当键帽52位在按压位置时,凸柱544致动开关512触发。本发明的磁吸式按键5并不以安置在脚面542的下方的凸柱544致动开关512触发为限,也可以利用其他构件随着键帽52移动至按压位置时来致动开关512触发。例如,凸柱544可以安置在键帽52的下表面520上,可随键帽52移动至按压位置时来致动开关512触发。
[0090]于一具体实施例中,第一磁吸部14、第一磁吸部24、第一磁吸部34、第一磁吸部44以及第一磁吸部54可以由钕铁硼等铁磁性材料所制成。第二磁吸部162、第二磁吸部262、第二磁吸部362、第二磁吸部462以及第二磁吸部582可以是导磁材料所制成,例如,硅钢、麻田散铁系不镑钢等。
[0091]于一具体实施例中,向上作用力构件16、向上作用力构件26、向上作用力构件36、向上作用力构件46以及悬臂桥58可以由具导磁性的钢板冲压而成,进而让第二磁吸部162、第二磁吸部262、第二磁吸部362、第二磁吸部462以及第二磁吸部582具有导磁性。
[0092]藉由以上述较佳具体实施例的详述,希望能更加清楚描述本发明的特征与精神,而并非以上述所揭露的较佳具体实施例来对本发明的面向加以限制。相反地,其目的是希望能涵盖各种改变及具相等性的安排于本发明所欲申请的专利范围的面向内。因此,本发明所申请的专利范围的面向应该根据上述的说明作最宽广的解释,以致使其涵盖所有可能的改变以及具相等性的安排。
【权利要求】
1.一种磁吸式按键,其特征在于该磁吸式按键包含: 底板; 键帽,安置在该底板的上方,且该键帽于未按压位置与按压位置之间做上下移动; 第一磁吸部,设置于该底板上; 向上作用力构件,具有第二磁吸部以及受力部,该向上作用力构件可活动地设置于该底板与该键帽之间,该第二磁吸部被该第一磁吸部磁吸,致使该受力部提供该键帽一向上回复力;以及 缓冲构件,设置于该第二磁吸部朝向该第一磁吸部运动的运动路径上; 其中,当该键帽被外力按压而克服该向上回复力时,该键帽伴随该受力部移动至该按压位置,且该第二磁吸部远离该第一磁吸部,该缓冲构件恢复原状;当该外力消失使该键帽未被按压时,该第二磁吸部沿着该运动路径向该第一磁吸部接近,该第二磁吸部先接触该缓冲构件,导致该缓冲构件变 形后,该第二磁吸部再继续朝向该第一磁吸部靠近。
2.如权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于该向上作用力还包括转轴,该向上作用力构件以该转轴可转动地连接至该底板,该缓冲构件设置在该第一磁吸部与该转轴之间;或者该第一磁吸部设置在该缓冲构件与该转轴之间。
3.如权利要求1所述的磁吸式按键,其特征在于该磁吸式按键进一步包含连接构件,该连接构件具有连杆上端与连杆下端,该连杆上端可转动地连接至该键帽的下表面,该连杆下端可转动地连接至该底板,致使该键帽被限制于该未按压位置与该按压位置之间做上下移动; 其中,该受力部抵住该连杆上端,当该第二磁吸部被该第一磁吸部磁吸时,该受力部经由该连杆上端提供该键帽该向上回复力。
4.一种磁吸式按键,其特征在于该磁吸式按键包含: 底板; 键帽,安置在该底板的上方,且该键帽于一未按压位置与一按压位置之间做上下移动; 第一磁吸部,设置于该键帽的下表面上; 向上作用力构件,具有第二磁吸部以及受力部,该向上作用力构件可活动地设置于该底板与该键帽之间,该第二磁吸部被该第一磁吸部磁吸,致使该受力部提供该键帽一向上回复力;以及 缓冲构件,设置于该第二磁吸部朝向该第一磁吸部运动的运动路径上; 其中,当该键帽被外力按压而克服该向上回复力时,该键帽伴随该受力部移动至该按压位置,且该第二磁吸部远离该第一磁吸部,该缓冲构件恢复原状;当该外力消失使该键帽未被按压时,该第二磁吸部沿着该运动路径向该第一磁吸部接近,该第二磁吸部先接触该缓冲构件,导致该缓冲构件变形后,该第二磁吸部再继续朝向该第一磁吸部靠近。
5.如权利要求4所述的磁吸式按键,其特征在于该向上作用力构件还包含转轴,该向上作用力构件以该转轴可转动地连接至该键帽的该下表面,该缓冲构件设置在该第一磁吸部与该转轴之间;或者该第一磁吸部设置在该缓冲构件与该转轴之间。
6.—种磁吸式按键,其特征在于该磁吸式按键包含: 底板;键帽,安置在该底板的上方,且该键帽于未按压位置与按压位置之间做上下移动; 钩脚,自该键帽的下表面向下延伸,且具有一脚面; 第一磁吸部,设置于该脚面上; 悬臂桥,自该底板向上延伸至该第一磁吸部上方,且该悬臂桥具有第二磁吸部,该钩脚藉由该第一磁吸部磁吸该第二磁吸部以提供该键帽一向上回复力;以及缓冲构件,设置于该第二磁吸部朝向该第一磁吸部运动的运动路径上; 其中,当该键帽被外力按压而克服该向上回复力时,该键帽移动至该按压位置,且该第二磁吸部远离该第一磁吸部,该缓冲构件恢复原状;当该外力消失使该键帽未被按压时,该第二磁吸部沿着该运动路径向该第一磁吸部接近,该第二磁吸部先接触该缓冲构件,导致该缓冲构件变形后,该第二磁吸部再继续朝向该第一磁吸部运动接近。
7.如权利要求6所述的磁吸式按键,其中该缓冲构件设置于该脚面或者该第二磁吸部上。
8.—种磁吸式按键,其特征在于该磁吸式按键包含: 底板; 键帽,安置在该底板的上方,且该键帽于未按压位置与按压位置之间做上下移动; 第一磁吸部,设置于该底板上; 向上作用力构件,具有第二磁吸部以及受力部,该向上作用力构件可活动地设置于该底板与该键帽之间,该第二磁吸部与该第一磁吸部相互磁吸,致使该受力部提供该键帽一向上回复力;以及 减噪结构,至少形成于该第一磁吸`部和该第二磁吸部其中之一上,当该第二磁吸部与该第一磁吸部相互磁吸至最近距离时,该第一磁吸部投影至该第二磁吸部上的投影区域定义为磁吸面积,该第一磁吸部和该第二磁吸部实际接触部分定义为接触面积,该减噪结构使该接触面积小于该磁吸面积; 其中,当该键帽被一外力按压克服该向上回复力时,该键帽伴随该受力部移动至该按压位置,且该第二磁吸部远离该第一磁吸部;当该键帽未被按压时,该第一磁吸部向该第二磁吸部接近,直到该第一磁吸部与该第二磁吸部通过该减噪结构而相互接触。
9.如权利要求8所述的磁吸式按键,其特征在于该减噪结构为形成在该第二磁吸部上的弯折突出部分,其中,当该键帽未被按压,该第一磁吸部向该第二磁吸部相互接近时,该第二磁吸部上邻近该弯折突出部分的未弯折部分接触该第一磁吸部;或者该减噪结构为形成在该第一磁吸部顶部的凸块,其中,当该键帽未被按压,该第一磁吸部向该第二磁吸部相互接近时,该凸块接触该第二磁吸部;又或者该减噪结构为形成在该第一磁吸部顶部的倾斜面,其中,当该键帽未被按压,该第一磁吸部向该第二磁吸部相互接近时,该倾斜面接触该第二磁吸部。
10.如权利要求8所述的磁吸式按键,其特征在于该磁吸式按键进一步包含: 连接构件,具有连杆上端与连杆下端,该连杆上端可转动地连接至该键帽的下表面,该连杆下端可转动地连接至该底板,致使该键帽被限制于该未按压位置与该按压位置之间做上下移动; 其中,该受力部抵住该连杆上端,当该第二磁吸部被该第一磁吸部磁吸时,该受力部经由该连杆上端提供该键帽该向上回复力。
11.一种磁吸式按键,其特征在于该磁吸式按键包含: 底板; 键帽,安置在该底板的上方,且该键帽于一未按压位置与一按压位置之间做上下移动; 第一磁吸部,设置于该键帽上; 向上作用力构件,具有第二磁吸部以及受力部,该向上作用力构件可活动地设置于该底板与该键帽之间,该第二磁吸部与该第一磁吸部相互磁吸,致使该受力部提供该键帽一向上回复力;以及 减噪结构,至少形成于该第一磁吸部和该第二磁吸部其中之一上,当该第二磁吸部与该第一磁吸部相互磁吸至最近距离时,该第一磁吸部投影至该第二磁吸部上的投影区域定义为磁吸面积,该第一磁吸部和该第二磁吸部实际接触部分定义为接触面积,该减噪结构使该接触面积小于该磁吸面积; 其中,当该键帽被外力按压而克服该向上回复力时,该键帽伴随该受力部移动至该按压位置,且该第二磁吸部远离该第一磁吸部;当该键帽未被按压时,该第一磁吸部向该第二磁吸部接近,直到该第一磁吸部与该第二磁吸部通过该减噪结构而相互接触。
12.如权利要求13所述的磁吸式按键,其特征在于该减噪结构为形成在该第二磁吸部上的弯折突出部分,其中,当 该键帽未被按压,该第一磁吸部向该第二磁吸部相互接近时,该第二磁吸部上邻近该弯折突出部分的未弯折部分接触该第一磁吸部;或者该减噪结构为形成在该第一磁吸部底部的凸块,其中,当该键帽未被按压,该第一磁吸部向该第二磁吸部相互接近时,该凸块接触该第二磁吸部;又或者该减噪结构为形成在该第一磁吸部底部的倾斜面,其中,当该键帽未被按压,该第一磁吸部向该第二磁吸部相互接近时,该倾斜面接触该第二磁吸部。
【文档编号】H01H13/705GK103681062SQ201310562423
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2013年11月12日 优先权日:2013年11月12日
【发明者】颜志仲 申请人:苏州达方电子有限公司, 达方电子股份有限公司
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1