激光退火设备的工件台的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种激光退火设备工件台，包括工件台平面和三个以上接送柱，接送柱设置在工件台平面下方，工件台平面上对应接送柱位置开孔，接送柱能通过工件台平面上的孔自由升降，其特征在于，每个接送柱内部设置有一个能够自动开合的伞形接送平台，该伞形接送平台能够在接送柱升高至工件台平面上时，自动展开成一个伞形平面，在接送柱降低至工件台平面下方时，自动收回至接送柱内。本实用新型通过缩小接送柱直径，减小工件开孔大小，并在接送柱里设置可以自动收放的伞形接送平台，在保证硅片传输安全性的同时，减小了退火时硅片背面无支撑的面积，从而解决了因硅片和工件台无接触而导致的碎片问题。
【专利说明】激光退火设备的工件台
【技术领域】
[0001 ] 本实用新型涉及集成电路制造领域，特别是涉及激光退火设备。
【背景技术】
[0002]在IGBT (绝缘栅双极型晶体管)等项目中，需要进行硅片背面的离子激活，由于离子激活需要的温度较高，会影响硅片正面金属布线和器件性能，因此不能使用常规的炉管加热，目前通常使用背面激光退火工艺进行背面离子激活。
[0003]背面激光退火利用的是激光在瞬间产生的高温对硅片表面的离子进行激活，由于该高温持续时间短，因此不会对正面产生破坏和影响。但是，进行背面激光退火的硅片通常都是减薄后的薄片，当硅片比较薄时，在瞬间高温下很容易发生裂片现象，因此必须要有良好的导热装置和支撑台面。
[0004]现有的硅片激光退火设备工件台在应用时，普遍使用真空吸附设计，但为了实现硅片退火前的接送和预对准等功能，通常会在工件台的中心开三个孔，并在其下方设计有三个接送柱，如图1所示。为便于传输薄片，工件台中心的孔一般都在IOmm以上，在退火时，开孔区域就会出现硅片背面无接触或真空吸附的状态，同时热传导能力也与其他区域略有差别，此时，硅片很容易在退火到该区域时发生裂片现象。
[0005]当工件台中心开孔小于一定范围时，即当完全无接触或无真空吸附面积减小时，可以大大改善硅片的碎片率，但减小接送柱的直径同样会减小接送柱与硅片的接触面积，这对于薄硅片而言，同样会大大增加在硅片接送时的碎片率。
实用新型内容
[0006]本实用新型要解决的技术问题是提供一种激光退火设备的工件台，它可以降低硅片退火时的碎片率。
[0007]为解决上述技术问题，本实用新型的激光退火设备的工件台，包括工件台平面和三个以上接送柱，接送柱设置在工件台平面下方，工件台平面上对应接送柱位置开孔，接送柱能通过工件台平面上的孔自由升降，其特征在于，每个接送柱内部设置有一个能够自动开合的伞形接送平台，该伞形接送平台能够在接送柱升高至工件台平面上时，自动展开成一个伞形平面，在接送柱降低至工件台平面下方时，自动收回至接送柱内。
[0008]本实用新型通过缩小接送柱的直径，减小工件开孔大小，并在普通接送柱里设置一个可以自动收放的伞形接送平台，在保证硅片传输安全性的同时，减小了退火时硅片背面无支撑的面积，从而解决了因硅片和工件台无接触而导致的碎片问题，降低了硅片退火时的碎片率，同时提高了硅片可以承受的退火温度，拓宽了薄片背面工艺的适用范围。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1是激光退火设备的普通工件台。其中，(A)是工件台的俯视图；(B)是工件台平面下方三个接送柱的示意图。[0010]图2是本实用新型实施例的激光退火设备工件台的三个接送柱及接送柱内部的伞形接送平台示意图。
【具体实施方式】
[0011]为对本实用新型的技术内容、特点与功效有更具体的了解，现结合图示的实施方式，详述如下:
[0012]本实施例的激光退火设备工件台，在工件台平面上开设有三个小孔。孔的位置可以任意设置，但以对称地设置在工件台平面的中心附近为佳，对于8寸工件台，孔的位置以距离工件台平面中心10?700mm较佳，对于12寸工件台，孔的位置以距离工件台平面中心25?1200mm较佳。孔的直径一般在I?20mm之间较佳，直径越小，越有利于薄片工艺。
[0013]孔的下方，对应于孔的位置，设置有三个接送柱，接送柱的直径略小于孔的直径(一般可比孔略小0.1?3mm)，以利于接送柱在孔内升降且不与孔触碰。每个接送柱内部设置有一个能够自动开合的伞形接送平台，如图2所示，该伞形接送平台可以在接送柱升高至工件台平面上时自动展开成一个平面，在接送柱降低至工件台平面下方时，自动收回至接送柱内。伞形接送平台展开时的平面直径可以根据孔直径的大小，在孔直径的I?30倍之间选择适宜的比例。在伞形接送平台上可以进一步设计真空吸附功能，以增强接送时的吸附效果。伞形接送平台的材质宜选用非金属，以避免伞形接送平台与硅片接触时，对硅片产生损伤和破裂。接送柱的其他设计都和普通接送柱一样，可以通过工件台上的小孔自由升降。
[0014]进行硅片退火工艺时，机械传输手臂将硅片传送到工件台上方，接送柱从下方通过工件台平面上的小孔升起。当接送柱升出工件台表面时，伞形接送平台自动弹开成平面伞状的小平台，机械手臂下降，将硅片放置在伞形接送平台上，伞形接送平台承接硅片后下降，将硅片放置在工件台平面上，然后伞形接送平台自动收回到接送柱内，接送柱下降至工件台平面下方。硅片在工件台平面上进行退火，退火结束后，接送柱上升至工件台表面，伞形接送平台升起，将已经完成退火的硅片交给机械传输手臂，然后伞形接送平台自动收回到接送柱内，接送柱下降至工件台下。
【权利要求】
1.激光退火设备工件台，包括工件台平面和三个以上接送柱，接送柱设置在工件台平面下方，工件台平面上对应接送柱位置开孔，接送柱能通过工件台平面上的孔自由升降，其特征在于，每个接送柱内部设置有一个能够自动开合的伞形接送平台，该伞形接送平台能够在接送柱升高至工件台平面上时，自动展开成一个伞形平面，在接送柱降低至工件台平面下方时，自动收回至接送柱内。
2.根据权利要求1所述的激光退火设备工件台，其特征在于，工件台平面上的孔呈对称分布。
3.根据权利要求1或2所述的激光退火设备工件台，其特征在于，8寸工件台，孔的位置距离工件台中心10?700皿1 ；12寸工件台，孔的位置距离工件台中心25?1200mm。
4.根据权利要求1所述的激光退火设备工件台，其特征在于，工件台平面上的孔的直径为I?20mm。
5.根据权利要求1或4所述的激光退火设备工件台，其特征在于，接送柱的直径比孔的直径小0.1?3_。
6.根据权利要求1所述的激光退火设备工件台，其特征在于，伞形接送平台展开时的平面直径为孔直径的I?30倍。
7.根据权利要求1所述的激光退火设备工件台，其特征在于，伞形接送平台具有真空吸附功能。
8.根据权利要求1所述的激光退火设备工件台，其特征在于，伞形接送平台的材质为非金属。
【文档编号】H01L21/67GK203607374SQ201320661587
【公开日】2014年5月21日 申请日期:2013年10月24日 优先权日:2013年10月24日
【发明者】童宇锋, 郑刚 申请人:上海华虹宏力半导体制造有限公司