热敏粘结的金属靶的冷却和利用优化的制作方法

技术特征：

技术总结
描述了一种溅射源(100)。所述溅射源包括：背衬支撑件(102)，所述背衬支撑件具有靶接收表面(112)和与所述靶接收表面相对的另一表面(110)；和至少一个磁体组件(115)，所述磁体组件邻近所述另一表面设置，其中所述背衬支撑件的所述靶接收表面具有至少一个凹槽(120)，其中所述凹槽与所述磁体组件相对地设置。

技术研发人员：赫尔穆特·格林;托马斯·沃纳·兹巴于尔
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2015.07.24
技术公布日：2018.03.27