技术特征：
技术总结
本申请公开了一种控制方法、射频功率分配器以及ICP设备，该控制方法包括：获取内线圈相对于外线圈的电流比的期望值；按照预设函数，调节第二电容的电容值以及第四电容的电容值，使得内线圈相对于外线圈的电流比处于期望值。功率分配器为双线圈结构，第二电容的电容值以及第四电容的电容值改变时，内线圈相对于外线圈的电流比不同，进而射频功率分配器的输出的电磁场不同。控制方法根据第二电容的电容值以及第四电容的电容值与电流比之间的函数关系，可以快速确定不同电流比时对应的第二电容的电容值以及第四电容的电容值，直接调节第二电容以及第四电容获取电流比的期望值，进而调节功率分配器的电流，达到调整功率相对分配的目的。
技术研发人员：罗伟义;黄智林
受保护的技术使用者：中微半导体设备（上海）有限公司
技术研发日：2016.02.26
技术公布日：2017.09.05