本发明涉及一种闭环控制靶台温度的方法,涉及离子注入机,属于半导体装备制造领域。
背景技术:
离子注入机隶属于半导体装备领域,随着集成电路的迅猛发展,半导体装备制造的发展趋势日益明显。离子注入机设备由许多运动部件构成,为保证设备的正常运行,需要对运动部件进行降温冷却,一般采取的方法都是在运动部件周围安装水冷系统,以此降低运动部件的温度。为了保证运动部件维持在一个恒定温度,本系统设计了一种闭环控制方法,可用于精确控制离子注入机运动部件的温度。
本控制系统结构简单,测量与控制精确、可靠。
技术实现要素:
本发明公开了一种闭环控制靶台温度的方法,该发明应用于离子注入机,该系统用于精确控制离子注入机靶台的温度,保证设备正常运行。
本发明专利通过以下技术方案来实现:
1.根据设备要求,工控机设定冷却装置温度值(1)。
2.工控机设定冷却装置温度值(1)通过控制器(2)实现d/a转换传输给冷却装置(3),冷却装置(3)通过改变自身功率大小调节靶台温度,靶台反馈温度(4)经过控制器(5)的a/d转换,然后经过pid算法(6)计算得到温度值(7)。
3.比较工控机设定冷却装置温度值(1)和pid算法得到的温度值(7),如果工控机设定靶台冷却温度值过高,则减小冷却装置功率,从而使靶台温度升高,也使pid算法得到的温度值增加;如果工控机设定靶台冷却温度值过低,则增大冷却装置功率,从而使靶台温度降低,也使pid算法得到的温度值降低。通过闭环控制,最后使pid算法得到的温度值无限接近工控机设定值,减小温度误差。
本发明具有如下显著优点:
1.通过工控机设定冷却装置温度值(1)和pid算法得到的温度值(7)多次比较,得到温度值无限接近工控机设定冷却装置温度值,有效的减少误差。
2.本方法采用闭环控制,控制器实时采集靶台当前温度值,实现与设置值的连续比较,保证靶台温度维持在恒温状态。
附图说明
图1是本发明所述一种闭环控制靶台温度的方案实施图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方法对本发明作进一步的介绍,但不作为对本发明的限定。
如图1中所示,根据设备要求,工控机设定靶台冷却温度值(1),设定值通过控制器(2)实现d/a转换将数据传送于冷却装置(3),冷却装置接收到命令进而改变功率大小调节靶台冷却水温度,同时,靶台反馈温度(4)通过控制器实现a/d转换(5),之后经过pid算法(6)计算得到温度值(7)。通过pid算法得到的温度值(7)会和工控机设定的靶台冷却温度值(1)进行比较。如果工控机设定靶台冷却温度值过高,则减小冷却装置功率,从而使靶台温度升高,也使pid算法得到的温度值增加;如果工控机设定靶台冷却温度值过低,则增大冷却装置功率,从而使靶台温度降低,也使pid算法得到的温度值降低。通过闭环控制,最后使pid算法得到的温度值无限接近工控机设定值,减小温度误差。
本发明专利的特定实施例已对本发明专利的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言,在不背离本发明专利精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动,都构成对本发明专利的侵犯,将承担相应的法律责任。