OLED显示屏及其制造方法与流程

本发明涉及显示器制造技术领域，特别涉及一种OLED显示屏及其制造方法。

背景技术：

近年来，显示器市场中心位置逐渐由平板显示器(Flat Panel Display，FPD)所占据。利用FPD可以制造大尺寸且薄而轻的显示设备。这类FPD包括液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)、等离子体显示面板(Plasma Display Panel，PDP)、有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示屏等。

OLED显示屏是一种新兴的平板显示器，其具备自发光，不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异的特性，因此具有非常好的发展前景。

高PPI(每英寸所拥有的像素数目)是显示器行业发展的趋势。随着PPI的提升，相邻像素之间的距离越来越近，对于OLED显示屏而言，由于共用层的有机材料具有导电特性，往往使得在不需要相邻像素工作时，相邻像素由于别的像素影响也会工作。高PPI更容易产生串扰，这样会严重影响OLED显示屏色度及对比度。伴随着高迁移率的注入层和传输层材料的应用，往往导致OLED显示屏串扰现象更加严重。

因此，如何降低OLED显示屏的像素串扰问题，成了本领域技术人员亟待解决的一个技术难题。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种OLED显示屏及其制造方法，以解决现有技术中的OLED显示屏存在像素串扰的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种OLED显示屏，所述OLED显示屏包括：基板，所述基板上具有多个像素区；形成于所述基板上的磁致伸缩材料层，所述磁致伸缩材料层位于相邻像素区间；及覆盖所述多个像素区及所述磁致伸缩材料层的共用层；其中，所述共用层由于所述磁致伸缩材料层的伸缩而在相邻像素区间发生断裂。

可选的，在所述的OLED显示屏中，所述OLED显示屏还包括形成于所述基板上的像素限定层，所述像素限定层限定所述多个像素区的位置，其中，所述磁致伸缩材料层形成于所述像素限定层上。

可选的，在所述的OLED显示屏中，所述像素区限定层像素限定层包括多个限定结构，每个限定结构上具有多个间隔开的支撑结构，所述磁致伸缩材料层嵌入形成于所述多个支撑结构间的空隙中内。

可选的，在所述的OLED显示屏中，所述磁致伸缩材料层的材料包括TbFe₂、DyFe₂或者SmFe₂中的一种或多种。

可选的，在所述的OLED显示屏中，所述共用层包括依次形成的空穴注入层、空穴传输层、电子传输层及电子注入层。

本发明还提供一种OLED显示屏的制造方法，所述OLED显示屏的制造方法包括：

提供基板，所述基板上具有多个像素区；

在所述基板上形成磁致伸缩材料层，所述磁致伸缩材料层位于相邻像素区间；

在所述多个像素区及所述磁致伸缩材料层上覆盖共用层；

改变所述磁致伸缩材料层的周边磁场强度，使得所述磁致伸缩材料层发生伸缩，从而使得所述共用层在相邻像素区间发生断裂。

可选的，在所述的OLED显示屏的制造方法中，在所述基板上形成磁致伸缩材料层之前，所述OLED显示屏的制造方法还包括：

在所述基板上形成像素限定层，所述像素限定层限定所述多个像素区的位置；

其中，所述磁致伸缩材料层形成于所述像素限定层上。

可选的，在所述的OLED显示屏的制造方法中，所述像素限定层包括多个限定结构，每个限定结构上具有支撑结构，所述磁致伸缩材料层嵌入所述支撑结构内。

可选的，在所述的OLED显示屏的制造方法中，在所述基板上形成磁致伸缩材料层包括如下工艺步骤：

在真空环境下通过压膜成型工艺形成磁致伸缩材料层；

在氩气保护下对所述磁致伸缩材料层进行固化。

可选的，在所述的OLED显示屏的制造方法中，在所述多个像素区及所述磁致伸缩材料层上覆盖共用层包括如下工艺步骤：

通过磁铁板吸附所述基板；

将吸附有基板的磁铁板固定于冷却板上；

采用蒸镀工艺形成共用层，所述共用层覆盖所述多个像素区及所述磁致伸缩材料层。

在本发明提供的OLED显示屏及其制造方法中，在基板上形成磁致伸缩材料层，所述磁致伸缩材料层位于相邻像素区间，形成共用层覆盖所述磁致伸缩材料层及多个像素区，通过改变所述磁致伸缩材料层的周边磁场强度，使得所述磁致伸缩材料层发生伸缩，从而使得所述共用层在相邻像素区间发生断裂，由此便可避免相邻像素由于别的像素影响也会工作，即降低了OLED显示屏的像素串扰问题。

附图说明

图1～图4是本发明实施例的OLED显示屏的制造方法所形成的结构的剖面示意图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明提出的OLED显示屏及其制造方法作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

请参考图1～图4，其为本发明实施例的OLED显示屏的制造方法所形成的结构的剖面示意图。

如图1所示，所述OLED显示屏的制造方法包括：提供基板10，所述基板10上具有多个像素区。通常的，所述基板10为玻璃基板。

在本申请实施例中，接着在所述基板10上形成阳极12。其中，所述阳极12的材料可以为透明导电材料或者金属材料，例如，所述阳极12的材料可以为Ag、Ag的合金、Al、Al的合金、Cu、Cu的合金、Pt或者Pt的合金等；也可以为ITO、IZO、AZO或者ZTO等。

请继续参考图1，在本申请实施例中，接着，在所述基板10上形成像素限定层11，所述像素限定层11限定所述多个像素区的位置。具体的，所述像素限定层11包括多个限定结构，每个限定结构上具有支撑结构。通过所述像素限定层11能够一定程度上对相邻像素区起到隔离作用，即一定程度上避免后续形成的像素由于别的像素影响也会工作。较佳的，所述像素限定层11的材料为有机胶。即，具体可以通过沉积、刻蚀有机胶层形成所述像素限定层11。

接着请参考图2，在所述基板10上形成磁致伸缩材料层13。在本申请实施例中，具体为在所述像素限定层11上形成磁致伸缩材料层13。更进一步的，所述磁致伸缩材料层13嵌入所述像素限定层11的多个支撑结构内。其中，所述磁致伸缩材料层13可通过压膜成型工艺形成。优选的，所述磁致伸缩材料层13在真空环境下通过压膜成型工艺形成。进一步的，所述磁致伸缩材料层13通过压膜成型工艺形成之后，还在氩气保护下进行固化，由此可以提高所形成的磁致伸缩材料层13的质量与可靠性。其中，所述磁致伸缩材料层13的材料包括TbFe₂、DyFe₂或者SmFe₂中的一种或多种。除此之外，所述磁致伸缩材料层13还可以采用其他材料形成，所选材料只要能够满足改变所述磁致伸缩材料层13的周边磁场强度，可以使得所述磁致伸缩材料层13发生伸缩即可。

如图3所示，接着，形成共用层14，所述共用层14覆盖所述多个像素区及所述磁致伸缩材料层13。在本申请实施例中，通过蒸镀工艺形成所述共用层14。具体的，通过磁铁板20吸附所述基板10(即与磁致伸缩材料层13所在的基本10一面相对的基板10的另一面)；接着采用蒸镀工艺(使掩膜板21上的图案转移至基板10上)在所述磁致伸缩材料层13上形成共用层14，其中，所述共用层14还覆盖所述像素限定层11和阳极12。

进一步的，所述吸附有基板10的磁铁板20固定于冷却板22上。从而在蒸镀形成共用层14的过程中，可以对所形成的共用层14进行降温，进而提高所形成的共用层14的质量与可靠性。

在本申请实施例中，所述共用层14具体可包括：空穴注入层；形成于所述空穴注入层上的空穴传输层；形成于所述空穴传输层上的电子传输层及形成于所述电子传输层上的电子注入层。进一步的，在形成空穴注入层和空穴传输层之后，在所述空穴传输层上形成发光层，接着，再形成电子传输层及电子注入层。

接着，如图4所示，改变所述磁铁板20的磁场强度，由此，所述磁致伸缩材料层13发生伸缩，从而所述共用层14在相邻像素区间发生断裂。在本申请实施例中，在形成共用层14的过程中采用磁铁板20，因此能很方便的改变所述磁铁板20的磁场强度，进而使所述磁致伸缩材料层13发生伸缩即可。在本申请的其他实施例中，也可以在所述磁致伸缩材料层13周边外加磁场，通过改变所述外加磁场的强度使所述磁致伸缩材料层13发生伸缩，对此本申请不作限定。

在本申请实施例中，所述共用层14的断裂主要发生在所述像素限定层11侧壁，或者说发生在所述磁致伸缩材料层13的侧壁。因此，较佳的，所述像素限定层11及所述磁致伸缩材料层13均仅设置于相邻像素区之间。

此外，在本申请的其他实施例中，也可以形成空穴注入层后就使得所述磁致伸缩材料层13发生伸缩；再形成空穴传输层，使得所述磁致伸缩材料层13发生伸缩；再形成空穴传输层，使得所述磁致伸缩材料层13发生伸缩……依此类推。

进一步的，接着可在所述共用层14上形成阴极和偏光片等。后续可按照现有技术继续制造，本申请实施例对此不再赘述。

经过上述工艺后，所形成的OLED显示屏能极大的降低像素串扰问题。其具体包括：基板10，所述基板10上具有多个像素区；形成于所述基板10上的磁致伸缩材料层13，所述磁致伸缩材料层13位于相邻像素区间；及覆盖所述多个像素区及所述磁致伸缩材料层13的共用层14；其中，所述共用层14由于所述磁致伸缩材料层13的伸缩而在相邻像素区间发生断裂。

进一步的，所述OLED显示屏还包括形成于所述基板10上的像素限定层11，所述像素限定层11限定所述多个像素区的位置，其中，所述磁致伸缩材料层13形成于所述像素限定层11上。所述像素限定层11包括多个限定结构，每个限定结构上具有多个间隔开的支撑结构，所述磁致伸缩材料层13形成于所述多个支撑结构间的空隙中。

优选的，所述磁致伸缩材料层13的材料包括TbFe₂、DyFe₂或者SmFe₂中的一种或多种。所述磁致伸缩材料层13通过压膜成型工艺形成。所述共用层14包括依次形成的空穴注入层、空穴传输层、电子传输层及电子注入层。所述OLED显示屏还包括：形成于所述基板10上的阳极12；及形成于所述共用层14上的阴极和偏光镜等。

综上可见，在本发明实施例提供的OLED显示屏及其制造方法中，在基板上形成磁致伸缩材料层，所述磁致伸缩材料层位于相邻像素区间，形成共用层覆盖所述磁致伸缩材料层及多个像素区，通过改变所述磁致伸缩材料层的周边磁场强度，使得所述磁致伸缩材料层发生伸缩，从而使得所述共用层在相邻像素区间发生断裂，由此便可避免相邻像素由于别的像素影响也会工作，即降低了OLED显示屏的像素串扰问题。

上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。