一种波导优化的掩埋异质结量子级联激光器的制作方法

文档序号:12276436阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种波导优化的掩埋异质结量子级联激光器,包括:衬底,衬底之上依次为下波导包层、下限制层、级联结构有源区、上限制层、上波导包层及接触层,在接触层与下波导包层之间存在双沟窄脊台面,双沟中填入半绝缘InP层,为有源区提供横向散热通道;在其特征在于,还包括

横向分别限制层,位于双沟的底部,半绝缘InP层的下方,用于增强横向光模式限制。

2.如权利要求1所述的波导优化的掩埋异质结量子级联激光器,其特征在于,还包括SiO2钝化层,置于包覆整个台面,起电绝缘作用,留有电注入窗口;一正面电极,均匀制备在SiO2钝化层之上,窗口区域与接触层接触;一背面电极,均匀制备在衬底背面。

3.如权利要求1所述的掩埋异质结量子级联激光器结构,其中所述的横向分别限制层内填充材料为高折射率半绝缘材料,该高折射率半绝缘材料包括掺Fe的半绝缘InGaAs,其厚度因激光器脊宽和激射波长的不同而不同,并且有效折射率高于有源区。

4.如权利要求3所述的波导优化掩埋异质结量子级联激光器,其特征在于,所述横向分别限制层内填充的材料为掺Fe的半绝缘InGaAs时,该掺Fe的半绝缘InGaAs的厚度为0~120nm。

5.如权利要求4所述的波导优化掩埋异质结量子级联激光器,其特征在于,该掺Fe的半绝缘InGaAs的厚度为50nm。

6.如权利要求1所述的波导优化掩埋异质结量子级联激光器,其特征在于,所述的上限制层及下限制层为折射率高于有源区的材料,增大了与波导包层的折射率差,提高了光场限制因子,上限制层及下限制层厚度在一个真空波长范围内且厚度一致。

7.如权利要求2所述的波导优化掩埋异质结量子级联激光器,其特征在于,预留的所述电注入窗口为3μm电极窗口,在所述的电极窗口制备N型正面电极,在衬底的背面制备N型背面电极,解离管芯,倒装焊在热沉上,从而制作成量子级联激光器。

8.如权利要求1所述的波导优化掩埋异质结量子级联激光器,可在各波段各种类型的半导体量子级联激光器中应用。

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