1.一种阵列基板的制备方法，所述阵列基板划分为显示区域和环绕所述显示区域的周边区域，其特征在于，所述制备方法包括：
在基底上形成有机膜层；
形成覆盖所述周边区域的有机膜层的保护层，以及形成位于所述显示区域的第一电极；
形成平坦化层；
形成位于所述显示区域的第二电极，同时去除位于所述周边区域的保护层。
2.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述形成覆盖所述周边区域的有机膜层的保护层，以及形成位于所述显示区域的第一电极是采用同一次构图工艺完成的。
3.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述去除位于所述周边区域的保护层的步骤包括：
采用湿法刻蚀工艺，去除位于所述周边区域的保护层。
4.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述在基底上形成有机膜层的步骤之前还包括：
形成薄膜晶体管的各个膜层。
5.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述第一电极和所述第二电极中的一者为像素电极，另一者为公共电极。
6.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述第一电极为板状电极，所述第二电极为条状电极；或者，
所述第一电极和所述第二电极均为条状电极。
7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括权利要求1-6中任一项所述的阵列基板的制备方法。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，还包括：提供一对盒基板；
在所述对盒基板或者所述阵列基板的周边区域形成封框胶；
将所述对盒基板和所述阵列基板对盒；
对所述封框胶进行固化。