一种具有EMI功能的覆盖膜的制作方法

文档序号:11054624阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种具有EMI功能的覆盖膜,其特征在于:包括磁性材料层和设于磁性材料层下表面的第一胶层。

2.根据权利要求1所述的具有EMI功能的覆盖膜,其特征在于:还包括设于磁性材料层上表面的第二胶层和设于第二胶层上表面的绝缘层。

3.根据权利要求1所述的具有EMI功能的覆盖膜,其特征在于:还包括设于第一胶层下表面的绝缘层和设于绝缘层下表面的第二胶层。

4.根据权利要求2-3中任一项所述的具有EMI功能的覆盖膜,其特征在于:所述绝缘层为PI绝缘膜。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的具有EMI功能的覆盖膜,其特征在于:所述磁性材料层的厚度为20-300μm。

6.根据权利要求4所述的具有EMI功能的覆盖膜,其特征在于:所述PI绝缘膜的厚度为5-50μm。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的具有EMI功能的覆盖膜,其特征在于:所述第一胶层的厚度为5-35μm。

8.根据权利要求2-3中任一项所述的具有EMI功能的覆盖膜,其特征在于:所述第二胶层的厚度为5-35μm。

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