一种显示面板及其制作方法、显示装置与流程

本申请涉及半导体技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。

背景技术：

平面显示器(f1atpane1disp1ay，fpd)己成为市场上的主流产品，平面显示器的种类也越来越多，如液晶显示器(liquidcrysta1disp1ay，lcd)、有机发光二极管(organiclightemitteddiode，oled)显示器、等离子体显示面板(p1asmadisp1aypane1，pdp)及场发射显示器(fieldemissiondisplay，fed)等。

现有技术的显示面板通常会用到色阻膜层，例如，lcd显示面板通常会在背光模组的出光侧设置色阻膜层，以将背光模组的光转换为不同光色的光。oled显示面板也可以通过白光oled器件搭配色阻膜层实现显示。

但对于现有技术的显示面板，显示面板的光在经过色阻膜层后，通常会使显示面板的亮度降低，而且，通过多次曝光制作的色阻膜层也导致显示面板的制作工序较为复杂，制作成本较高的问题。

技术实现要素：

本申请提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，以提高显示面板的亮度，以及解决通过多次曝光制作色阻膜层导致的显示面板的制作工序较为复杂，制作成本较高的问题。

本申请实施例提供一种显示面板，包括多个呈阵列分布的像素单元，每一所述像素单元包括多个子像素单元，所述显示面板在所述像素单元的出光侧设置有光子晶体膜层，所述光子晶体膜层具有与每一所述子像素单元一一对应的光子晶体区域，每一所述光子晶体区域设置有多个均匀排列的微孔结构，且每一所述光子晶体区域的所述微孔结构的孔径与该所述光子晶体区域对应的所述子像素单元出射的光色相对应。

优选的，每一所述光子晶体区域的所述微孔结构的孔径与该所述光子晶体区域对应的所述子像素单元出射的光波长成正比。

优选的，所述微孔结构在所述光子晶体膜层上单层分布。

优选的，所述微孔结构的深度等于所述光子晶体膜层的厚度。

优选的，每一所述光子晶体区域的相邻两个所述微孔结构的中心的间距为100nm～1000nm。

优选的，所述光子晶体膜层的材质为感光树脂材料、硅基半导体材料或金属氧化物半导体材料。

优选的，每一所述像素单元包括：第一子像素单元、第二子像素单元以及第三子像素单元，所述光子晶体膜层包括：与所述第一子像素单元对应的第一光子晶体区域、与所述第二子像素单元对应的第二光子晶体区域以及与所述第三子像素单元对应的第三光子晶体区域，所述第一光子晶体区域的所述微孔结构的孔径与所述第一子像素单元出射的光色相对应，所述第二光子晶体区域的所述微孔结构的孔径与所述第二子像素单元出射的光色相对应，所述第三光子晶体区域的所述微孔结构的孔径与所述第三子像素单元出射的光色相对应。

优选的，所述显示面板为oled显示面板，所述显示面板还包括白光oled器件。

本申请实施例还提供一种显示装置，包括本申请实施例提供的所述的显示面板。

本申请实施例还提供一种显示面板的制作方法，其中，所述显示面板包括多个呈阵列分布的像素单元，每一所述像素单元包括多个子像素单元，所述制作方法包括：

在显示面板的出光侧形成第一薄膜层；

在所述第一薄膜层的与所述子像素单元对应的区域形成与该所述子像素单元出射的光色相对应孔径的微孔结构，所述微孔结构均匀排列。

优选的，所述显示面板的每一所述像素单元包括第一子像素单元、第二子像素单元以及第三子像素单元；

所述在所述第一薄膜层的与所述子像素单元对应的区域形成与该所述子像素单元出射的光色相对应孔径的微孔结构，具体包括：在所述第一薄膜层的与所述第一子像素单元对应的区域形成第一孔径的微孔结构，在所述第一薄膜层的与所述第二子像素单元对应的区域形成第二孔径的微孔结构，在所述第一薄膜层的与所述第三子像素单元对应的区域形成第三孔径的微孔结构。

优选的，所述第一薄膜层为硅基半导体材料或金属氧化物半导体材料时；

所述在所述第一薄膜层的与所述第一子像素单元对应的区域形成第一孔径的微孔结构，在所述第一薄膜层的与所述第二子像素单元对应的区域形成第二孔径的微孔结构，在所述第一薄膜层的与所述第三子像素单元对应的区域形成第三孔径的微孔结构，具体包括：

在所述第一薄膜层之上涂覆一层光刻胶；

在所述光刻胶层之上形成聚合物分子膜层，其中，所述聚合物分子膜层具有以预设间距均匀排列的聚合物分子；

在掩模板的遮挡下，以第一倾斜角度的光照射第一预设时长后，平移所述掩模板一个所述光子晶体区域的距离，以第二倾斜角度的光照射第二预设时长后，平移所述掩模板一个所述光子晶体区域的距离，以具有第三倾斜角度的光照射第三预设时长后，移去所述掩模板；

去除所述聚合物分子膜层；

通过显影，形成所述光刻胶层的图案；

在所述光刻胶层的图案的遮挡下，去除部分所述第一薄膜层，以在所述第一薄膜层的与所述第一子像素单元对应的区域形成第一孔径的微孔结构，在所述第一薄膜层的与所述第二子像素单元对应的区域形成第二孔径的微孔结构，在所述第一薄膜层的与所述第三子像素单元对应的区域形成第三孔径的微孔结构。

优选的，所述第一薄膜层的材质为感光树脂材料时；

所述在所述第一薄膜层的与所述第一子像素单元对应的区域形成第一孔径的微孔结构，在所述第一薄膜层的与所述第二子像素单元对应的区域形成第二孔径的微孔结构，在所述第一薄膜层的与所述第三子像素单元对应的区域形成第三孔径的微孔结构，具体包括：

在所述第一薄膜层之上形成聚合物分子膜层，其中，所述聚合物分子膜层具有以预设间距均匀排列的聚合物分子；

在掩模板的遮挡下，以第一倾斜角度的光照射第一预设时长后，平移所述掩模板一个所述光子晶体区域的距离，以第二倾斜角度的光照射第二预设时长后，平移所述掩模板一个所述光子晶体区域的距离，以具有第三倾斜角度的光照射第三预设时长后，移去所述掩模板；

去除所述聚合物分子膜层；

通过显影，去除部分所述第一薄膜层，以在所述第一薄膜层的与所述第一子像素单元对应的区域形成第一孔径的微孔结构，在所述第一薄膜层的与所述第二子像素单元对应的区域形成第二孔径的微孔结构，在所述第一薄膜层的与所述第三子像素单元对应的区域形成第三孔径的微孔结构。

优选的，所述形成聚合物分子膜层，具体包括：

根据需涂覆的面积以及聚合物分子直径，获取需要的聚合物分子的数量；

根据需要的聚合物分子的数量以及聚合物溶液的密度，获取需要的聚合物溶液的体积；

采用滴注的方法，在需要涂覆的区域滴注聚合物溶液。

优选的，所述显示面板为oled显示面板；

所述在显示面板的出光侧形成第一薄膜层，之前，所述制作方法还包括：形成白光oled器件；

所述在显示面板的出光侧形成第一薄膜层，具体包括：在所述白光oled器件的出光侧形成第一薄膜层。

本申请实施例有益效果如下：本申请实施例提供的显示面板，通过在出光侧设置光子晶体膜层，该光子晶体膜层设置有与子像素单元一一对应的光子晶体区域，每一光子晶体区域设置有多个均匀排列的微孔结构，且每一光子晶体区域的所述微孔结构的孔径与该光子晶体区域对应的子像素单元出射的光色相对应。由于具有一定孔径且周期性均匀排列的微孔结构可以透过相应波长的光，而阻挡其它波长的光，进而显示面板的光在经过不同的光子晶体区域后，可以转换为不同光色的光，使得光子晶体膜层可以替代传统的色阻膜层，进而可以提高显示面板的亮度，以及解决通过多次曝光制作色阻膜层导致的显示面板的制作工序较为复杂，制作成本较高的问题。

附图说明

图1为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的一种具有相等孔径的光子晶体膜层；

图3为本申请实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程图；

图4为本申请实施例一中，制备完成第一薄膜层的显示面板的结构示意图；

图5为本申请实施例一中，制备完成光刻胶层的显示面板的结构示意图；

图6为本申请实施例一中，制备完成聚合物分子的显示面板的结构示意图；

图7为本申请实施例一中，以第一倾斜角照射显示面板时的示意图；

图8为本申请实施例一中，以第二倾斜角照射显示面板时的示意图；

图9为本申请实施例一中，以第三倾斜角照射显示面板时的示意图；

图10为本申请实施例一中，形成图案化的光刻胶层的显示面板结构示意图；

图11为本申请实施例一中，在不同的光子晶体区域形成不同孔径的微孔结构的显示面板的结构示意图；

图12为本申请实施例二中，制备完成光刻胶层的显示面板的结构示意图；

图13为本申请实施例二中，制备完成聚合物分子的显示面板的结构示意图；

图14为本申请实施例二中，以第一倾斜角照射显示面板时的示意图；

图15为本申请实施例二中，以第二倾斜角照射显示面板时的示意图；

图16为本申请实施例二中，以第三倾斜角照射显示面板时的示意图；

图17为本申请实施例二中，在不同的光子晶体区域形成不同孔径的微孔结构的显示面板的结构示意图。

具体实施方式

下面结合说明书附图对本申请实施例的实现过程进行详细说明。需要注意的是，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。

参见图1所示，本申请实施例提供一种显示面板，包括多个呈阵列分布的像素单元，每一像素单元包括多个子像素单元，显示面板在像素单元的出光侧设置有光子晶体膜层3，光子晶体膜层3具有与每一子像素单元一一对应的光子晶体区域，每一光子晶体区域设置有多个均匀排列的微孔结构34，且每一光子晶体区域的微孔结构34的孔径与该光子晶体区域对应的子像素单元出射的光色相对应。

具体的，例如，显示面板包括光源2，光源2分布有多个像素单元(图1中以其中的一个像素单元进行举例说明)，每一像素单元可以包括有三个子像素单元，每一像素单元包括：第一子像素单元21、第二子像素单元22以及第三子像素单元23。具体的，光子晶体膜层3包括多个呈阵列分布的光子晶体单元，每一光子晶体单元包括：与第一子像素单元21对应的第一光子晶体区域31、与第二子像素单元22对应的第二光子晶体区域32以及与第三子像素单元23对应的第三光子晶体区域33，第一光子晶体区域31的微孔结构34的孔径与第一子像素单元21出射的光色相对应，第二光子晶体区域32的微孔结构34的孔径与第二子像素单元22出射的光色相对应，第三光子晶体区域33的微孔结构34的孔径与第三子像素单元23出射的光色相对应。即，在具体实施时，若需要使第一子像素单元21出射红光，则可以在第一光子晶体区域31设置孔径与红光对应的微孔结构34；若需要在第二子像素单元22出射绿光，则可以在第二光子晶体区域32设置孔径与绿光对应的微孔结构34，若需要在第三子像素单元23出射蓝光，在可以在第三光子晶体区域33设置孔径与蓝光对应的微孔结构34。具体的，由于光子晶体区域透射的光的颜色与孔径成正比，即，例如，透射红光一般需要的微孔的孔径较大，而透射蓝光的孔径较小，而透射绿光的孔径居于二者之间，而光的颜色一般与波长对应，即，为了实现让不同的子像素单元出射不同光色的光，可以设置使每一光子晶体区域的微孔结构的孔径与该光子晶体区域对应的子像素单元出射的光波长成正比。

需要说明的是，光子晶体是一种空间呈现周期性分布的新型光学材料。光子晶体够调制具有相应波长的电磁波，当电磁波在光子晶体结构中传播时，由于存在布拉格散射而受到调制，电磁波能量形成能带结构，能带与能带之间出现带隙，即光子带隙，所有能量处在光子带隙的光子，不能进入该晶体，即，只有某种频率的光才会在某种周期距离一定的光子晶体中被完全禁止传播，从而被透射出来。本申请通过在不同光子晶体区域设置孔径不同的微孔结构，由于孔径大小不同，使光子晶体膜层的不同光子晶体区域具有不同的介质复合折射率，进而可以出射不同光色的光。图2为本申请实施例提供的一种具有特定孔径的光子晶体膜层。

由于一般只有周期性间距在亚微米级范围内的微孔结构才可以起到对光的调制作用，因此，优选的，本申请实施例中任一光子晶体区域中相邻两个微孔结构的中心的间距均在100nm～1000nm。

优选的，为了使显示面板具有较高的亮度，微孔结构在光子晶体膜层上单层分布。进一步，优选的，微孔结构的深度等于光子晶体膜层的厚度，即微孔结构是贯穿光子晶体膜层的。

在具体实施时，所述光子晶体膜层的材质可以为感光树脂材料、硅基半导体材料或金属氧化物半导体材料。

优选的，本申请实施例的所述显示面板为oled显示面板，所述显示面板还包括白光oled器件。对于现有技术的oled显示面板，通常有两种结构，一种是白光oled搭配彩膜实现显示，该种结构的oled显示面板，工艺制作流程相对较长，同时器件的轻薄化方面存在局限。另一种为rgb三基色独立显示，该种结构的oled结构，由于在蒸镀工艺过程中，需要用到高精度掩模板(finemetalmask，fmm)，而fmm目前的技术水平目前可以实现的像素密度(pixelsperinch，ppi)范围在1000以下，因此也限制了该结构的oled显示器件在未来高甚至超高ppi产品中的应用，而且，rgb三基色独立显示的oled显示面板，还存在由于蓝光材料的寿命较短而导致oled显示面板的寿命较短的问题。本申请实施例通过在oled器件上制备一层光子晶体薄膜层(该光子晶体膜层存在三种以上的光子晶体区域，分别用于透射至少包括红绿蓝三个波段的光线)，从而取代传统色阻膜层中红色色阻、绿色色阻、以及蓝色色阻的位置及功能，避免了传统工艺中彩膜色阻对光亮度的损失以及多次曝光引起的成本增加和工艺复杂的问题，可以使oled显示面板实现高亮度、高色域的同时，还能够确保器件具有更长的显示寿命、更高的像素密度。

本申请实施例还提供一种显示装置，包括本申请实施例提供的显示面板。

参见图3，本申请实施例还提供一种显示面板的制作方法，其中，显示面板包括多个呈阵列分布的像素单元，每一像素单元包括多个子像素单元，制作方法包括：

步骤101、在显示面板的出光侧形成第一薄膜层；

步骤102、在第一薄膜层的与子像素单元对应的区域形成与该子像素单元出射的光色相对应孔径的微孔结构，微孔结构均匀排列。

优选的，显示面板的每一像素单元包括第一子像素单元、第二子像素单元以及第三子像素单元；关于步骤102，在第一薄膜层的与子像素单元对应的区域形成与该子像素单元出射的光色相对应孔径的微孔结构，具体包括：在第一薄膜层的与第一子像素单元对应的区域形成第一孔径的微孔结构，在第一薄膜层的与第二子像素单元对应的区域形成第二孔径的微孔结构，在第一薄膜层的与第三子像素单元对应的区域形成第三孔径的微孔结构。

在具体实施时，第一薄膜层可以为硅基半导体材料或金属氧化物半导体材料，也可以为感光树脂材料时，当然，也可以为其它可以刻蚀成具有孔洞结构的任意材料。优选的，为了简化工艺制作，第一薄膜层选取硅基半导体材料。

关于如何在第一薄膜层的与第一子像素单元对应的区域形成第一孔径的微孔结构，在第一薄膜层的与第二子像素单元对应的区域形成第二孔径的微孔结构，在第一薄膜层的与第三子像素单元对应的区域形成第三孔径的微孔结构，以下分别进行详细举例说明。

例如，第一薄膜层为现有技术中的显示面板常用的可以刻蚀成微孔结构的硅基半导体材料或金属氧化物半导体材料，则，在第一薄膜层的与第一子像素单元对应的区域形成第一孔径的微孔结构，在第一薄膜层的与第二子像素单元对应的区域形成第二孔径的微孔结构，在第一薄膜层的与第三子像素单元对应的区域形成第三孔径的微孔结构，具体包括：

在第一薄膜层之上涂覆一层光刻胶；

在光刻胶层之上形成聚合物分子膜层，其中，聚合物分子膜层具有以预设间距均匀排列的聚合物分子，其中，预设间距可以为相邻两个聚合物分子的中心的间距；

在掩模板的遮挡下，以第一倾斜角度的光照射第一预设时长后，平移掩模板一个光子晶体区域的距离，以第二倾斜角度的光照射第二预设时长后，平移掩模板一个光子晶体区域的距离，以具有第三倾斜角度的光照射第三预设时长后，移去掩模板；

去除聚合物分子膜层；

通过显影，形成光刻胶层的图案；

在光刻胶层的图案的遮挡下，去除部分第一薄膜层，以在第一薄膜层的与第一子像素单元对应的区域形成第一孔径的微孔结构，在第一薄膜层的与第二子像素单元对应的区域形成第二孔径的微孔结构，在第一薄膜层的与第三子像素单元对应的区域形成第三孔径的微孔结构。

又例如，第一薄膜层的材质为感光树脂材料时，在第一薄膜层的与第一子像素单元对应的区域形成第一孔径的微孔结构，在第一薄膜层的与第二子像素单元对应的区域形成第二孔径的微孔结构，在第一薄膜层的与第三子像素单元对应的区域形成第三孔径的微孔结构，具体包括：

在第一薄膜层之上形成聚合物分子膜层，其中，聚合物分子膜层具有以预设间距均匀排列的聚合物分子；

在掩模板的遮挡下，以第一倾斜角度的光照射第一预设时长后，平移掩模板一个光子晶体区域的距离，以第二倾斜角度的光照射第二预设时长后，平移掩模板一个光子晶体区域的距离，以具有第三倾斜角度的光照射第三预设时长后，移去掩模板；

去除聚合物分子膜层；

通过显影，去除部分第一薄膜层，以在第一薄膜层的与第一子像素单元对应的区域形成第一孔径的微孔结构，在第一薄膜层的与第二子像素单元对应的区域形成第二孔径的微孔结构，在第一薄膜层的与第三子像素单元对应的区域形成第三孔径的微孔结构。

在具体实施时，关于形成聚合物分子膜层，具体可以包括：

根据需涂覆的面积以及聚合物分子直径，获取需要的聚合物分子的数量；

根据需要的聚合物分子的数量以及聚合物溶液的密度，获取需要的聚合物溶液的体积；

采用滴注的方法，在需要涂覆的区域滴注聚合物溶液。

在具体实施时，对于显示面板为oled显示面板，在显示面板的出光侧形成第一薄膜层，之前，制作方法还包括：形成白光oled器件；

在显示面板的出光侧形成第一薄膜层，具体包括：在白光oled器件的出光侧形成第一薄膜层。

当然，以上仅是通过移动掩模板与不同的曝光方向实现在第一薄膜层上的不同光子晶体区域制作不同孔径的微孔结构，在具体实施时，还可以涂覆一层聚合物分子，通过在不同光子晶体区域调节光源与覆盖聚合物分子的显示面板的距离，来实现在不同的光子区域形成不同孔径的微孔结构，即，由于曝光距离的远近不同也可以实现形成的孔径不同的微孔结构。另外，还可以通过在不同的光子晶体区域形成分子直径大小的聚合物，进而实现在不同光子晶体区域形成不同孔径的微孔结构。

为了更详细的对本申请提供的金属氧化物薄膜晶体管的制备方法进行说明，结合附图4至附图17举例如下：

实施例一

本发明实施例提供第一种具体的显示面板的制备方法，包括：

步骤一，在衬底基板1上形成光源2，例如，在玻璃基板上形成oled白光器件。具体形成oled白光器件的步骤与现有技术形成oled白光器件的步骤相同，在此不再赘述。

步骤二、在背光源2的出光侧形成第一薄膜层30。此处的第一薄膜层为硅基半导体材料。在光源2之上形成第一薄膜层30后的示意图如图4所示。

步骤三、在第一薄膜层30上涂覆一层光刻胶层40。在第一薄膜层30之上形成光刻胶层40后的示意图如图5所示。

步骤四、采用胶体自组织的方法在光刻胶层40上形成周期性均匀排列的聚合物分子5。在光刻胶层40之上形成聚合物分子5后的示意图如图6所示。

具体采用胶体自组织的方法在光刻胶层上形成周期性的聚合物分子的步骤包括：

根据需涂覆的面积以及聚合物分子直径，获取需要的聚合物分子的数量；

根据需要的聚合物分子的数量以及聚合物溶液的密度，获取需要的聚合物溶液的体积，此处聚合物溶液的密度可指单位体积溶液中包含的聚合物分子数量；

采用滴注的方法，在需要涂覆的区域滴注聚合物溶液。

需要说明的是，本申请实施例提供的聚合物分子是已经制备出来的，为具有明确规格的悬浊液，聚合物分子的分子直径大小以及聚合物溶液的密度均为已知，为一种原材料，杜邦等公司均有相关的产品。胶体自组织的方法是目前制备光子晶体常用的方法之一。通过将聚合物分子(如聚苯乙烯)分散在溶液里，聚合物分子一般为亚微米数量级，各聚合物分子在短程静电作用及长程范德华力的作用下以一种精确有序的方式聚集在一起，自发排列形成规则的有序结构。

步骤五、在掩模板6的遮挡下，以第一倾斜角度的光照射第一预设时长，参见图7所示，平移掩模板6一个光子晶体区域的距离，以第二倾斜角度的光照射第二预设时长，参见图8所示；平移掩模板一个光子晶体区域的距离，以具有第三倾斜角度的光照射第三预设时长，参见图9所示；移去掩模板。具体的掩模板6可以为在与每一个像素单元中的一个子像素单元的对应区域设置有开口，进而通过掩模板的移动以及光照方向的调整，最终在不同的光子晶体区域形成不同孔径的微孔结构。

步骤六、去除聚合物分子膜层。

步骤七、通过显影，形成图案化的光刻胶层40，其中，图案化的光刻胶层40包括与不同像子素单元对应的不同孔径的光刻胶层微孔41。由于被聚合物分子遮挡的光刻胶层未受到光照，经过显影工艺后就会被去除。形成图案化的光刻胶层40后的示意图如图10所示。

步骤八、在图案化的光刻胶层40的遮挡下，去除部分第一薄膜层30，以在第一薄膜层30的与第一子像素单元21对应的区域形成第一孔径的微孔结构34，在第一薄膜层30的与第二子像素单元22对应的区域形成第二孔径的微孔结构34，在第一薄膜层30的与第三子像素单元23对应的区域形成第三孔径的微孔结构34，去图案化的光刻胶层40，进而形成最终的光子晶体膜层3。形成光子晶体膜层3后的示意图如图11所示。

实施例二

本发明实施例提供第二种具体的显示面板的制备方法，包括：

步骤一，在衬底基板1上形成光源2，例如，在玻璃基板上形成oled白光器件。具体形成oled白光器件的步骤与现有技术形成oled白光器件的步骤相同，在此不再赘述。

步骤二、在光源2的出光侧涂覆一层光刻胶层40。此处的光刻胶层40即为第一薄膜层，也即，第一薄膜层为感光树脂材料。在光源2的出光侧形成光刻胶层40后的示意图如图12所示。

步骤四、采用胶体自组织的方法在光刻胶层40上形成周期性均匀排列的聚合物分子5。在光刻胶层40之上形成聚合物分子5后的示意图如图13所示。

具体采用胶体自组织的方法在光刻胶层上形成周期性的聚合物分子的步骤与实施例一相同，在此不再赘述。

步骤五、在掩模板6的遮挡下，以第一倾斜角度的光照射第一预设时长，参见图14所示，平移掩模板6一个光子晶体区域的距离，以第二倾斜角度的光照射第二预设时长，参见图15所示；平移掩模板一个光子晶体区域的距离，以具有第三倾斜角度的光照射第三预设时长，参见图16所示；移去掩模板。具体的掩模板6为在与每一个像素单元中的一个子像素单元的对应区域设置有一个开口，进而通过掩模板的移动以及光照方向的调整，最终在不同的光子晶体区域形成不同孔径的微孔结构。

步骤六、去除聚合物分子膜层。

步骤七、通过显影，去除部分光刻胶层40，以在光刻胶层40的与第一子像素单元21对应的区域形成第一孔径的微孔结构34，在光刻胶层40的与第二子像素单元22对应的区域形成第二孔径的微孔结构34，在光刻胶层40的与第三子像素单元23对应的区域形成第三孔径的微孔结构34，进而形成最终的光子晶体膜层3。形成光子晶体膜层3后的示意图如图17所示。

本申请实施例有益效果如下：本申请实施例提供的显示面板，通过在出光侧设置光子晶体膜层，该光子晶体膜层设置有与子像素单元一一对应的光子晶体区域，每一光子晶体区域设置有多个均匀排列的微孔结构，且每一光子晶体区域的微孔结构的孔径与该光子晶体区域对应的子像素单元出射的光色相对应。由于具有一定孔径且周期性均匀排列的微孔结构可以透过相应波长的光，而阻挡其它波长的光，进而显示面板的光在经过不同的光子晶体区域后，可以转换为不同光色的光，使得光子晶体膜层可以替代传统的色阻膜层，进而可以提高显示面板的亮度，以及解决通过多次曝光制作色阻膜层导致的显示面板的制作工序较为复杂，制作成本较高的问题。

显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。