提升PERC背钝化效果的电池制备方法与流程

文档序号:11203207阅读:5488来源:国知局
提升PERC背钝化效果的电池制备方法与流程

本发明涉及电池工艺技术领域,特别是涉及一种提升perc背钝化效果的电池制备方法。



背景技术:

目前,背钝化电池作为一种新兴的高效电池技术,有效的钝化了电池背面复合,并降低了背面的发射率,从而有效的吸收了长波段的光,使得电池效率有了大的飞跃;并且由于钝化层的介入,电池片的翘曲度也得到了一定的改善。

常规的电池制备工艺依次经过清洗、扩散、洗磷、maia、正镀、激光刻槽和印刷等几个步骤,其中,硅片在洗磷后直接做maia,但是,洗磷过后存在风刀未彻底吹干,硅片表面容易残留部分的药液,表面存在水纹印等,这些残留物会影响alox,影响maia的背钝化效果不好,最终导致电致发光el的异常,如水纹印,黑边,黑点等,从而影响效率。其中,maia是指meyerburgertechnology公司的背钝化设备。



技术实现要素:

本发明所要解决的技术问题是:为了克服现有技术中洗磷后残留药液和水纹印等的不足,本发明提供一种提升perc背钝化效果的电池制备方法。

本发明解决其技术问题所要采用的技术方案是:一种提升perc背钝化效果的电池制备方法,包括在硅片上进行清洗、扩散、洗磷、maia、正面镀膜、激光刻槽和丝网印刷,其特征在于,在洗磷和maia工艺之间增加热氧化工艺。

所述热氧化具体包括,

步骤1:将硅片送入炉中,其中进舟时间为750s,通大氮进行保护,其中,大氮的流量为8000~15000sccm;

步骤2:硅片送入炉中过后,通小氧进行热氧化,小氧的流量范围为20~200sccm,通氧时间为3000~5000s,同时通大氮,大氮的流量范围为8000~15000sccm之间;

步骤3:热氧化结束后,关闭小氧流量器,继续通大氮进行保护,其中,大氮的流量范围为8000~15000sccm之间,出舟时间为750s。

大氮在整个热氧化过程中起到了保护气体和携带气体的作用,先通过通大氮将炉中的空气排出,然后通小氧,由于氧的流量很小,直接通入炉内不好控制,易造成分布不均匀,使硅片的热氧化反应也不均匀,采用大氮作为携带体,能充分与小氧混合,使硅片的热氧化效果更好,热氧化结束后,炉内硅片温度还会维持在一个较高的温度范围内,因此,采用继续通大氮一方面是避免空气进入炉内产生多余的反应,对硅片起到一定的保护作用;另一方面,采用大氮带走炉内的热量可以实现降温散热。

上述步骤具体包括:

清洗,将硅片在hf/hno3混合溶液中清洗,去除表面损伤层、切割线痕以及金属离子等;

扩散,将硅片进行常压扩散,其方阻控制在70ω~150ω范围内;

洗磷,利用hf/hno3和koh进行清洗,除去表面的psg和进行背面抛光;

热氧化,洗磷过后,将硅片送入氧化炉中,温度控制在500℃~900℃范围内,时间控制在50min~200min范围内;

背钝化:利用maia进行背钝化,利用该设备同时镀上alox和sinx层,其中总厚度控制在50nm~300nm之间;

正面镀膜,为减少正面反射,增加载流子寿命,提高电流,利用管式pecvd进行正面镀膜,其膜厚控制在50nm~120nm之间;

激光刻槽,为了导出电流,将硅片背面进行激光开凿,其中孔直径控制在50um~250um之间;由于激光是一束光斑,检测激光的好坏都是以光斑大小来说明,刻槽宽度就是激光光斑的直径,长度随硅片尺寸进行相应变换,因此,采用孔直径来对刻槽进行限定。

丝网印刷,将刻槽后的硅片进行丝网印刷烧结背铝浆、背电极和正电极即可。

本发明在洗磷后经热氧化解决洗磷后存在的杂质等,并且热氧化过程中硅片表面易生成一层薄薄的siox层,这层siox层可以提高后续maia的背钝化效果,增加氧化铝的致密性,改善了el等良率问题,从而提升maia的效率。

本发明的有益效果是:一是利用热氧化解决洗磷后残留的药液和水纹印等问题,二是利用退火沉积一层siox遂穿层薄膜,正面siox层具有钝化效果,背面的siox不仅可以起到钝化效果,还可以使alox的钝化效果更好,原因是siox经退火后结晶变好,呈现四面体结构,而alox在四面体结构上生长更容易得到四面体结构的alox,相对于八面体结构的alox其钝化效果会更好。从而可以提升maia的背钝化效果。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明。

图1是现有技术电池制备流程示意图;

图2是本发明电池制备流程示意图。

具体实施方式

现在结合附图对本发明作详细的说明。此图为简化的示意图,仅以示意方式说明本发明的基本结构,因此其仅显示与本发明有关的构成。

如图2所示,本发明的一种提升perc背钝化效果的电池制备方法,包括在硅片上进行清洗、扩散、洗磷、maia、正面镀膜、激光刻槽和丝网印刷,其特征在于,在洗磷和maia工艺之间增加热氧化工艺。

本实施例的具体步骤包括:

步骤1:清洗,将硅片在hf/hno3混合溶液中清洗,去除表面损伤层、切割线痕以及金属离子等;

步骤2:扩散,将硅片进行常压扩散,其方阻控制在70~150范围内;

步骤3:洗磷,利用hf/hno3和koh进行清洗,除去表面的psg和进行背面抛光;

步骤4:热氧化,洗磷过后,将硅片送入氧化炉中,温度控制在500℃~900℃范围内,时间控制在50min~200min范围内;

所述热氧化(退火)具体包括,

步骤4.1:将硅片送入炉中,其中进舟时间为750s,通大氮进行保护,其中,大氮的流量为8000~15000sccm;

步骤4.2:硅片送入炉中过后,通小氧进行热氧化,小氧的流量范围为20~200sccm,通氧时间为3000~5000s,同时通大氮,大氮的流量范围为8000~15000sccm之间;

步骤4.3:热氧化结束后,关闭小氧流量器,继续通大氮进行保护,其中,大氮的流量范围为8000~15000sccm之间,出舟时间为750s。

步骤5:背钝化:利用maia进行背钝化,利用该设备同时镀上alox和sinx层,其中总厚度控制在50nm~300nm之间;

步骤6:正面镀膜,为减少正面反射,增加载流子寿命,提高电流,利用管式pecvd进行正面镀膜,其膜厚控制在50nm~120nm之间;

步骤7:为了导出电流,将硅片背面进行激光开凿,其中孔直径控制在50um~250um之间;

步骤8:丝网印刷,将刻槽后的硅片进行丝网印刷烧结背铝浆、背电极和正电极即可。

以上述依据本发明的理想实施例为启示,通过上述的说明内容,相关的工作人员完全可以在不偏离本发明的范围内,进行多样的变更以及修改。本项发明的技术范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。



技术特征:

技术总结
本发明提供一种提升PERC背钝化效果的电池制备方法,包括清洗、扩散、洗磷、热氧化、背钝化、正面镀膜、激光刻槽和丝网印刷。本发明提供的一种提升PERC背钝化效果的电池制备方法,在洗磷后经热氧化解决洗磷后存在的杂质等,并且热氧化过程中硅片表面易生成一层薄薄的SiOx层,这层SiOx层可以提高MAIA的背钝化效果,增加氧化铝的致密性,改善了EL等良率问题,从而提升MAIA的背钝化效率。

技术研发人员:刘阳;孙铁囤;姚伟忠
受保护的技术使用者:常州亿晶光电科技有限公司
技术研发日:2017.06.15
技术公布日:2017.09.29
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