基板处理系统以及基板的处理费用计算系统的制作方法

文档序号:16148333发布日期:2018-12-05 16:58阅读:103来源:国知局

本发明涉及使用在半导体或者液晶显示器基板的制造工序中反复使用的各种药液进行基板的处理的基板处理系统、以及对使用该基板处理系统实施的基板的处理所涉及的基板处理费用进行计算的基板的处理费用计算系统。

背景技术

在半导体或者液晶显示器基板的制造工序中,例如,使用有显影液、蚀刻液、剥离液、防带电剂、清洗液等各种药液。这些药液(以下,在无需具体区别这些药液的情况下将这些药液统一称作“药液”。)被维持管理为根据需要的规定的浓度而使用,以便使其性能最大限度地发挥作用。药液的浓度管理通过药液的浓度的监视和基于测定出的浓度进行的补充液的补给来完成。作为所补给的补充液,除了药液的原液、纯水之外,还使用新调制出的药液(以下也称作“新液”。)、再生处理为能够再利用的药液(以下也称作“再生液”。)等。

以往,使用药液对基板进行处理的人(以下有时称作“基板制造者”。)为了维持管理药液的浓度而购入并使用药液的浓度管理装置。基板制造者必须调配药液的原液、新液等来作为为了管理药液的浓度而补给的补充液。基板制造者在自身调制药液的新液时,必须购入用其原料自动地对药液进行调制的药液调制装置并运用该药液调制装置。另外,基板制造者在自身准备再生液时,必须购入将使用后的药液再生处理为能够再利用的药液的再生处理装置。

作为药液的浓度管理装置,例如公开有以下的专利文献。在专利文献1中,公开有对显影液的碱浓度和溶解树脂浓度进行管理的显影液浓度管理装置。另外,在专利文献2中,公开有对酸浓度和溶解铟浓度进行管理的蚀刻液管理装置。作为药液的再生处理装置,例如,在专利文献3中,公开有通过精密过滤而使显影废液再生的显影废液的再生处理装置。

在先技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第2561578号公报

专利文献2:日本专利第2747647号公报

专利文献3:日本特开2005-175118号公报

然而,在像以往那样购入并使用浓度管理装置、药液调制装置、药液再生装置的方式中,基板制造者需要购入浓度管理装置、药液再生装置,使这些装置运转并进行维持管理。另外,在以往的方式中,对于制造销售浓度管理装置或药液调制装置、药液再生装置的人(以下有时称作“装置销售者”。)而言,也只有在装置销售时点才有获得这些装置的回报的机会。

因此,基板制造者必须承担用于购入浓度管理装置或药液调制装置、药液再生装置的暂时的巨额费用负担和购入后的运转及维持管理所涉及的各种精力、负担。另外,还存在如下问题:装置销售者若不在有限的市场之中屡次找寻希望购入装置的基板制造者并销售装置,则难以赚取足够的利益。



技术实现要素:

发明要解决的课题

本发明是鉴于上述的各课题而完成的。发明人提出了不是销售装置而是向基板制造者提供使用浓度管理装置或药液调制装置、药液再生装置将药液维持管理为最适于基板处理的期望的状态的服务的技术方案。在本技术方案的新的商业模式中,能够不使基板制造者承担上述那样的负担而使用始终被维持为最佳状态的药液、并且能够使装置销售者持续赚取利益。本发明的目的在于,提供一种基板处理系统、及由该基板处理装置进行的基板的处理所涉及的基板处理费用的计算系统,该基板处理系统是将在上述技术方案的新的商业模式中提供上述服务的人提供其服务所用的浓度管理装置或药液调制装置、药液再生装置与基板制造者所运用的基板处理机构连接而构筑的最适于提供上述服务的基板处理系统。

用于解决课题的方案

为了达成所述目的,本发明的基板处理系统具备:基板处理机构(1),其使用药液对基板进行处理;药液管理机构(2),其对在基板处理机构(1)反复使用的药液的浓度进行管理;以及配管(81、82、83),其与基板处理机构(1)连接,将由药液管理机构(2)向药液供给的补充液输送至基板处理机构(1),在该配管中配备有累计流量计(51、52、53)。

为了达成所述目的,优选为,本发明的基板处理系统还具备:药液调制机构(3),其将药液调制为新液;以及新液用配管(84),其与基板处理机构(1)及药液调制机构(3)连接,通过药液管理机构(2)向在基板处理机构反复使用的药液供给由药液调制机构(3)调制出的新液,在该新液用配管(84)中配备有累计流量计(54)。

为了达成所述目的,优选为,本发明的基板处理系统还具备:药液再生机构(4),其将在基板处理机构(1)使用后的药液再生为能够再利用的再生液;以及再生液用配管(85),其与基板处理机构(1)及药液再生机构(4)连接,通过药液管理机构(2)向在基板处理机构(1)反复使用的药液供给由药液再生机构(4)再生后的再生液,在再生液用配管(85)中配备有累计流量计(55)。

根据本发明的基板处理系统,由于在供给补充液的配管(81、82、83)、补给由药液调制机构(3)调制出的药液的新液的新液用配管(84)、及补给由药液再生机构(4)再生后的药液的再生液用配管(85)中配备有累计流量计(51、52、53、54、55),因此,能够按照规定期间(例如一周或者一个月)而把握向基板处理机构(1)供给的补充液、新液或再生液的量。因此,例如,能够将对供给费用加上基于其他各项经费等的基本费用后的金额计算为为了基板处理而提供的药液管理的服务提供所涉及的费用、即“基板处理费用”,供给费用是将该规定期间内的补充液、新液或再生液的供给量乘以它们的每单位量的费用而得到的。然后,能够将所算出的费用向基板制造者请求。

为了达成所述目的,本发明的基板处理系统具备:基板处理机构(1),其使用药液对基板进行处理;药液调制机构(3),其将药液调制为新液;以及新液用配管(84),其与基板处理机构(1)及药液调制机构(3)连接,将由药液调制机构(3)调制出的新液输送至基板处理机构(1),在该新液用配管(84)中配备有累计流量计(54)。

根据本发明的基板处理系统,由于在补给由药液调制机构(3)调制出的药液的新液的新液用配管(84)中配备有累计流量计(54),因此,能够按照规定期间(例如一周或者一个月)而把握向基板处理机构(1)供给的新液的量。因此,例如,能够将对供给费用加上基于其他各项经费等的基本费用后的金额计算为为了基板处理而提供的药液管理的服务提供所涉及的费用、即“基板处理费用”,供给费用是将该规定期间内的新液的供给量乘以每单位量的费用而得到的。然后,能够将所算出的费用向基板制造者请求。

为了达成所述目的,本发明的基板处理系统具备:基板处理机构(1),其使用药液对基板进行处理;药液再生机构(4),其将在基板处理机构(1)使用后的药液再生为能够再利用的再生液;以及再生液用配管(85),其与基板处理机构(1)及药液再生机构(4)连接,将由药液再生机构(4)再生后的再生液输送至基板处理机构(1),在该再生液用配管(85)中配备有累计流量计(55)。

根据本发明的基板处理系统,由于在供给由药液再生机构(4)再生后的再生液的再生液用配管(85)中配备有累计流量计(55),因此,能够按照规定期间(例如一周或者一个月)而把握向基板处理机构(1)供给的再生液的量。因此,例如,能够将对供给费用加上基于其他各项经费等的基本费用后的金额计算为为了基板处理而提供的药液管理的服务提供所涉及的费用、即“基板处理费用”,供给费用是将该规定期间内的再生液的供给量乘以每单位量的费用而得到的。然后,能够将所算出的费用向基板制造者请求。

为了达成所述目的,在本发明的基板处理系统中,累计流量计(51、52、53、54、55)具有通信功能。

根据本发明的基板处理系统,能够将在各基板制造者的工厂中使用的累计流量计(51、52、53、54、55)与网络连接,因此,能够利用与该网络连接的服务器系统远程地监视累计流量计(51、52、53、54、55)所测定的补充液、新液或再生液的累计流量的各种测定数据。无需为了对累计流量计的计量表进行查表而来到基板制造者的工厂。

为了达成所述目的,本发明的基板的处理费用计算系统具备:基板处理机构,其使用药液对基板进行处理;下述组合中的至少一种组合:对在基板处理机构反复使用的药液的浓度进行管理的药液管理机构、与同基板处理机构连接且将由药液管理机构向药液供给的补充液输送至基板处理机构的配管的组合,将药液调制为新液的药液调制机构、与同基板处理机构及药液调制机构连接且将由药液调制机构调制出的新液输送至基板处理机构的新液用配管的组合,以及将在基板处理机构使用后的药液再生为能够再利用的再生液的药液再生机构、与同基板处理机构及药液再生机构连接且将由药液再生机构再生后的再生液输送至基板处理机构的再生液用配管的组合;基板处理系统,其在该配管、新液用配管及再生液用配管中配备有具有通信功能的累计流量计(521、522、523、524、525);以及服务器系统(502),其经由网络(501)与该累计流量计(521、522、523、524、525)连接,该服务器系统(502)具备:接收部(503),其经由网络(501)而接收累计流量计(521、522、523、524、525)所计测出的累计流量;存储部(504),其按照每个累计流量计而存储由接收部(503)接收到的累计流量的历史信息;以及运算部(505),其基于该历史信息,按照每个基板处理系统而计算规定期间内的由基板处理系统处理的基板的处理费用。

根据本发明的基板的处理费用计算系统,能够利用与网络(501)连接的服务器系统(502)远程地统一监视在各基板制造者的工厂(511、512、513、514、515)中使用的累计流量计(521、522、523、524、525)。无需为了对累计流量计的计量表进行查表而来到基板制造者的工厂。能够计算与供给至基板制造者的设备的补充液、新液或再生液的规定期间内的累计流量相应的、药液管理的服务的合理的提供费用,能够向基板制造者请求该费用。

需要说明的是,在该栏中记载的各机构的括号内的附图标记表示与在后述的实施方式中记载的具体的机构的对应关系。

发明效果

根据本发明,由于在向基板处理机构补给补充液、新液或再生液的配管中配备有累计流量计,因此,能够把握规定期间内向基板处理机构供给的补充液、新液或再生液的供给量,能够计算基于该供给量的合理的费用。因此,能够实现向基板制造者提供将药液维持管理为最适于基板处理的期望的状态的服务这样的该业界迄今为止没有的新商业方法。因此,根据本发明,与以往的销售装置的情况相比,提供该服务的人即便不在有限的市场之中屡次找寻希望购入装置的人,也能够持续地确保稳定的收益。

根据本发明,基板制造者不承担购入对药液的浓度进行管理的管理装置、重新调制药液的调制装置、对药液进行再生处理的再生装置等、或者使这些装置运转、或者维持管理这些装置的负担,而仅支付基于向药液供给的补充液、新液或再生液的累计流量的药液管理的服务提供的费用,就能够使用始终被管理为期望的状态的药液。

根据本发明,提供该服务的人还能够远程地统一监视在多个基板制造者的工厂使用的各浓度管理装置或各药液再生装置的累计流量计。

附图说明

图1是具备基板处理机构、药液管理机构以及累计流量计的实施方式的基板处理系统的示意图。

图2是具备基板处理机构、药液管理机构、药液调制机构以及累计流量计的实施方式的基板处理系统的示意图。

图3是具备基板处理机构、药液管理机构、药液调制机构、药液再生机构以及累计流量计的基板处理系统的示意图。

图4是具备基板处理机构、药液管理机构、药液再生机构以及累计流量计的基板处理系统的示意图。

图5是具备基板处理机构、药液调制机构以及累计流量计的基板处理系统的示意图。

图6是具备基板处理机构、药液再生机构以及累计流量计的基板处理系统的示意图。

图7是将具有通信功能的累计流量计与网络连接的实施方式的基板处理系统的示意图。

图8是将具有通信功能的累计流量计与网络连接的另一实施方式的基板处理系统的示意图。

图9是将具有通信功能的累计流量计与网络连接的另一实施方式的基板处理系统的示意图。

图10是表示药液的基板处理费用计算系统的结构的示意图。

附图标记说明

1…基板处理机构、2…药液管理机构、3…药液调制机构、4…药液再生机构、5…基板的处理费用计算系统、31…系统控制计算机、41、42、43、44、45、46、47…控制阀、48、49…阀门、51、52、53、54、55…累计流量计、60、61、62、63、64、65、66、67、69…信号线、71、72、73…输送泵、80…合流配管、81、82、83…配管、84…新液用配管、85…再生液用配管、86…显影液原液供给配管、87…纯水供给配管、88…使用完毕显影液输送配管、89…氮气用配管、91…显影液原液贮存容器、92…显影液新液贮存容器、99…使用完毕显影液贮存容器、131…控制装置(计算机)、161…显影液贮存槽、162…溢流槽、163…液面计、164…显影室护罩、165…辊式输送机、166…基板、167…显影液喷淋嘴、171…废液泵、172、174…循环泵、173、175…过滤器、180…显影液管路、185…循环管路、210…测定部、211、212…测定机构、214…取样泵、215…取样配管、216…返回配管、220…运算部、221…运算模块、225…运算控制部(计算机)、230…控制部、231…控制模块、251、252、253、254、255、256、257、258、259…信号线、301…新液调制槽、302…新液贮存槽、311…浓度计、312、322…液面计、331…控制装置(计算机)、341、342、343…控制阀、351、352、353、354、355…信号线、371、372…循环泵、373…输送泵、380…连通管、381、382…循环管路、431…控制装置(计算机)、441…控制阀、451、452…信号线、461、462、463…过滤器、471…输送泵、493…再生液贮存槽、501…网络、502…服务器系统、503…接收部、504…存储部、505…运算部、506…显示器、511、512、513、514、515…工厂、521、522、523、524、525…累计流量计。

具体实施方式

以下,适当地参照附图对本发明优选的实施方式详细进行说明。其中,只要没有特别明确的记载,这些实施方式所记载的装置等的形状、大小、尺寸比、其相对配置等就不仅仅限定于本发明的范围所图示的示例。这些示例仅仅是作为说明例而示意性地进行图示而已。

另外,在以下的说明中,作为在半导体或者液晶显示器基板的制造工序中使用的药液的具体例,适当使用在显影工序中主要用作显影液的2.38wt%(以下,将wt%仅记载为%)的四甲基氢氧化铵水溶液(以下,将四甲基氢氧化铵称作tmah。)而进行说明。

其中,本发明应用的药液并不局限于此。作为本发明能够应用的其他药液的例子,除了显影液以外,能够举出蚀刻液、剥离液、防带电剂或者清洗液等。

这些药液分别存在有更为多样的种类或组成的药液。作为显影液,例如,还能够举出氢氧化钾、氢氧化钠、磷酸钠、硅酸钠等无机化合物的水溶液、或者三甲基单乙醇基氢氧化铵(胆碱)等有机化合物的水溶液等。作为蚀刻液,例如,能够举出草酸水溶液、硫酸和过氧化氢的混合水溶液、硫酸铜溶液、磷酸、醋酸以及硝酸的混合水溶液、热磷酸、硝酸铈铵水溶液、氯化铁溶液等。作为剥离液,例如,能够举出二甲基亚砜系原液和纯水的溶液、n-甲基吡咯烷酮系原液和纯水的溶液、烷醇胺、甘醇醚以及纯水的溶液等水系抗蚀剂剥离液、单乙醇胺、丁基二甘醇以及添加剂的混合溶液等非水系抗蚀剂剥离液等。

以往,使用上述的各种药液对基板进行处理来制造基板的基板制造者购入药液管理装置或药液调制装置、药液再生装置,并将这些装置与显影设备或蚀刻设备等的使用药液的设备连接,使这些装置运转而进行使用了药液的基板的处理。因此,基板制造者必须承担购入药液管理装置或药液调制装置、药液再生装置时的暂时的巨额费用负担、装置的运转时的补充液或必要原料的调配的负担、与装置的运转、维持管理相关的其他各种精力、负担。

另外,从装置销售者方面来说,在以往的销售装置本身的商业中,只有在装置销售时点才有获得装置的回报的机会,若不能屡次找寻希望购入装置的人而卖出装置,则难以获取足够的利益。

本发明人鉴于这些点而提出了新的商业方法。即,是提供如下服务的商业:使用药液管理装置或药液调制装置、药液再生装置而将基板制造者的反复使用的药液的浓度管理为规定的浓度。是提供如下服务的商业:使用药液调制装置向基板制造者供给药液的新液,或是提供如下服务的商业:使用药液再生装置将基板制造者使用后的药液再生处理为能够再利用。对这些新的商业方法进行说明。

首先,对提供管理药液的服务的商业进行说明。

药液管理的服务提供者使用药液管理装置将基板制造者反复使用的药液管理为基板制造者所期望的规定的浓度或者规定的浓度范围。药液的浓度管理通过向反复使用的药液补给补充液来进行。药液管理装置反复测定并始终监视反复使用的药液的浓度,并对在补给补充液的配管中配备的控制阀进行控制,以使得补给需要量的适当的补充液。一边由在补给补充液的配管中配备的累计流量计对累计流量进行计测一边补给补充液。服务提供者通过监视所补给的补充液的累计流量,基于按照规定期间(例如按照一周或者一个月)的累计流量,算出药液管理的服务提供所涉及的费用,并按照该规定期间向基板制造者请求该费用。这是提供管理药液的浓度的服务的商业的概要。

管理药液的浓度的服务所使用的药液管理装置作为服务提供者的所有物件而由服务提供者进行运转及维持管理并用于浓度管理。因此,基板制造者无需购入药液管理装置,也无需进行该药液管理装置的运转、维持管理。仅仅从服务提供者得到管理药液的浓度而已。

服务提供者将自己具有的药液管理装置放置于基板制造者的工厂,并与基板制造者所运用的使用药液对基板进行处理的设备(以下也称作“基板处理设备”。)相连接。在此,使用药液对基板进行处理的设备是指,药液为显影液的话为显影装置,药液为蚀刻液的话为蚀刻装置,药液为剥离液的话为剥离装置等。

浓度管理通过药液的浓度测定和基于所测定的药液的浓度而进行的补充液的补给来实现。但是,并不局限于此。例如,也可以组合使用后的药液的再生处理等来进行浓度管理。

例如,在将显影处理工序中较多使用的tmah水溶液管理为2.38%的浓度的情况下,如专利文献1那样,进行如下的浓度管理。即,显影液管理装置反复测定并始终监视碱成分浓度和溶解树脂浓度,以使碱成分浓度成为大约2.38%的浓度、且使溶解树脂浓度不超过规定的设定浓度的方式补给补充液而进行浓度管理。

在该情况下,作为补充液而补给显影液的原液、显影液的新液、纯水等。显影液的原液是指浓度浓的显影液,例如、20%~25%左右的tmah水溶液。显影液的新液是指未使用的显影液,换句话说是不含有溶解树脂等不需要物质的新鲜的显影液。例如,未使用的2.38%tmah水溶液。也可以将从使用后的显影液中去除溶解树脂等不需要物质而得到的显影液的再生液用作补充液。另外,作为显影液的新液,也可以使用由显影液调制装置(药液调制机构)调制出的新液。

在浓度测定中,对在显影设备中反复使用的显影液进行取样,并由显影液管理装置的测定部来进行。碱成分浓度通过对显影液的导电率进行测定来进行,另外,溶解树脂浓度通过对显影液的特定波长下的吸光度进行测定来进行。在这些成分浓度与对应的显影液的物性值之间,已知存在良好的相关关系(参照专利文献1)。若使用这样的相关关系,则能够从测定出的导电率值导出碱成分浓度,从测定出的吸光度值导出溶解树脂浓度。

在浓度测定的结果为碱成分浓度低于2.38%时,显影液管理装置补给显影液的原液作为补充液。反之,在碱成分浓度高于2.38%时,显影液管理装置补给纯水或者显影液的新液作为补充液。同样,在溶解树脂浓度超过规定的设定浓度时,显影液管理装置补给显影液的新液作为补充液。

经由配管而从贮存补充液的贮存容器、调整新液而供给的药液调制装置或供给再生液的药液再生装置向基板制造者的基板处理设备输送补充液。在补给补充液的配管设置有由药液管理装置控制的控制阀和累计流量计。需要说明的是,若按照每个控制阀而预先设定了在控制阀打开时每单位时间流通的流量,则药液管理装置通过将设置在应补给的补充液所流通的配管中的控制阀打开规定时间,而能够补给适量的补充液。在补给补充液时,累计流量计对补充液的累计流量进行测定。这是向基板处理设备供给的补充液的供给量。

服务提供者按照例如一个月等的规定期间,基于由累计流量计测定出的补充液的累计流量(供给量)而计算基板的处理费用。服务提供者向基板制造者请求所算出的基板的处理费用来作为提供管理基板处理所使用的药液的服务的回报。

基板制造者通过按照规定期间支付基板的处理费用,不进行浓度管理装置的购入、运转及维持管理就能够持续使用浓度管理后的药液。另一方面,与销售装置时相比,服务提供者能够持续赚取稳定的收益。

在此,作为基板的处理费用,能够采用各种方式。以下,例示出几个基板的处理费用的具体例。但是,基板的处理费用的计算方法并不局限于这些。与本发明相关联的基板的处理费用的计算方法包括基于补充液的累计流量(供给量)而计算的各种费用计算方法。

第一,作为基板的处理费用,有时以在规定期间内供给的补充液的供给费用为基准而计算费用。这是基于销售补充液这样的思考方式而得出的。

例如,将规定期间设为一个月。由于利用累计流量计来计测补充液的累计流量,因此通过从本月查表时点的累计流量减去前月查表时点的累计流量来求出本月补给的补充液的供给量。将本月补给的补充液的供给量设为q(l/月)。将补充液的供给单价设为a(元/l)。于是,本月的补充液的供给费用被求出为q×a(元/月)。在补充液为多种的情况下,分别针对多种补充液而将供给量设为q1、q2、q3、···(l/月),将供给单价设为a1、a2、a3、···(元/l),补充液的供给费用被求出为∑qi×ai(i=1、2、3,···)(元/l)。将其作为本月的基板的处理费用而向基板制造者请求。

作为其变形例,有时将对如上述那样算出的补充液的供给费用加上各种费用而得出的费用作为每月的基板的处理费用。作为要相加的各种费用的代表性费用,具有基本费用。在签订药液管理的服务提供所涉及的合同时,确定每月的基本费用,无论是否供给补充液,都将该基本费用包含在基板的处理费用内而进行请求。当然,也可以无关乎基本费用这样的名目,而将设备维持管理费或装置操作员的人工费、原料调配费、其他各种经费等包含在要相加的费用内。若将相加的费用(例如基本费用)设为z(元/月),则每月的基板的处理费用为q×a+z(元/月)。在补充液为多种且相加的费用为各种费用之和z=∑zj时,每月的基板的处理费用为∑qi×ai+∑zj(i、j=1、2、3、···)(元/月)。

另外,作为其他的变形例,有时也将补充液的供给费用乘以补贴率b而得到的金额设为每月的基板的处理费用。例如,补充液的原料的调配所涉及的各项经费、装置的维持管理费等被认为与补充液的供给量(这与装置的运转时间也有关系)有关联是合理的。在这样的情况下,将补贴率b乘以补充液的供给费用q×a(元/月),每月的基板的处理费用被求出为q×a×b(元/月)。也可以将补贴率b包含于补充液的供给单价a(元/l)。此外,在加上基本费用等的情况下,每月的基板的处理费用成为q×a×b+z(元/月)。更通常来讲,每月的基板的处理费用被求出为(∑qi×ai)×b+∑zj(i、j=1、2、3、···)(元/月)。

第二,作为基板的处理费用,向基板制造者请求将因在规定期间内提供的药液管理的服务而给基板制造者带来的经济利益乘以规定的比例而得到的金额。这基于将因药液管理的服务提供而使基板制造者产生的经济利益分给基板制造者和服务提供者这样的思考方式而得出的。这优选适用于例如向没有实施药液管理的基板制造者提供药液管理的服务的情况等。

在不进行药液管理的情况下,基板制造者在将药液使用了规定次数之后全部废弃而更换为新药液。因此,药液的液体性能在每次液体的更换时都发生较大变动。另一方面,在实施药液的浓度管理时,基板制造者能够享受到如下那样的各种效果。即,药液的使用量被大幅削减。药液的废液量也被大幅削减。另外,由于药液的液体性能始终恒定,因此半导体或液晶基板的制造品质稳定,制造成品率提高。无需因液体更换而停止制造装置,制造装置的运转率提高,半导体或液晶基板的制造量增加。

作为这样的情况下的基板的处理费用的计算的具体例,能够举出将因药液使用量的削减带来的药液成本的减少金额的数成作为规定期间的基板处理费用的情况。

例如,将规定期间设为一个月。将在基板制造者接受本发明所涉及的药液管理的服务提供之前、即在不实施药液的浓度管理时基板制造者购入的每一个月的药液的购入量设为r(l/月),并将其购入单价设为c(元/l)。在药液购入量r的变动大的情况下,将过去的适当的期间内的药液购入量的平均值设为r。

根据由累计流量计测定出的累计流量,将因本发明所涉及的药液管理的服务提供而供给的补充液的供给量求出为q(l/月)。乘以补充液的供给单价a(元/l),每月的补充液的供给费用被求出为q×a(元/月)。

于是,基板制造者通过接受本发明所涉及的药液的浓度管理的服务提供而能够得到的药液成本的减少金额成为r×c-q×a(元/月)。以d为比例,每月的基板的处理费用被求出为(r×c-q×a)×d(元/月)。当然,也可以再加上基本费用等。作为比例d,例如为一成(0.1)、两成(0.2)、三成(0.3)等。

作为变形例,也可以将因药液的废液量的削减带来的废液处理成本的减少金额的数成设为规定期间的基板的处理费用。

在将药液管理实施前的药液的每月的废液处理费用设为s(元/月)、将药液管理实施后的每月的废液处理费用设为t(元/月)(其中,s>t)时,因浓度管理而削减的废液处理费用的减少金额为s-t(元/月)。基板制造者因浓度管理而支付每月q×a(元/月)的补充液的供给费用,因此基板制造者的废液量削减所牵涉的经济利益的金额成为(s-t)-q×a(元/月)。每月的基板的处理费用在此基础上乘以比例d而被求出为((s-t)-q×a)×d(元/月)。也可以再加上基本费用等。

作为其他变形例,对于基板制造者的经济利益的金额而言,也可以代替药液成本的减少金额、废液处理费用的减少金额,而使用因成品率提高、产品品质的提高、装置运转率的提高等而带来的基板制造者侧的收益增加金额等。另外,也可以将从药液成本的减少金额、废液处理费用的减少金额、基板制造者的收益增加额等的总计金额减去补充液的供给费用q×a(元/月)后的金额视作基板制造者的因药液管理带来的总计经济利益的金额,来计算每月的基板的处理费用。在该情况下,若将收益增加金额等相加而得到的金额设为u(元/月),则基板的处理费用成为(u-q×a)×d(元/月)。也可以再加上基本费用等。

作为另一变形例,通过向已经实施药液的浓度管理的基板制造者提供本发明所涉及的药液管理的服务,能够使基板制造者产生各种经济利益。同样将这些经济利益计算为每月的基板的处理费用而向基板制造者请求。

即便在已经实施药液的浓度管理的情况下,大多基板制造者依然购入浓度管理装置并自己运转、维持管理,从而进行药液的浓度管理。因此,基板制造者在药液的浓度管理中承担原料或资材的调配的各项经费、装置操作员的人工费等费用。另外,尚在使用旧的药液管理装置、或者使用基于针对各药液都没有充分最优化的浓度测定原理而进行管理的药液管理装置的情况也较多。

在这样的情况下,通过将以往的药液管理置换为本发明所涉及的药液管理的服务,能够给基板制造者带来与药液成本或废液成本的削减、成品率提高、产品品质的提高和稳定、设备运转率的提高、产品制造数量的提高等相伴的经济利益。在这样的情况下,也与上述相同地,能够将基于补充液的累计流量而得到的经济利益的金额的数成计算为基板的处理费用,并向基板制造者请求。

接下来,来说明提供作为补充液之一而供给将使用后的药液再生处理为能够再利用而得到的再生液来对药液进行管理的服务的商业。

供给再生液来对药液进行管理的服务的服务提供者使用药液再生装置而去除在由基板处理设备使用后的药液中蓄积的不需要成分,调整为基板制造者所期望的规定的浓度或者规定的浓度范围,从而再生为能够再利用。再生处理通过使用过滤、电析、晶析、膜分离等技术而去除所蓄积的不需要成分来进行(再生处理的方式并不局限于这些。根据成为对象的药液或应去除的成分而适当地选择并应用合适的技术)。药液再生装置通过打开在供给再生后的药液(再生液)的配管中配备的控制阀,将再生液向基板处理设备供给。一边利用在供给再生液的配管中配备的累计流量计来计测累计流量一边供给再生液。服务提供者通过监视所供给的再生液的累计流量,基于按照规定期间(例如,一周或者一个月)的累计流量而计算供给再生液来对药液进行管理的服务的服务提供所涉及的费用,并按照该规定期间向基板制造者请求该费用。这是提供供给对使用后的药液进行再生处理而得到的再生液来对药液进行管理的服务的商业的概要。

在供给对使用后的药液进行再生处理而得到的再生液来对药液进行管理的服务中使用的药液再生装置,作为服务提供者的所有物件而由服务提供者进行运转及维持管理并用于药液的再生处理。因此,基板制造者无需购入药液再生装置,也无需进行该药液再生装置的运转、维持管理。仅仅由服务提供者来进行药液的再生处理而已。

服务提供者将自己具有的药液再生装置放置于基板制造者的工厂,并与基板制造者所运用的基板处理设备连接。在此,基板处理设备是指,药液为显影液的话为显影装置,药液为蚀刻液的话为蚀刻装置,药液为剥离液的话为剥离装置等。

通过使用过滤、电析、晶析、膜分离等分离除去技术从药液中去除因药液的使用而在药液中蓄积的不需要物质,来实现再生处理。也可以通过适当地补给补充液等而调节药液的各成分。但是,再生处理所使用的分离技术并不局限于这些。在药液中蓄积的不需要物质是指,例如在显影液的情况下,因显影处理而从基板溶出的抗蚀剂成分等。

再生后的药液经由配管向基板制造者的基板处理设备输送。在补给再生液的配管设置有控制阀和累计流量计。若预先设定了在控制阀打开时每单位时间流通的流量,则通过将该控制阀打开规定时间,能够供给适量的再生液。在供给再生液时,累计流量计对再生液的累计流量进行测定。这是向基板处理设备供给的再生液的供给量。

服务提供者按照例如一个月等规定期间,基于由累计流量计测定出的再生液的累计流量(供给量)而计算与再生液的供给相伴的基板的处理费用。服务提供者向基板制造者请求所算出的基板的处理费用来作为提供基于再生液的供给实现的药液管理的服务的回报。

基板制造者通过按照规定期间支付与再生液的供给相伴的基板的处理费用,不进行药液再生装置的购入、运转及维持管理就能够得到再生处理后的药液并使用于基板处理。另一方面,与销售装置时相比,服务提供者能够持续赚取稳定的收益。

在此,作为与再生液的供给相伴的基板的处理费用,能够采用各种方式。以下,例示出几个与再生液的供给相伴的基板的处理费用的具体例。但是,基板的处理费用的计算方法并不局限于这些。本发明的基板的处理费用的计算方法包括基于再生液的累计流量(供给量)而计算的各种费用计算方法。

第一,作为与再生液的供给相伴的基板的处理费用,有时以在规定期间内供给的再生液的供给费用为基准而计算费用。这是基于销售再生液的思考方式而得出的。

例如,将规定期间设为一个月。由于利用累计流量计来计测再生药液的累计流量,因此通过从本月查表时点的累计流量减去前月查表时点的累计流量来求出本月供给的再生液的供给量。将本月供给的再生液的供给量设为k(l/月)。将再生液的供给单价设为e(元/l)。于是,本月的再生液的供给费用被求出为k×e(元/月)。将其作为本月的与再生液的供给相伴的基板的处理费用向基板制造者请求。

作为其变形例,有时将对如上述那样算出的再生液的供给费用加上各种费用而得出的费用作为每月的与再生液的供给相伴的基板的处理费用。作为要相加的各种费用的代表性费用,具有基本费用。在签订基于药液的再生处理实现的药液管理的服务提供所涉及的合同时,确定每月的基本费用,无论是否进行再生液的供给,都将该基本费用包含在基板的处理费用内而进行请求。当然,也可以无关乎基本费用这样的名目,而将设备维持管理费或装置操作员的人工费、原料调配费、其他各种经费等包含在要相加的费用内。若将相加的费用(例如基本费用)设为z(元/月),则每月的基板的处理费用成为k×e+z(元/月)。在相加的费用为各种费用之和z=∑zj时,每月的基板的处理费用成为k×e+∑zj(j=1、2、3、···)(元/月)。

另外,作为其他的变形例,有时也将再生液的供给费用乘以补贴率f而得到的金额设为每月的与再生液的供给相伴的基板的处理费用。例如,再生液的资材或原料的调配所涉及的各项经费、装置的维持管理费等被认为与再生液的供给量(这与装置的运转时间也有关系)有关联是合理的。在这样的情况下,将补贴率f乘以再生液的供给费用k×e(元/月),每月的基板的处理费用被求出为k×e×f(元/月)。也可以将补贴率f包含于再生液的供给单价e(元/l)。此外,在加上基本费用等的情况下,每月的基板的处理费用成为k×e×f+z(元/月)。更通常来讲,每月的基板的处理费用被求出为(k×e)×f+∑zj(j=1、2、3、···)(元/月)。

第二,作为与再生液的供给相伴的基板的处理费用,向基板制造者请求将因在规定期间内提供的基于药液的再生处理实现的药液管理的服务而给基板制造者带来的经济利益乘以规定的比例而得到的金额。这基于将因药液的再生处理所带来的药液管理的服务提供而使基板制造者产生的经济利益分给基板制造者和服务提供者这样的思考方式而得出的。这优选适用于例如向没有实施药液的再生处理的基板制造者提供基于药液的再生处理实现的药液管理的服务的情况等。

在不进行药液的再生处理的情况下,基板制造者在将药液使用了规定次数之后全部废弃而更换为新药液。因此,药液的废液量非常多,新药液也必须被大量地调配。另一方面,在对药液进行再生处理而使其再利用时,基板制造者能够享受到如下那样的各种效果。即,新药液的使用量被大幅削减。药液的废液量也被大幅削减。

作为这样的情况下的与再生液的供给相伴的基板的处理费用的计算的具体例,能够举出将因药液使用量的削减带来的药液成本的减少金额的数成作为规定期间的基板的处理费用的情况。

例如,将规定期间设为一个月。将在基板制造者接受本发明所涉及的基于药液的再生处理实现的药液管理的服务提供之前、即在未实施药液的再生处理时基板制造者购入的每一个月的药液的购入量设为m(l/月),并将其购入单价设为g(元/l)。在药液购入量m的变动大的情况下,将过去的适当的期间内的药液购入量的平均值设为m。

根据由累计流量计测定出的累计流量,将因本发明所涉及的基于药液的再生处理实现的药液管理的服务提供而供给的再生液的供给量求出为k(l/月)。乘以补充液的供给单价e(元/l),每月的再生液的供给费用被求出为k×e(元/月)。

于是,基板制造者通过接受本发明所涉及的基于药液的再生处理实现的药液管理的服务提供而能够得到的药液成本的减少金额成为m×g-k×e(元/月)。以f为比例,每月的基板的处理费用被求出为(m×g-k×e)×f(元/月)。当然,也可以再加上基本费用等。作为比例f,例如为一成(0.1)、两成(0.2)、三成(0.3)等。

作为变形例,也可以将因药液的废液量的削减带来的废液处理成本的减少金额的数成设为规定期间的与药液的再生处理相伴的基板的处理费用。

在将再生处理实施前的药液的每月的废液处理费用设为n(元/月)、将再生处理实施后的每月的废液处理费用设为p(元/月)(其中,n>p)时,因药液的再生处理而削减的废液处理费用的减少金额为n-p(元/月)。基板制造者因药液的再生处理而支付每月k×e(元/月)的再生药液的供给费用,因此基板制造者的废液量削减所牵涉的经济利益的金额成为(n-p)-k×e(元/月)。每月的与药液的再生处理相伴的基板的处理费用在此基础上乘以比例f而被求出为((n-p)-k×e)×f(元/月)。也可以再加上基本费用等。

作为其他变形例,基板制造者的经济利益的金额也可以使用药液成本的减少金额和废液处理费用的减少金额等的总计金额。也可以将从药液成本的减少金额和废液处理费用的减少金额等的总计金额减去补充液的供给费用k×e(元/月)后的金额视作基板制造者的因药液的再生处理带来的总计经济利益的金额,来计算每月的基板处理费用。在该情况下,若将药液成本的减少金额和废液处理费用的减少金额等的总计金额设为v(元/月),则基板的处理费用成为(v-k×e)×f(元/月)。也可以再加上基本费用等。

作为另一变形例,通过向已经实施药液的再生处理的基板制造者提供本发明所涉及的药液的再生处理的服务,能够使基板制造者产生各种经济利益。同样将这些经济利益计算为每月的基板的处理费用而向基板制造者请求。

即便在已经实施药液的再生处理的情况下,大多基板制造者依然购入药液再生装置并自己运转、维持管理,进行药液的再生处理。因此,基板制造者在药液的再生处理中承担原料或资材的调配的各项经费、装置操作员的人工费等费用。另外,尚在使用旧的再生处理装置的情况也较多。

在这样的情况下,通过将以往的再生处理置换为本发明所涉及的基于药液的再生处理的药液管理的服务,能够给基板制造者带来与药液成本、废液成本的削减等相伴的经济利益。在这样的情况下,也与上述相同地,能够将基于补充液的累计流量而得到的经济利益的金额的数成计算为与再生液的供给相伴的基板的处理费用,并向基板制造者请求。

关于使用药液调制装置调制药液的新液并作为补充液之一向基板制造者所运用的基板处理设备供给来提供药液管理的服务的商业,也可以与基于再生液的供给实现的药液管理的服务的情况同样地考虑,上述药液调制装置用药液的原料自动地调制出基板制造者所期望的成分浓度的药液并作为药液的新液供给。关于该情况下的基板的处理费用,将再生液置换为新液而同样地考虑即可,由于说明重复,因此省略具体的说明。

接下来,对本发明所涉及的基板处理系统进行说明。对于实现提供本发明的药液管理的服务的商业而言,能够测定药液的浓度管理所需要的补充液的供给量的、配备在补充液的供给配管中的累计流量计是不可或缺的。以下,参照附图对具备这种累计流量计的基板处理系统进行说明。

〔第一实施方式〕

图1是用于说明本实施方式的具备基板处理机构、药液管理机构以及累计流量计的基板处理系统的示意图。在本实施方式的说明中,对如下的药液管理机构进行说明:以作为药液的2.38%浓度的tmah水溶液(显影液)为例,对其补给作为补充液的20%tmah水溶液(显影液的原液)、未使用的2.38%tmah水溶液(显影液的新液)以及纯水来进行浓度管理。

在图1中,以药液管理机构(显影液管理装置)2通过具备累计流量计51、52、53的用于补给补充液的配管81、82、83与基板处理机构(显影工序设备)1连接的方式图示。此外,药液管理机构(显影液管理装置)2也与补充液的贮存容器即显影液原液贮存容器91、显影液新液贮存容器92等连接。

首先,简单地说明基板处理机构(显影工序设备)1。其中,图1的基板处理机构(显影工序设备)1为基板处理机构(显影工序设备)的例示,但并不局限于此。本实施方式的药液管理机构(显影液管理装置)2所连接的基板处理机构(显影工序设备)也包括能用于显影处理的与图1不同的各种方式的显影工序设备。

基板处理机构(显影工序设备)1主要由显影液贮存槽161、溢流槽162、显影室护罩164、辊式输送机165、显影液喷淋嘴167等构成。显影液贮存槽161贮存有在显影处理中反复使用的显影液(药液)。显影液贮存槽161具备液面计163和溢流槽162,对因补给补充液而导致的液量的增加进行管理。显影液贮存槽161和显影液喷淋嘴167由显影液管路180连接。贮存于显影液贮存槽161内的显影液在设于显影液管路180的循环泵172的作用下经由过滤器173而被输送至显影液喷淋嘴167。辊式输送机165配备于显影液贮存槽161的上方,用于搬运制作有光致抗蚀剂膜的基板166。显影液从显影液喷淋嘴167滴下。由辊式输送机165搬运的基板166在被滴下的显影液之中通过而浸渍于显影液中。然后,显影液被显影液贮存槽161回收而被再次贮存。贮存于显影液贮存槽161的显影液被循环泵174取出并经由具备过滤器175的循环管路185而再次返回至显影液贮存槽161。通过显影液的经由循环管路185的循环,显影液贮存槽161内的显影液始终被搅拌。需要说明的是,通过使废液泵171工作而将劣化了的显影液废弃(排出)。

接下来,对本实施方式的药液管理机构2进行说明。本实施方式的药液管理机构2主要具备测定部210、运算部220、控制部230及配备于补充液供给用的配管81、82、83的控制阀41、42、43。

测定部210通过取样配管215及返回配管216而与显影液贮存槽161连接。测定部210通过测定数据用的信号线256、257而与运算部220连接。

测定部210具备取样泵214和测定机构211、212。测定机构211、212例如为用于测定显影液的碱成分浓度的导电率仪、或者用于测定显影液的溶解树脂浓度的吸光光度计等。测定机构211、212在取样泵214之后串联连接。取样配管215与取样泵214连接,返回配管216与测定机构末端的配管连接。

测定部210优选还具备使所取样的显影液稳定为规定的温度的温度调节机构(未图示),以提高测定精度。此时,温度调节机构优选设置在测定机构的紧前面。

运算部220包括用于根据由测定部210测定出的测定数据而计算显影液的成分浓度(例如碱成分浓度或溶解树脂浓度等)的运算模块221。在运算模块221中,根据由测定部210测定出的测定数据来计算显影液的成分浓度。

运算部220通过信号线258而与控制部230连接。运算部和控制部也可以借助例如计算机等而构成为一体。

控制部230包括控制模块231。控制部230通过控制用的信号线251、252、253而与设置在补充液供给用的配管81、82、83上的控制阀41、42、43连接。控制模块231根据由运算部220算出的显影液的浓度而决定补充哪种补充液到何种程度,并对设置在输送补充液的配管上的控制阀进行开闭控制。

在补充液供给用的配管81、82、83还分别配备有计测所供给的补充液的累计流量的累计流量计51、52、53。有时在纯水供给用的配管83不设置累计流量计。

药液管理机构(显影液管理装置)2的动作如下所述。

首先,利用取样泵214对在基板处理机构(显影工序设备)1中反复使用的显影液进行取样,在适当调整温度调节等测定条件之后,利用测定机构211、212来测定例如其导电率和吸光度。测定出的显影液的导电率值和吸光度值经由测定数据用的信号线256、257而被送至运算部220。

运算部220基于由测定部210的测定机构211、212测定出的显影液的导电率、吸光度等特性值而计算对应的显影液的成分浓度。算出的显影液的成分浓度经由信号线258被送至控制部230。

控制部230对由运算部220算出的显影液的成分浓度和预先存储的成分浓度的管理目标值进行比较。控制部230进行为了将成分浓度维持为管理目标值而需要补给的补充液的选择、补充液的供给量的计算或者应将设置在输送补充液的配管上的控制阀打开的时间的计算。控制部230经由控制用的信号线251、252、253而向设置在补充液供给用的配管81、82、83上的控制阀41、42、43的任一适当的控制阀发送开闭控制的信号。

接收到控制信号的控制阀基于该控制信号将流路打开规定时间。控制阀预先设定有打开时的流量。因此,通过将流路打开规定时间来供给规定量的补充液。

例如,将tmah水溶液(显影液)的碱成分浓度管理为2.38%的控制如下所述。在由测定部210和运算部220测定并算出的碱成分的浓度低于2.38%时,将设置在配管(显影液原液供给配管)81上的控制阀41打开规定时间,补给在显影液原液贮存容器(补充液贮存容器)91中预先准备好的显影液的原液(20%tmah水溶液)。在碱成分的浓度高于2.38%时,将设置在配管(纯水供给配管)83上的控制阀43打开规定时间并补给纯水。

同样,将溶解树脂浓度管理为规定的管理浓度以下的控制如下所述。在由测定部210和运算部220测定并算出的溶解树脂的浓度高于规定的管理值时,将设置在配管(显影液新液供给配管)82上的控制阀42打开规定时间,补给在显影液新液贮存容器(补充液贮存容器)92中预先准备好的显影液的新液(未使用的2.38%tmah水溶液)。

显影液原液贮存容器(补充液贮存容器)91及显影液新液贮存容器(补充液贮存容器)92被经由氮气用配管89而导入的氮气加压。通过打开控制阀41、42而对显影液原液贮存容器91内及显影液新液贮存容器92内的补充液进行压力输送。在向显影液原液贮存容器(补充液贮存容器)91导入氮气的氮气用配管89配备有控制阀46,在向显影液新液贮存容器(补充液贮存容器)92导入氮气的氮气用配管89配备有控制阀47。控制阀46、47根据显影液原液贮存容器91内及显影液新液贮存容器92内的液体的减少情况而被适当地开闭控制,从而维持显影液原液贮存容器91内及显影液新液贮存容器92内的内压。在配管81的显影液原液贮存容器91侧及配管82的显影液新液贮存容器92侧具备阀门48及49。阀门48、49通常始终打开,但在显影液原液贮存容器91及显影液新液贮存容器92内变空时,将阀门48、49关闭,并更换为充满补充液的新的显影液原液贮存容器91及显影液新液贮存容器92。

这样一来,tmah水溶液的碱成分浓度被浓度管理为2.38%,溶解树脂浓度被浓度管理为规定的管理值以下。浓度管理例如通过pid控制(proportional-integral-differentialcontrol)等而进行。

在补充液供给用的配管81、82、83设有累计流量计51、52、53。累计流量计51、52、53对经由补充液供给用的配管81、82、83而供给的补充液的累计流量进行测定。由药液管理机构(显影液管理装置)2供给的补充液在通过了累计流量计51、52、53之后,在合流配管80合流,并经由循环管路185而向显影液贮存槽161补给。累计流量计51、52、53优选具备通信功能。若具备通信功能,则能够将累计流量与网络连接。能够经由网络来把握所测定出的累计流量的测定值。

累计流量计51、52、53并不局限于直接与网络连接的情况,也可以间接地与网络连接。例如,累计流量计51、52、53也可以在药液管理机构(显影液管理装置)2内与担负药液管理机构(显影液管理装置)2的运算、控制的功能的计算机连接,且以药液管理机构(显影液管理装置)2与网络连接的方式间接地与网络连接。

另外,供累计流量计51、52、53连接的网络可以是工厂内的局域网,也可以是因特网等广域网。

如以上那样,根据本实施方式的基板处理系统,能够实现药液的浓度管理,基板制造者能够使用始终被管理为最佳状态的药液对基板进行处理。此时,利用在供给补充液的配管81、82、83中配备的累计流量计51、52、53,对所供给的补充液的累计流量进行计测。由于能够对补充液的累计流量进行计测,因此,能够计算出基于补充液的供给量的合理的费用。

图1所示的本实施方式的基板处理系统只不过是例示。本实施方式的具备基板处理机构、药液管理机构以及累计流量计的基板处理系统并不局限于该方式。在图1的药液管理机构(显影液管理装置)2中,描绘出各构成要素构成为一体的装置,但测定部210、补充液供给用的配管81、82、83等也可以分体形成。测定部210的内部结构等也不局限于图1,能够根据药液的种类等而采用各种方式。

总之,本实施方式的具备基板处理机构、药液管理机构以及累计流量计的基板处理系统的特征在于,具备:利用药液对基板进行处理的(各种方式的)基板处理机构1;通过测定在基板处理机构1中反复使用的药液的浓度并补给补充液而对药液的浓度进行管理的(各种方式的)药液管理机构2;输送由药液管理机构2向基板处理机构1的药液补给的补充液的配管81、82、83;以及在该配管81、82、83中对补充液的累计流量进行计测的累计流量计51、52、53。而且,期望该累计流量计具备通信功能。

作为具备通信功能的累计流量计,例如,已知有keyence公司的科里奥利式数字流量传感器fd-s系列等。通过安装通信单元,能够将测定出的累计流量数据等各种数据与个人计算机等进行通信。因此,能够远程地监视累计流量。

〔第二实施方式〕

图2是用于说明本实施方式的具备基板处理机构、药液管理机构、药液调制机构以及累计流量计的基板处理系统的示意图。

在图2中,利用药液调制机构(显影液调制装置)3,从成为药液的新液的原料的药液的原液(显影液原液)和纯水自动地调制出作为补充液而供给的药液的新液(显影液新液)并供给。药液调制机构(显影液调制装置)3经由新液用配管84与基板处理机构(显影工序设备)1连接。新液用配管84具备控制阀44和累计流量计54。

另外,图2的药液管理机构(显影液管理装置)2与补充液供给用的配管81、83、新液用配管84及设于这些配管的控制阀41、43、44描绘为分体结构。配管81、83、新液用配管84及设于这些配管的控制阀41、43、44未必一定是药液管理机构(显影液管理装置)2的内部部件。如图2所示,只要通过信号线等与各控制阀41、43、44连接为能够通过药液管理机构(显影液管理装置)2供给补充液,则药液管理机构(显影液管理装置)2也可以不与补充液供给用的配管81、83、新液用配管84及设于这些配管的控制阀41、43、44构成为一体。

关于显影液原液贮存容器(补充液贮存容器)91,也不需要用气体加压。在图2中,描绘出借助输送泵71输送显影液原液(补充液)的方式。

此外,关于基板处理机构(显影工序设备)1及药液管理机构(显影液管理装置)2的结构、动作,与第一实施方式相同,因此,省略其重复的说明。

药液调制机构(显影液调制装置)3主要具备:用于调制显影液的新液的新液调制槽301;预先贮存调制好的新液的新液贮存槽302;对药液调制机构(显影液调制装置)3的动作进行控制的控制装置(例如计算机)331。药液调制机构(显影液调制装置)3经由显影液原液供给配管86与显影液原液贮存容器91连接。对于显影液原液贮存容器91而言,将与药液调制机构(显影液调制装置)3连接的容器和与基板处理机构(显影工序设备)1连接的容器描绘为共用的一个容器,但也可以分别准备。另外,药液调制机构(显影液调制装置)3与纯水供给配管87连接。

新液调制槽301经由显影液原液供给配管86与显影液原液贮存容器91连接,接受显影液的原液的供给。新液调制槽301与纯水供给配管87连接,接受纯水的供给。在显影液原液供给配管86及纯水供给配管87配备有控制阀341、342。控制阀341、342由控制装置331控制动作。另外,在显影液原液供给配管86配备有用于输送显影液原液的输送泵72。

新液调制槽301具备浓度计311和液面计312。浓度计311及液面计312分别经由信号线351、352与控制装置331连接,将测定出的新液调制槽301的浓度信息、液面位置信息向控制装置331发送。另外,新液调制槽301和新液贮存槽302通过连通管380而连接。新液贮存槽302具备液面计322。液面计322通过信号线353与控制装置331连接,将新液贮存槽302的液面位置信息向控制装置331发送。新液贮存槽302也可以另外具备浓度计。

在调制显影液的新液时,利用控制装置331适当对控制阀341及342的动作进行控制,向新液调制槽301供给显影液的原液、纯水。在新液调制槽301中,将显影液的原液与纯水混合,而调制出规定浓度的显影液。浓度计311始终监视在新液调制槽301中调制出的显影液的浓度。

对新液调制槽301的浓度进行监视的结果是,例如,在调制出的显影液的浓度较稀时,利用控制装置331将配备于纯水供给配管87的控制阀342关闭。因此,显影液的原液的供给相对增加,新液调制槽301内的显影液的浓度上升。另外,例如,在调制出的显影液的浓度较浓时,利用控制装置331将配备于显影液原液供给配管86的控制阀341关闭,利用纯水稀释新液调制槽301内的显影液的浓度。控制装置331基于浓度计311的浓度信息使在新液调制槽301调制出的显影液成为规定的浓度。

在新液调制槽301内的液面位置低于规定的下限值时,控制装置331打开控制阀341、342,使显影液原液及纯水的供给量增加,实现液面位置的恢复。在新液调制槽301内的液面位置高于规定的上限值时,控制装置331关闭控制阀341及342,停止显影液原液及纯水的供给。关于新液贮存槽302的液面位置也同样。两槽的液面通过将调制出的新液向基板处理机构(显影工序设备)1供给而减少。控制装置331基于液面计312、322的液面位置信息来控制调制出的显影液的液量,以使两槽的液面位置处于规定的范围内。

新液调制槽301内的显影液的一部分被配备于循环管路381的循环泵371取出并再次返回,从而被循环搅拌。新液贮存槽302内的显影液也同样地,其一部分被配备于循环管路382的循环泵372取出并再次返回,从而被循环搅拌。

在新液调制槽301调制出的显影液通过连通管380向新液贮存槽302输送。根据新液贮存槽302内的显影液的液量减少的情况,新液调制槽301内的显影液自然被向新液贮存槽302输送。连通管380具备适当的内径和长度,具有使新液调制槽301内的浓度变动不对新液贮存槽302带来影响的浓度变动的水准化的效果。

贮存于新液贮存槽302内的显影液的新液在输送泵373的作用下经由新液用配管84向基板处理机构(显影工序设备)1输送。此时,利用配备于新液用配管84的累计流量计54对所供给的新液的累计流量进行计测。新液用配管84的控制阀343经由信号线354与控制装置331连接,控制阀343被控制装置331控制动作。在输送调制出的显影液的新液时,控制装置331使控制阀343打开。

例如,预先将控制装置331与基板处理机构(显影工序设备)1连接。在该情况下,在从基板处理机构(显影工序设备)1接收了新液供给请求信号时,控制装置331能够使控制阀343打开。另外,若预先将药液管理机构(显影液管理装置)2与控制装置331连接,则在药液管理机构(显影液管理装置)2补给新液作为补充液的时机,也能够从药液调制机构(显影液调制装置)3向基板处理机构(显影工序设备)1供给显影液的新液。在该情况下,由于在新液用配管84具有控制阀44,因此,也可以省略控制阀343。

图2所示的本实施方式的基板处理系统只不过是例示。本实施方式的具备基板处理机构、药液管理机构、药液调制机构以及累计流量计的基板处理系统并不局限于该方式。

总之,本实施方式的具备基板处理机构、药液管理机构、药液调制机构以及累计流量计的基板处理系统的特征在于,具备:利用药液对基板进行处理的(各种方式的)基板处理机构1;通过测定在基板处理机构1反复使用的药液的浓度并补给补充液而对药液的浓度进行管理的(各种方式的)药液管理机构2;自动地调制药液的新液的(各种方式的)药液调制机构3;输送由药液管理机构2向基板处理机构1的药液补给的补充液的配管81、83、新液用配管84;在该配管81、83、新液用配管84中对补充液的累计流量进行计测的累计流量计51、53、54(有时也省略纯水供给用的配管83的累计流量计53)。而且,期望这些累计流量计具备通信功能。

〔第三实施方式〕

图3是用于说明本实施方式的具备基板处理机构、药液管理机构、药液调制机构、药液再生机构以及累计流量计的基板处理系统的示意图。

在图3中,利用药液再生机构(显影液再生装置)4将在基板处理机构(显影工序设备)1使用后的药液再生为能够再利用。由药液再生机构(显影液再生装置)4再生后的再生液(再生显影液)作为补充液之一向基板处理机构(显影工序设备)1供给。药液再生机构(显影液再生装置)4经由再生液用配管85与基板处理机构(显影工序设备)1连接。再生液用配管85具备控制阀45和累计流量计55。

另外,与第二实施方式同样,图3的药液管理机构(显影液管理装置)2是与控制阀41、43、44、45、配管81、83、新液用配管84、再生液用配管85分体设置的方式。关于显影液原液贮存容器91,也与第二实施方式同样,是利用输送泵71、72输送显影液的原液的方式。

此外,关于基板处理机构(显影工序设备)1、药液管理机构(显影液管理装置)2、及药液调制机构(显影液调制装置)3的结构、动作,与第一及第二实施方式相同,因此,省略其重复的说明。

药液再生机构(显影液再生装置)4主要具备:从使用后的显影液去除不需要物质而使显影液再生的过滤器461、462、463;预先贮存再生液的再生液贮存槽493;对药液再生机构(显影液再生装置)4的动作进行控制的控制装置(例如计算机)431。药液再生机构(显影液再生装置)4经由使用完毕显影液输送配管88与用于贮存从基板处理机构(显影工序设备)1废弃(排出)了的显影液的使用完毕显影液贮存容器99连接。在使用完毕显影液输送配管88设有输送泵73,将使用完毕显影液贮存容器99内的显影液向药液再生机构(显影液再生装置)4输送。

过滤器461、462、463与使用完毕显影液输送配管88连接,对从基板处理机构(显影工序设备)1废弃(排出)的显影液进行输送。过滤器461、462、463将显影液中的不需要物质、例如在显影液中悬浮的抗蚀剂残渣等去除。由过滤器461、462、463再生后的显影液贮存于再生液贮存槽493。

贮存于再生液贮存槽493的再生液在输送泵471的作用下通过控制阀441向将药液再生机构(显影液再生装置)4与基板处理机构(显影工序设备)1连接的再生液用配管85输送,并经由再生液用配管85向基板处理机构(显影工序设备)1输送。此时,利用配备于再生液用配管85的累计流量计55对所供给的再生液的累计流量进行计测。

控制阀441及输送泵471分别通过信号线451、452与控制装置431连接。控制阀441及输送泵471被控制装置431控制动作。在输送再生液时,控制装置431驱动输送泵471而使控制阀441打开。

例如,预先将控制装置431与基板处理机构(显影工序设备)1连接。在该情况下,在从基板处理机构(显影工序设备)1接收了新液供给请求信号时,控制装置431能够使控制阀441打开。另外,若预先将药液管理机构(显影液管理装置)2与控制装置431连接,则在药液管理机构(显影液管理装置)2补给再生液作为补充液的时机,也能够从药液再生机构(显影液再生装置)4向基板处理机构(显影工序设备)1供给再生液。在该情况下,由于在再生液用配管85具有控制阀45,因此,也可以省略控制阀441。

图3所示的本实施方式的基板处理系统只不过是例示。本发明的具备基板处理机构、药液管理机构、药液调制机构、药液再生机构以及累计流量计的基板处理系统并不局限于该方式。

使药液再生所使用的原理并不局限于基于过滤器的过滤。例如,可以代替基于过滤器的过滤,而使用晶析、电析、膜分离等。期望根据药液、应分离的不需要物质的性质等,适当使用基于合适的原理的设备。

另外,在图3中,描绘了并列地连接有三个过滤器的方式,但过滤器的个数不局限于三个。也可以为一个。过滤器由于使用而随时间的变化有时发生堵塞,因此,考虑到那时的维修的情况,期望并列地配备多个过滤器。

总之,本实施方式的具备基板处理机构、药液管理机构、药液调制机构、药液再生机构以及累计流量计的基板处理系统的特征在于,具备:利用药液对基板进行处理的(各种方式的)基板处理机构1;通过测定在基板处理机构1反复使用的药液的浓度并补给补充液而对药液的浓度进行管理的(各种方式的)药液管理机构2;自动地调制药液的新液的(各种方式的)药液调制机构3;将使用后的药液再生为能够再利用的(各种方式的)药液再生机构4;输送由药液管理机构2向基板处理机构1的药液补给的补充液的配管81、83、新液用配管84、再生液用配管85;设于该配管81、83、新液用配管84、再生液用配管85且对补充液的累计流量进行计测的累计流量计51、53~55(也有时省略纯水供给用的配管83的累计流量计53)。而且,期望这些累计流量计具备通信功能。

〔第四实施方式〕

图4是用于说明本实施方式的具备基板处理机构、药液管理机构、药液再生机构以及累计流量计的基板处理系统的示意图。

在图4中,利用药液再生机构(显影液再生装置)4准备作为补充液而供给的药液的再生液(再生显影液)。即,将在基板处理机构(显影工序设备)1使用后的药液再生为能够再利用,并作为再生液向基板处理机构(显影工序设备)1供给。此时,利用累计流量计55对所供给的再生液的累计流量进行计测。

本实施方式是在第一实施方式(图1)中加入在第三实施方式(图3)中说明的药液再生机构(显影液再生装置)4而成。关于基板处理机构(显影工序设备)1、药液管理机构(显影液管理装置)2、药液再生机构(显影液再生装置)4、及其他的本实施方式的构成部件,与第一实施方式及第三实施方式相同,因此,省略其重复的说明。

图4所示的本实施方式的基板处理系统只不过是例示。本实施方式的具备基板处理机构、药液管理机构、药液再生机构以及累计流量计的基板处理系统不局限于该方式。

总之,本实施方式的具备基板处理机构、药液管理机构、药液再生机构以及累计流量计的基板处理系统的特征在于,具备:利用药液对基板进行处理的(各种方式的)基板处理机构1;通过测定在基板处理机构1反复使用的药液的浓度并补给补充液而对药液的浓度进行管理的(各种方式的)药液管理机构2;将使用后的药液再生为能够再利用的(各种方式的)药液再生机构4;输送由药液管理机构2向基板处理机构1的药液补给的补充液的配管81、82、83、再生液用配管85;在该配管81、82、83、再生液用配管85中对补充液的累计流量进行计测的累计流量计51、52、53、55(也有时省略纯水供给用的配管83的累计流量计53)。而且,期望这些累计流量计具备通信功能。

〔第五实施方式〕

为了实现提供将药液调制为新液而供给这样的服务的商业,能测定调制出的新液的供给量的、配备于新液的供给配管的累计流量计是不可或缺的。图5是用于说明本实施方式的具备基板处理机构、药液调制机构以及累计流量计的基板处理系统的示意图。

在图5中,由药液调制机构3新调制出的药液的新液经由新液用配管84向基板处理机构1供给。此时,利用配备于新液用配管84的累计流量计54对所供给的新液的累计流量进行计测。

本实施方式的基板处理机构1、药液调制机构3的构成构件、其动作等与至此为止说明过的实施方式相同。在此,省略其重复的说明。

在本实施方式中,优选预先将控制装置331与基板处理机构1连接。在从基板处理机构1接收了新液供给请求信号时(例如,在由基板处理机构1的液面计163测定出的显影液贮存槽161的液面较低的情况下等),控制装置331能够使控制阀343打开。由此,能够向基板处理机构1供给显影液的新液。

图5所示的本实施方式的基板处理系统只不过是例示。本实施方式的具备基板处理机构、药液调制机构以及累计流量计的基板处理系统并不局限于该方式。

总之,本实施方式的具备基板处理机构、药液调制机构以及累计流量计的基板处理系统的特征在于,具备:利用药液对基板进行处理的(各种方式的)基板处理机构1;自动地调制药液的新液的(各种方式的)药液调制机构3;输送从药液调制机构3向基板处理机构1供给的新液的新液用配管84;在该新液用配管84中对新液的累计流量进行计测的累计流量计54。而且,期望该累计流量计具备通信功能。

〔第六实施方式〕

为了实现提供将使用后的药液再生为能够再利用的再生液并供给这样的服务的商业,能测定再生后的再生液的供给量的、配备于再生液的供给配管的累计流量计是不可或缺的。图6是用于说明本实施方式的具备基板处理机构、药液再生机构以及累计流量计的基板处理系统的示意图。

在图6中,利用药液再生机构4将在基板处理机构1使用后的药液再生为能够再利用。由药液再生机构4再生后的再生液经由再生液用配管85向基板处理机构1供给。此时,利用配备于再生液用配管85的累计流量计55对所供给的新液的累计流量进行计测。

本实施方式的基板处理机构1、药液再生机构4的构成构件、其动作等与至此为止说明过的实施方式相同。在此,省略其重复的说明。

在本实施方式中,优选预先将控制装置431与基板处理机构1连接。在从基板处理机构1接收了补充液供给请求信号时(例如,在由基板处理机构1的液面计163测定出的显影液贮存槽161的液面较低的情况下等),控制装置431能够使控制阀441打开。由此,能够向基板处理机构1供给显影液的再生液。

图6所示的本实施方式的基板处理系统只不过是例示。本实施方式的具备基板处理机构、药液再生机构以及累计流量计的基板处理系统并不局限于该方式。

总之,本实施方式的具备基板处理机构、药液再生机构以及累计流量计的基板处理系统的特征在于,具备:利用药液对基板进行处理的(各种方式的)基板处理机构1;将使用后的药液再生为能够再利用的(各种方式的)药液再生机构4;输送从药液再生机构4向基板处理机构1供给的再生液的再生液用配管85;在该再生液用配管85中对再生液的累计流量进行计测的累计流量计55。而且,期望该累计流量计具备通信功能。

〔第七实施方式〕

图7是用于说明具备具有通信功能的累计流量计的基板处理系统的示意图。

在图7中,描绘出通过信号线60将使用图3说明过的第三实施方式的基板处理系统中的累计流量计51、53、54、55与网络直接连接的方式。基板处理系统并不局限于此。基板处理系统自身可以是在从第一实施方式至第六实施方式的各实施方式中说明那样的、任一方式的基板处理系统。总之,基板处理系统具备具有通信功能的累计流量计。

在本实施方式的基板处理系统中,由于累计流量计具有通信功能,因此,能够将累计流量计与网络直接连接。能够经由网络监视累计流量计所计测的累计流量。

〔第八实施方式〕

图8是用于说明具备具有通信功能的累计流量计的另一基板处理系统的示意图。

在图8中,通过信号线66将使用图1说明过的第一实施方式的基板处理系统中的累计流量计51、52、53与药液管理机构2连接,药液管理机构2经由信号线67与网络连接。即,累计流量计51、52、53经由药液管理机构2间接地与网络连接。

药液管理机构2具备运算控制部225,该运算控制部225基于由测定部测定出的测定值来运算药液的浓度,并适当对控制阀41、42、43进行控制,以使得药液被管理为规定的浓度。运算控制部225例如是计算机等。若是计算机,则能够兼具运算功能和控制功能。运算控制部225具备:根据由测定部210的测定机构211、212取得的测定信号来运算药液的浓度的运算模块221;基于算出的药液的浓度向控制阀41、42、43发出控制信号以将药液管理为规定的浓度的控制模块231。运算模块221和控制模块231通过信号线259连接,从而交换运算出的浓度信息。

如本实施方式这样,累计流量计并不局限于直接与网络连接的情况,也可以间接地与网络连接。若累计流量计具有通信功能,则累计流量计还能与计算机等其他的具有通信功能的设备连接,从而能够间接地与网络连接。

〔第九实施方式〕

图9是用于说明具备具有通信功能的累计流量计的另一基板处理系统的示意图。

图9的基板处理系统具备对基板处理系统整体进行管理及控制的系统控制计算机31。系统控制计算机31分别经由信号线61、62、63、64与基板处理机构1的控制装置(计算机)131、药液管理机构2的运算控制部(计算机)225、药液调制机构3的控制装置(计算机)331、及药液再生机构4的控制装置(计算机)431连接。基板处理机构1的控制装置(计算机)131监视基板处理机构1的各部分的状况,对基板处理机构1整体进行控制,以使基板处理机构1顺利且适当地进行动作(省略了将基板处理机构1的控制装置(计算机)131与基板处理机构的各部连接的信号线等的图示)。

基板处理系统的系统控制计算机31也经由信号线65与累计流量计51、53、54、55连接。系统控制计算机31还经由信号线69与网络连接。

系统控制计算机31与基板处理机构1、药液管理机构2、药液调制机构3、药液再生机构4连接,因此,能够把握各装置的状态。系统控制计算机31能够基于药液的浓度信息、装置的动作信息等对系统整体进行控制,以使基板处理系统顺利地进行动作。另外,系统控制计算机31与累计流量计51、53、54、55等均连接,因此,与药液的浓度信息同样地,还能收集所供给的各种补充液的累计流量的信息等。而且,由于系统控制计算机31与网络连接,因此,以累计流量为代表,能够在网络上监视收集到的各种信息。

如在从第七实施方式至第九实施方式说明过的那样,若累计流量计具有通信功能,则无论直接方式还是间接方式,都能够将累计流量计与网络连接。能够在网络上远程监视向基板处理机构1供给的补充液的供给量(累计流量)。即使不来到基板制造者的工厂对累计流量计进行查表,也能够计算出基于补充液的供给量(累计流量)产生的合理的基板处理费用。

另外,供累计流量计连接的网络可以是工厂内的局域网,也可以是因特网等广域网。

作为具备通信功能的累计流量计,例如,已知有keyence公司的科里奥利式数字流量传感器fd-s系列等。通过安装通信单元,能够将测定出的累计流量数据等各种数据与个人计算机等进行通信。因此,能够远程地监视累计流量。

〔第十实施方式〕

接下来,对利用了将具备通信功能的累计流量计与服务器系统连接的网络的基板的处理费用计算系统进行说明。图10是具备基板制造者工厂511、512、513、514、515的累计流量计521、522、523、524、525和经由网络而连接的药液管理的服务提供者的服务器系统502的基板的处理费用计算系统5的示意图。

图10所示的本实施方式的基板的处理费用计算系统5具备:对药液进行管理的服务的服务提供者所具有的1台服务器系统502;经由网络501而连接且分别设置于基板制造者工厂511、512、513、514、515的具有通信功能的累计流量计521、522、523、524、525。

构成基板的处理费用计算系统5的累计流量计及服务器系统的数量并非局限于图10所记载的数量。本发明的基板的处理费用计算系统至少具备经由网络而连接的1台累计流量计以及1台服务器系统即可。

在图10中虽未详细图示,但至此为止在各实施方式中说明那样的基板处理系统在各工厂中运转,在各基板处理系统中,在基板处理机构连接有药液管理机构、药液调制机构、药液再生机构等。由此,能够向在基板处理机构反复使用的药液供给补充液而对药液进行管理。在用于向基板处理机构供给补充液的配管中设置有具有通信功能的累计流量计。累计流量计对向基板处理机构供给的补充液的供给量进行计测来作为累计流量。图10的累计流量计521、522、523、524、525示意性地描绘出各工厂中的累计流量计。各工厂的基板处理系统只要具备具有通信功能的累计流量计,则可以为至此为止说明过的任一实施方式的基板处理系统。当然,可以为提供供给新液的服务的商业所用的第五实施方式的基板处理系统,也可以为提供供给再生液的服务的商业所用的第六实施方式的基板处理系统。

作为具有通信功能的累计流量计,能够使用keyence公司的科里奥利式数字流量传感器fd-s系列等。能够经由因特网等网络远程地取得累计流量等的计测数据。

服务器系统502具备接收部503、存储部504及运算部505。另外,服务器系统502具备显示器506。服务器系统502分别向与网络501连接的累计流量计521、522、523、524、525依次发出测定数据的发送请求信号,以使这些累计流量计521、522、523、524、525发送累计流量的测定数据。累计流量计521、522、523、524、525根据发送请求信号而将累计流量的测定数据发送至服务器系统502。

这样一来,服务器系统502的接收部503从各累计流量计521、522、523、524、525取得累计流量的测定数据。此时,与累计流量的测定数据配合地,预先取得累计流量计的个体识别编号(所谓的装置id)和测定日时(即测定出的日期和时间)。也可以不是测定日时而是通信日时。

服务器系统502基于各累计流量计521、522、523、524、525的个体识别编号,按照每个累计流量计521、522、523、524、525将所取得的累计流量的计测值和测定日时追加到由存储器、硬盘等存储介质构成的存储部504,由此进行存储。

以规定的时间间隔(例如间隔一分钟或者间隔一小时)连续地重复从累计流量计取得测定数据的步骤,由此存储补充液的供给量的推移(即累计流量的历史信息)。

在服务器系统502的存储部504存储有各累计流量计521、522、523、524、525的累计流量的历史信息,因此能够把握各规定期间(例如一周或者一个月)内的补充液的供给量。例如在按照一个月来把握补充液的供给量的情况下,通过从本月的查表日时的累计流量减去前月的查表日时的累计流量,能够求出本月的补充液的供给量。

服务器系统502进而根据规定期间内的补充液的供给量来计算该规定期间的提供药液管理的服务所涉及的基板的处理费用。例如,在需要按照一个月来计算基板的处理费用的情况下,将如前所述求出的累计流量乘以例如补充液的每单位供给量的费用(单价)等,从而计算基板的处理费用。将基板的处理费用的计算式和计算所需要的常数等预先编程于服务器系统502的运算部505即可。

这样一来,药液管理的服务提供者能够按照规定期间向基板制造者请求基于补充液的累计流量而合理地算出的基板的处理费用。若服务器系统502与作为基板的处理费用的支付方的基板制造者的计算机通过网络连接,则基板的处理费用的请求也可以由服务器系统502自动地以电子的方式进行。在该情况下,服务器系统502被编程为以电子的方式自动制作出请求所算出的基板的处理费用的账单,并按照规定期间向基板制造者自动地电子发送该账单即可。

基板制造者通过支付基板的处理费用,完成了按照规定期间管理药液这样的服务提供。这样一来,实现了在利用网络远程地统一监视各处的药液的浓度管理所需要的补充液的供给量的同时计算提供药液的浓度管理的服务所涉及的基板处理费用这样的、基板的处理费用的计算方法。能够提供在经由网络远程地统一监视在各处为了药液的浓度管理而供给的补充液的累计流量的同时对药液的浓度进行管理这样的服务。

本实施方式的网络501并不局限于由设置于各个工厂的累计流量计构成的情况。例如,在规模大的工厂具有多个制造生产线,也可以是将设置于该各个制造生产线的累计流量计连接后的规模比较小的局域网。也可以是将分别设置于世界各个国家/地区的工厂的累计流量计连接后的世界规模的网络(例如因特网等),例如,某一累计流量计设置于中国大陆的工厂,某一累计流量计设置于中国台湾的工厂,某一累计流量计设置于韩国的工厂,另外,某一累计流量计设置于日本的工厂。

以上,参照附图对各实施方式说明过的内容也能够同样实施于在半导体或液晶显示器基板的制造工序中使用的各种药液。

根据本发明,基板制造者无需承担购入浓度管理装置或药液再生装置、或者使它们运转或对它们进行维持管理的负担,仅通过支付基板的处理费用,就能够使用被管理为所希望的浓度的药液,能够得到新液、再生液而进行使用。因此,基板制造者能够享受与装置的购入或维持管理所涉及的成本的削减、药液调配或废液处理所涉及的成本的削减、生产线的运转率或成品率的提高、所制造的基板的品质的提高等相伴的多种经济优点。

根据本发明,服务提供者通过能够由本发明实现的商业方法,与销售装置的情况相比能够获得持续且稳定的收益。另外,根据本发明,能够提供对于该新的商业方法的实现来说不可或缺的基板处理系统、基板的处理费用计算系统。根据本发明,还能够通过与网络连接的服务器系统远程地统一监视在各使用者的工厂中使用的累计流量计。

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