技术总结
本实用新型公开了一种扫描聚焦系统，其特征在于，所述系统包括：电子源、电子加速结构、聚焦结构、偏转结构、电子减速结构和高压控制结构；其中，所述电子源，用于产生电子束；所述电子加速结构，用于对所述电子源产生的电子束进行加速；所述聚焦结构，用于对加速后的电子束进行聚焦；所述偏转结构，用于对聚焦后的电子束进行偏转扫描；所述电子减速结构，用于产生一减速场，对经偏转扫描后的电子束进行减速；所述高压控制结构，用于控制所述电子源、所述电子加速结构和所述电子减速结构的电压。
技术研发人员：李帅;何伟;王鹏
受保护的技术使用者：聚束科技（北京）有限公司
文档号码：201720209843
技术研发日：2017.03.06
技术公布日：2017.09.08