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用于在基板上形成线结构的自下而上法的制作方法
文档序号:17118722
发布日期:2019-03-15 23:35
阅读:
来源:国知局
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用于在基板上形成线结构的自下而上法的制作方法
技术特征:
技术总结
提供了一种用于在基板上形成结构的方法。该方法包括:将流体沉积到基板上以便限定湿润区域,该流体包含可电性极化的纳米粒子;使用第一电极和第二电极向该区域上的流体施加交变电场,使得多个纳米粒子被聚集以形成从第一电极朝向第二电极延伸的伸长结构;以及移除该流体使得该伸长结构留存在基板上。
技术研发人员:
菲利普·格拉内克;兹比格涅夫·罗齐内克
受保护的技术使用者:
XTPL股份有限公司
技术研发日:
2017.03.21
技术公布日:
2019.03.15
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