本发明涉及液体供给装置以及液体供给方法。
背景技术：
CMP(Chemical Mechanical Polishing：化学机械抛光)装置具有：抛光装置，其用于对形成有半导体芯片的半导体基板的表面进行抛光；和清洗装置，其用于一边对利用抛光装置抛光后的半导体基板供给清洗药液、一边进行清洗。该清洗装置通过对药液混合DIW(De-Ionized Water：去离子水)等稀释水而制成清洗药液(稀释的药液)，并使用清洗药液进行半导体基板的清洗(例如参照专利文献1)。
在使用清洗药液的清洗装置中，以往使用测量液体的流量并基于测量值控制流量的CLC(Closed Loop Controller：闭环控制器)。能够通过该CLC控制药液与DIW的流量，并以恒定比率将稀释的药液向清洗装置供给。
作为CLC在内部具备的流量计，一般使用差压式流量计(孔板流量计)。差压式流量计是在流体通过的路径上配置孔板，并基于差压测定该流体的体积流量(流速)。差压式流量计的测定范围即通过CLC可控制的流量范围成为在构造上根据孔板的直径预先确定的范围，例如从30ml/min至300ml/min。另外，例如在具备超声波式流量计的CLC中，该可控制的流量范围也设定为规定的范围。
在现有的清洗药液供给装置中，在因工序方法的变更等而变更清洗药液的稀释比率、或变更清洗药液的供给流量时，存在所需的药液以及DIW的流量偏离通过现已选定的CLC可控制的流量范围的情况。在该情况下，通过更换为具有可控制的流量范围的CLC，由此应对工序方法的变更。
专利文献1：日本特开2009-54959号公报
通过CLC可控制的流量范围成为上述那样确定的范围。然而，CLC实际能够向清洗装置供给的流量因CLC的内侧压力与外侧压力的差压而变化。即，CLC的上述可控制的流量范围是差压足够大时最大的流量范围，在差压不足的情况下，只能向清洗装置供给比最大流量少的流量。
在现有的清洗药液供给装置中，在伴随工序方法的变更等而变更CLC时，基于可控制的流量范围选择出CLC。在CLC的内侧压力与外侧压力的差压足够大时，能够用所选择的CLC将预期的流量的清洗药液向清洗装置供给。然而，如上述那样，在差压不足的情况下，即便选择具有适当的流量范围的CLC，也无法将预期流量的清洗药液供给至清洗装置。作为CLC无法供给预期流量的原因，考虑也可能是CLC发生故障。因此在无法供给预期的流量的情况下，无法判断是CLC发生故障还是差压不足。
技术实现要素：
本发明是鉴于上述问题所做出的。其目的之一在于提供能够判断CLC是否能适当使用的液体供给装置。
根据本发明的一个方式，提供一种液体供给装置，用于将来自液体源的液体向清洗装置供给。该液体供给装置具有：流量控制装置，其测量来自所述液体源的液体的流量，并基于测量值控制流量；内侧压力计，其设置在所述液体源与所述流量控制装置之间；以及外侧压力计，其设置在所述流量控制装置与所述清洗装置之间。
根据本发明的另一方式，提供一种液体供给方法，用于在液体供给装置中将来自液体源的液体向清洗装置供给，所述液体供给装置具备测量来自所述液体源的流量并基于测量值控制流量的流量控制装置。该液体供给方法具有以下工序：流量控制工序，测量来自所述液体源的流量，并基于测量值控制流量；第一测定工序，测定流入所述流量控制装置的液体的压力；以及第二测定工序，测定从所述流量控制装置流出的液体的压力。
附图说明
图1是表示第一实施方式的药液供给装置的简略主视图。
图2是第一实施方式的药液供给装置的药液供给流程图。
图3是表示第二实施方式的药液供给装置的简略主视图。
图4是第二实施方式的药液供给装置的药液供给流程图。
附图标记说明：10…DIW供给源；20…第一药液供给源；30…第二药液供给源；52…压力计；62…压力计；74…压力计；75…压力计；76…压力计；78…合流部；79…合流部；100…药液供给装置；111…CLC；121…CLC；131…CLC；200…清洗装置
具体实施方式
以下，参照附图说明本发明的实施方式。在以下说明的附图中，对相同或相当的构成要素标注相同的附图标记，并省略重复的说明。另外，以下作为液体供给装置的一个例子，对药液清洗装置进行说明，但不限定于此，本发明包含能够将液体向清洗装置供给的任意的液体供给装置。
＜第一实施方式＞
图1是表示第一实施方式的药液供给装置的简略主视图。本实施方式的药液供给装置构成为能够将酸性或者碱性的第一药液向清洗装置供给。如图1所示，药液供给装置100具有：壳体101、DIWCLC箱110、以及第一药液CLC箱120。DIWCLC箱110控制DIW(相当于稀释水的一个例子)的供给。第一药液CLC箱120控制第一药液的供给。
药液供给装置100还具备药液实用箱50，用于将来自第一药液供给源20(参照图2)的第一药液导入药液供给装置100。在图示的例子中，六个药液实用箱50设置于药液供给装置100，这是一个例子，药液实用箱50的数量可根据清洗装置的规格适当变更。
DIWCLC箱110、第一药液CLC箱120以及药液实用箱50收纳于壳体101内。DIWCLC箱110构成为将来自后述的DIW供给源10的DIW向后述的第一直通式(in-line)混合器72(参照图2)供给。另外，DIWCLC箱110能够将DIW的流量控制为通过反馈控制所设定的流量。
第一药液CLC箱120构成为将来自第一药液供给源20的第一药液向后述第一直通式混合器72(参照图2)供给。另外，第一药液CLC箱120能够将第一药液的流量控制为通过反馈控制所设定的流量。药液供给装置100虽未图示，但具有用于输送DIW或第一药液的配管、阀以及压力计等。详细情况在图2中说明。
图2是第一实施方式的药液供给装置100的药液供给流程图。如图示那样，药液供给装置100构成为：将用于供给DIW的DIW供给源10(相当于稀释水供给源的一个例子)以及用于供给第一药液的第一药液供给源20分别经由配管而进行流体连通。另外，药液供给装置100构成为与清洗装置200进行流体连通。具体而言，药液供给装置100将DIW以及稀释后的第一药液(第一清洗药液)向清洗装置200供给。
清洗装置200具有：DIW清洗部210，其使用DIW对用抛光装置抛光后的半导体基板等清洗对象物进行清洗；药液清洗部220，其使用稀释后的第一药液(第一清洗药液)对用抛光装置抛光后的半导体基板等清洗对象物进行清洗。DIW清洗部210例如由超声波水清洗部或其他DIW清洗部等构成。药液清洗部220例如由辊式清洗部等构成。该DIW清洗部210与药液清洗部220共存于同一清洗槽230内。
药液供给装置100具备：第一直通式混合器72、第一药液CLC箱120以及DIWCLC箱110。第一直通式混合器72将第一药液与DIW混合而生成第一清洗药液。第一药液CLC箱120控制从第一药液供给源20向第一直通式混合器72供给的第一药液的流量。DIWCLC箱110控制从DIW供给源10向第一直通式混合器72供给的DIW的流量。
DIWCLC箱110具有第一DIW供给阀112和CLC111(相当于稀释水流量控制装置的一个例子)。第一DIW供给阀112切换从CLC111向第一直通式混合器72供给DIW的接通、断开。CLC111测量向第一直通式混合器72供给的DIW的流量，并基于该测量值控制流量。具体而言，CLC111基于测量出的DIW的流量来调节CLC111内部的控制阀的开度(反馈控制)，以使在CLC111内流动的DIW的流量成为预期的流量。DIWCLC箱110通过打开第一DIW供给阀112将DIW，由此向第一直通式混合器72供给。
第一药液CLC箱120具有第一药液供给阀122和CLC121(相当于药液流量控制装置的一个例子)。第一药液供给阀122切换从CLC121向第一直通式混合器72供给第一药液的接通、断开。CLC121测量经由第一药液供给阀122向第一直通式混合器72供给的第一药液的流量，并基于该测量值控制流量。具体而言，CLC121基于测量出的第一药液的流量来调节CLC121内部的控制阀的开度(反馈控制)，以使在CLC121内流动的第一药液的流量成为预期的流量。
另外，药液供给装置100具备药液实用箱50。药液实用箱50将来自第一药液供给源20的第一药液导入第一药液CLC箱120的CLC121。药液实用箱50设置在将第一药液供给源20与第一药液CLC箱120的CLC121连接的配管91上。药液实用箱50具备：手动阀53；第一药液入口阀51，其切换向CLC121供给第一药液的接通、断开；以及压力计52(相当于药液内侧压力计的一个例子)，其测量配管91内的流体压力。第一药液入口阀51例如由未图示的控制装置进行开闭控制。配管91与第一药液CLC箱120的CLC121连接，因此压力计52构成为测定CLC121的内侧(一次侧)的压力。换言之，压力计52测定流入CLC121的第一药液的压力。
药液供给装置100具备DIW供给配管81，该DIW供给配管81的一端与DIW供给源10连接，并且另一端与清洗装置200的DIW清洗部210连接。在DIW供给配管81设置有：DIW供给阀86、DIW调压器87以及DIW压力计88。DIW供给阀86通过开闭来控制DIW从DIW供给源10向DIW供给配管81的供给。DIW调压器87调节DIW从DIW供给配管81向DIW清洗部210的供给压力。DIW压力计88测量在DIW供给配管81的内部通过的DIW的压力。
在DIW供给配管81上的DIW供给阀86与DIW调压器87之间连接有DIW分支配管82的一端。DIW分支配管82的另一端与DIWCLC箱110的CLC111连接。在DIW分支配管82上设置有DIW压力调节器77和压力计76。第一DIW配管83的一端连接于CLC111。第一DIW配管83的另一端在合流部78处与后述的第一药液配管93连接，并与第一直通式混合器72进行流体连通。另外，如图示那样，合流部78是来自CLC111的DIW与来自CLC121的第一药液进行合流的点。第一DIW供给阀112设置于第一DIW配管83上，并在向第一直通式混合器72供给DIW时被控制开闭。
另外，在本实施方式的药液供给装置100中，压力计76(相当于稀释水内侧压力计的一个例子)设置于CLC111的内侧。具体而言，在图2的例子中，压力计76设置于DIW压力调节器77与CLC111之间。该压力计76测定流入CLC111的DIW的压力。
在第一药液CLC箱120的CLC121连接有与第一直通式混合器72进行流体连通的第一药液配管93。第一药液供给阀122设置于第一药液配管93上，并在向第一直通式混合器72供给第一药液时被控制开闭。另外，在第一直通式混合器72连接有一端与药液清洗部220连接的第一清洗药液配管96。在第一直通式混合器72的外侧(二次侧)设置有压力计74(相当于外侧压力计的一个例子)。来自DIWCLC箱110的CLC111的DIW与来自第一药液CLC箱120的CLC121的第一药液在合流部78合流，因此CLC111的外侧(二次侧)的压力与CLC121的外侧的压力相同。因此，该压力计74能够测定CLC111以及CLC121的外侧的压力。换言之，压力计74测定从CLC111以及CLC121流出的液体的压力。
DIWCLC箱110的CLC111以及第一药液CLC箱120的CLC121构成为：能够从未图示的控制装置接收表示规定的流量值的信号。基于该流量值控制CLC111以及CLC121的内部控制阀的开度。
接下来，说明在图2所示的药液供给装置100中将第一清洗药液向药液清洗部220供给的药液供给工序。在将第一清洗药液向药液清洗部220供给时，首先，打开药液实用箱50的第一药液入口阀51，并且打开手动阀53。通过第一药液CLC箱120的CLC121测量第一药液的流量，并基于该测量值控制流量。从第一药液供给源20经由CLC121以及合流部78向第一直通式混合器72供给规定流量的第一药液。
若打开DIW供给配管81上的DIW供给阀86，则将DIW从DIW供给源10向DIWCLC箱110的CLC111供给。CLC111测量DIW的流量，并基于该测量值控制流量。通过打开第一DIW供给阀112，从而从DIWCLC箱110经由合流部78向第一直通式混合器72供给DIW。第一药液与DIW在第一直通式混合器72中混合。由此生成的第一清洗药液经由第一清洗药液配管96向药液清洗部220供给。
在向药液清洗部220供给第一清洗药液时，压力计76、压力计52以及压力计74分别测定CLC111的内侧的压力、CLC121的内侧的压力以及CLC111和CLC121的外侧的压力。由此能够获得CLC111的内侧压力与外侧压力的差压、以及CLC121的内侧压力与外侧压力的差压。
如上述的那样，通过CLC111、121可控制的流量范围基于在内部具备的流量计的构造设定。然而，CLC111、121实际能够向清洗装置200供给的液体的流量，因CLC111、121的内侧压力与外侧压力的差压而变化。即，CLC111、121的可控制的流量范围是差压足够大时最大的流量范围，在差压不足的情况下，只能向清洗装置200供给比最大流量少的流量。
在现有的药液供给装置中，在伴随工序方法的变更等而变更CLC时，基于可控制的流量范围选择出CLC。因此在CLC的内侧压力与外侧压力的差压足够大时，能够通过所选择的CLC将预期的流量的清洗药液向清洗装置供给。然而，如上述的那样，在差压不足时，即便选择具有适当的流量范围的CLC，也无法将预期的流量的清洗药液向清洗装置供给。作为CLC无法供给预期的流量的原因，考虑也可能是CLC发生故障。因此在无法供给预期的流量的情况下，无法判断是CLC发生故障还是差压不足。
与此相对，在本实施方式中，如图2所示，能够获得CLC111的内侧压力与外侧压力的差压以及CLC121的内侧压力与外侧压力的差压。由此，假设在CLC111或者CLC121无法供给预期的流量的情况下，工作人员通过监视该差压，从而能够把握CLC111或CLC121是发生故障还是差压不足。
另外，通过预先取得CLC111的内侧压力与外侧压力的差压以及CLC121的内侧压力与外侧压力的差压，由此在伴随工序方法的变更等而变更CLC111或者CLC121时，能够容易地选择适当的CLC。具体而言，在可控制的流量范围不同的各种CLC中，可以根据在当前时刻实现的差压来选择能够供给预期的流量的CLC。另外，CLC作为其特性具有差压与可控制的流量范围的关系，该关系是预先得到的。
在本实施方式中，压力计74设置于第一直通式混合器72的二次侧，但不限定于此，只要是能够测定CLC111或者CLC121的外侧的压力的位置，则可以设置于任何位置。例如，压力计74可以设置于DIWCLC箱110的外侧或者第一药液CLC箱120的外侧等。
＜第二实施方式＞
图3是表示第二实施方式的药液供给装置的简略主视图。本实施方式的药液供给装置与第一实施方式所示的药液供给装置相比较，不同点在于使用两种药液。即，本实施方式的药液供给装置构成为：能够将例如作为碱性药液的第一药液与例如作为酸性药液的第二药液向清洗装置供给。因此第二实施方式的药液供给装置100除了具有图1所示的药液供给装置100的结构以外，还具有第二药液CLC箱130。第二药液CLC箱130控制第二药液的供给。另外，药液供给装置100具备药液实用箱60，用于将来自第二药液供给源30(参照图4)的第二药液导入药液供给装置100。
图4是第二实施方式的药液供给装置100的药液供给流程图。如图示那样，第二实施方式的药液供给装置100除了具备第一实施方式的药液供给装置100的结构以外，还具备供给第二药液的机构。具体而言，第二实施方式的药液供给装置100构成为：经由配管与用于供给第二药液的第二药液供给源30进行流体连通，并将稀释后的第二药液(第二清洗药液)向清洗装置200供给。
药液供给装置100具备第二直通式混合器73和第二药液CLC箱130。第二直通式混合器73将第二药液与DIW混合而生成第二清洗药液。第二药液CLC箱130控制从第二药液供给源30向第二直通式混合器73供给的第二药液的流量。
DIWCLC箱110具有第二DIW供给阀113。第二DIW供给阀113切换从CLC111向第二直通式混合器73供给DIW的接通、断开。CLC111测定向第一直通式混合器72或者第二直通式混合器73供给的DIW的流量，并基于该测定值控制流量。
DIWCLC箱110通过关闭第二DIW供给阀113并打开第一DIW供给阀112，由此将DIW向第一直通式混合器72供给。另一方面，DIWCLC箱110通过关闭第一DIW供给阀112并打开第二DIW供给阀113，由此将DIW向第二直通式混合器73供给。
第二药液CLC箱130具有第二药液供给阀132和CLC131(相当于药液流量控制装置的一个例子)。第二药液供给阀132切换从CLC131向第二直通式混合器73供给第二药液的接通、断开。CLC131测量向第二直通式混合器73供给的第二药液的流量，并基于该测量值控制流量。具体而言，CLC131基于测量出的第二药液的流量来调节CLC131内部的控制阀的开度(反馈控制)，以使在CLC131内流动的第二药液的流量成为预期的流量。
另外，药液供给装置100具备药液实用箱60。药液实用箱60将来自第二药液供给源30的第二药液导入第二药液CLC箱130的CLC131。药液实用箱60设置于将第二药液供给源30与第二药液CLC箱130的CLC131连接的配管92上。药液实用箱60具备：手动阀63；第二药液入口阀61，其切换向CLC131供给第二药液的接通、断开；以及压力计62(相当于药液内侧压力计的一个例子)，其测量配管92内的流体压力。第二药液入口阀61例如由未图示的控制装置控制开闭。配管92与第二药液CLC箱130的CLC131连接，因此压力计62构成为测定CLC131的内侧(第一侧)的压力。换言之，压力计62测定流入CLC131的第二药液的压力。
在DIWCLC箱110的CLC111连接有与第二直通式混合器73进行流体连通的第二DIW配管84。在CLC111连接有第二DIW配管84的一端。第二DIW配管84的另一端在合流部79处与后述的第二药液配管94连接，并与第二直通式混合器73进行流体连通。另外如图示那样，合流部79是来自CLC111的DIW与来自CLC131的第二药液进行合流的点。第二DIW供给阀113设置于第二DIW配管84上，并在向第二直通式混合器73供给DIW的情况下被控制开闭。
在第二药液CLC箱130的CLC131连接有与第二直通式混合器73进行流体连通的第二药液配管94。第二药液供给阀132设置于第二药液配管94上，并在向第二直通式混合器73供给第二药液的情况下被控制开闭。在第二直通式混合器73连接有一端与药液清洗部220连接的第二清洗药液配管97。在第二直通式混合器73的外侧(二次侧)设置有压力计75(相当于外侧压力计的一个例子)。来自DIWCLC箱110的CLC111的DIW与来自第二药液CLC箱130的CLC131的第二药液在合流部79合流，因此CLC111的外侧(二次侧)的压力与CLC131的外侧的压力相同。因此，该压力计75能够测定CLC111以及CLC131的外侧(二次侧)的压力。换言之，压力计75测定从CLC111以及CLC131流出的液体的压力。
第二药液CLC箱130的CLC131构成为：能够从未图示的控制装置接收表示规定的流量值的信号。基于该流量值控制CLC131的内部控制阀的开度。
接下来，说明将图4所示的药液供给装置100中的第一清洗药液以及第二清洗药液向药液清洗部220供给的药液供给工序。在将第一清洗药液向清洗装置200的药液清洗部220供给时，首先，打开药液实用箱50的第一药液入口阀51，并且打开手动阀53。通过第一药液CLC箱120的CLC121来调节第一药液的流量，从第一药液供给源20向第一直通式混合器72供给规定流量的第一药液。
若打开DIW供给配管81上的DIW供给阀86，则将DIW从DIW供给源10向DIWCLC箱110的CLC111供给。通过打开第一DIW供给阀112，从而从DIWCLC箱110向第一直通式混合器72供给DIW。此时，预先关闭第二DIW供给阀113。
供给至第一直通式混合器72的第一药液与DIW混合。由此生成的第一清洗药液经由第一清洗药液配管96向药液清洗部220供给。在第一清洗药液向药液清洗部220供给期间，停止第二药液向第二直通式混合器73的供给。具体而言，第二药液CLC箱130的第二药液供给阀132被关闭。由此不向药液清洗部220供给第二清洗药液，仅供给第一清洗药液。
在向药液清洗部220供给第一清洗药液时，压力计76、压力计52以及压力计74分别测定CLC111的内侧的压力、CLC121的内侧的压力以及CLC111和CLC121的外侧的压力。由此能够获得CLC111的内侧压力与外侧压力的差压、以及CLC121的内侧压力与外侧压力的差压。
在将第二清洗药液向清洗装置200的药液清洗部220供给时，首先，打开药液实用箱60的第二药液入口阀61，并打开手动阀63。通过第二药液CLC箱130的CLC131来调节第二药液的流量，从而从第二药液供给源30向第二直通式混合器73供给规定流量的第二药液。
若打开DIW供给配管81上的DIW供给阀86，则将DIW从DIW供给源10向DIWCLC箱110的CLC111供给。通过打开第二DIW供给阀113，从而从DIWCLC箱110向第二直通式混合器73供给DIW。此时，预先关闭第一DIW供给阀112。
第二药液与DIW在第二直通式混合器73混合。由此生成的第二清洗药液经由第二清洗药液配管97向药液清洗部220供给。在第二清洗药液向药液清洗部220供给期间，停止第一药液向第一直通式混合器72的供给。具体而言，第一药液CLC箱120的第一药液供给阀122被关闭。由此不向药液清洗部220供给第一清洗药液，仅供给第二清洗药液。
在向药液清洗部220供给第二清洗药液时，压力计76、压力计62以及压力计75分别测定CLC111的内侧的压力、CLC131的内侧的压力以及CLC111和CLC131的外侧的压力。由此，能够获得CLC111的内侧压力与外侧压力的差压、以及CLC131的内侧压力与外侧压力的差压。
如上述那样，在如第二实施方式那样使用多个药液的药液供给装置100中，也能够分别获得CLC111、121、131的内侧压力与外侧压力的差压。因此工作人员通过监视CLC111、121、131的内侧压力与外侧压力的差压，从而与第一实施方式同样，能够把握CLC111、121、131是发生故障还是差压不足。另外，通过预先取得CLC111、121、131的内侧压力与外侧压力的差压，在伴随工序方法的变更而变更CLC111、121、131的任一个时，能够容易地选择适当的CLC。
以上，对本发明的实施方式进行了说明，但上述本发明的实施方式是为了容易理解本发明，而不是对本发明进行限定。本发明不脱离其主旨能够进行变更、改进，并且当然在本发明中包含其等价物。另外，在能够解决上述课题的至少一部分的范围内或者发挥效果的至少一部分的范围内，能够将权利要求书以及说明书记载的各构成要素任意地组合或者省略。
以下记载本说明书公开的几个方式。
根据第一方式，提供用于将来自液体源的液体向清洗装置供给的液体供给装置。该液体供给装置具有：流量控制装置，其测量来自所述液体源的液体的流量，并基于测量值控制流量；内侧压力计，其设置在所述液体源与所述流量控制装置之间；以及外侧压力计，其设置在所述流量控制装置与所述清洗装置之间。
根据第一方式，能够获得流量控制装置的内侧的压力与外侧的压力的差压。由此假设在流量控制装置无法供给预期的流量的情况下，工作人员通过监视该差压，能够把握流量控制装置是发生故障还是差压不足。另外，在伴随工序方法的变更而变更流量控制装置时，能够容易地选择适当的流量控制装置。
根据第二方式，在第一方式的液体供给装置中，所述液体源具有稀释水供给源和药液供给源，所述流量控制装置具有：稀释水流量控制装置，其测量来自所述稀释水供给源的稀释水的流量，并基于测量值控制流量；以及药液流量控制装置，其测量来自所述药液供给源的药液的流量，并基于测量值控制流量，所述液体供给装置还具有合流部，该合流部将来自所述稀释水流量控制装置的所述稀释水和来自所述药液流量控制装置的所述药液合流，所述内侧压力计具有设置在所述药液供给源与所述药液流量控制装置之间的药液内侧压力计，所述外侧压力计设置在所述药液流量控制装置与所述清洗装置之间或者所述稀释水流量控制装置与所述清洗装置之间。
根据第二方式，通过药液内侧压力计能够测定药液流量控制装置的内侧压力。另外，来自稀释水流量控制装置的稀释水与来自药液流量控制装置的药液在合流部合流，因此从稀释水流量控制装置流出的稀释水的压力与从药液流量控制装置流出的药液的压力相同。因此，通过将外侧压力计设置于药液流量控制装置或者稀释水流量控制装置与清洗装置之间，从而能够测定药液流量控制装置的外侧压力。由此能够取得药液流量控制装置的内侧压力与外侧压力的差压。
根据第三方式，在第二方式的液体供给装置中，所述内侧压力计还具有设置在所述稀释水供给源与所述稀释水流量控制装置之间的稀释水内侧压力计。
根据第三方式，能够测定稀释水流量控制装置的内侧压力。由于稀释水流量控制装置的外侧压力能够通过外侧压力计来测定，因此能够获得稀释水流量控制装置的内侧压力与外侧压力的差压。
根据第四方式，提供一种液体供给方法，用于在液体供给装置中将来自液体源的液体向清洗装置供给，所述液体供给装置具备测量来自所述液体源的流量并基于测量值控制流量的流量控制装置。该方法具有以下工序：流量控制工序，测量来自所述液体源的流量，并基于测量值控制流量；第一测定工序，测定流入所述流量控制装置的液体的压力；以及第二测定工序，测定从所述流量控制装置流出的液体的压力。
根据第四方式，能够获得流量控制装置的内侧的压力与外侧的压力的差压。由此，在假设流量控制装置无法供给预期的流量的情况下，工作人员通过监视该差压，能够把握流量控制装置是发生故障还是差压不足。另外，在伴随工序方法的变更而变更流量控制装置时，能够容易地选择适当的流量控制装置。
根据第五方式，在第四方式的液体供给方法中，所述流量控制装置具有：稀释水流量控制装置，其测量来自稀释水供给源的稀释水的流量，并基于测量值控制流量；以及药液流量控制装置，其测量来自药液供给源的药液的流量，并基于测量值控制流量，所述流量控制工序具有以下工序：稀释水流量控制工序，测量来自所述稀释水供给源的所述稀释水的流量，并基于测量值控制流量；以及药液流量控制工序，测量来自所述药液供给源的所述药液的流量，并基于测量值控制流量，所述液体供给方法还具有使流量被控制的所述稀释水与流量被控制的所述药液合流的工序，所述第一测定工序具有对流入所述药液流量控制装置的药液的压力进行测定的工序，所述第二测定工序具有对从所述药液流量控制装置流出的药液、从所述稀释水流量控制装置流出的稀释水、以及所述药液与所述稀释水的混合液的任一个的压力进行测定的工序。
根据第五方式，能够测定药液流量控制装置的内侧压力。另外，由于稀释水与药液合流，因此从稀释水流量控制装置流出的稀释水的压力与从药液流量控制装置流出的药液的压力相同。因此，通过测定从药液流量控制装置流出的药液、从稀释水流量控制装置流出的稀释水以及药液与稀释水的混合液中的任一个的压力，就能够测定药液流量控制装置的外侧压力。由此能够取得药液流量控制装置的内侧压力与外侧压力的差压。
根据第六方式，在第五方式的液体供给方法中，所述第一测定工序具有对流入所述稀释水流量控制装置的所述稀释水的压力进行测定的工序。
根据第六方式，能够测定稀释水流量控制装置的内侧压力。稀释水流量控制装置的外侧压力在第二测定工序中测定，因此能够获得稀释水流量控制装置的内侧压力与外侧压力的差压。