图像传感器结构及其制备方法与流程

文档序号:17321169发布日期:2019-04-05 21:32阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供一种图像传感器结构及其制备方法,制备包括如下步骤:提供基底结构;于基底结构上形成绝缘层;于绝缘层中形成若干个间隔排布的隔离槽结构;于形成有隔离槽结构的绝缘层上形成封口层,封口层至少封闭隔离槽结构的开口以使得于隔离槽结构中形成空气腔;以及至少于相邻空气腔之间的绝缘层中形成滤光结构。通过上述方案,本发明的图像传感器结构及其制备方法,在滤光结构之间形成空气腔结构,可以使入射光由光密介质进入光疏介质,从而在界面处形成全反射,进而有效的改善相互滤光结构之间接收的光的干扰,从而可以有效降低传感器的串扰,提高量子效率。

技术研发人员:刘斌武;张超
受保护的技术使用者:德淮半导体有限公司
技术研发日:2018.12.03
技术公布日:2019.04.05
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