一种局部镀银的半导体引线框架的制作方法

文档序号:15526724发布日期:2018-09-25 20:42阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种局部镀银的半导体引线框架,包括框架主体(7),其特征在于:若干个所述框架主体(7)相互连接,相邻的所述框架主体(7)之间均设置有连接孔(2),所述框架主体(7)的顶部设置有载片槽(5),所述载片槽(5)的两侧均设置有封装架(1),所述封装架(1)安装在框架主体(7)上,所述载片槽(5)的下方设置有流通凹孔(6),所述框架主体(7)的底部连接有散热片(10),所述流通凹孔(6)设置在散热片(10)的上方,所述载片槽(5)的四周均设置有若干个均匀分布的芯片脚焊接口(9),所述载片槽(5)的一侧设置有三根均匀分布的引脚(8),所述引脚(8)的一侧设置有定位孔(4),所述载片槽(5)的另一侧设置有两个对称的安装孔(3)。

2.根据权利要求1所述的一种局部镀银的半导体引线框架,其特征在于:所述引脚(8)上均安装有银质镀膜。

3.根据权利要求1所述的一种局部镀银的半导体引线框架,其特征在于:所述框架主体(7)的厚度为0.25mm-0.35mm。

4.根据权利要求1所述的一种局部镀银的半导体引线框架,其特征在于:所述散热片(10)通过散热硅脂粘连在框架主体(7)上。

5.根据权利要求1所述的一种局部镀银的半导体引线框架,其特征在于:所述引脚(8)与框架主体(7)为一体式结构。

6.根据权利要求1所述的一种局部镀银的半导体引线框架,其特征在于:所述散热片(10)的厚度为0.1mm-0.2mm。

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