一种用于滤波器生产的刻蚀装置的制作方法

本实用新型涉及滤波器生产领域，特别涉及一种用于滤波器生产的刻蚀装置。

背景技术：

滤波器是一种精密仪器，其上包含很多精密的电子部件，这些电子部件在加工过程中需要进行刻蚀。目前的刻蚀装置均是通过一个刻蚀头不断动态调整来对一整个电子部件进行刻蚀，这不可避免的带来了较大误差。

CN201410356255.1本发明公开了一种刻蚀装置及刻蚀方法。其中刻蚀装置包括：反应腔；晶圆固定装置，晶圆固定装置用于将晶圆固定在反应腔的顶部且晶圆的待刻蚀面朝向反应腔的底部；气体注入口，气体注入口设置在反应腔底部，用于向反应腔通入刻蚀气体；激励线圈，激励线圈环绕反应腔设置，用于将刻蚀气体激发成等离子体；以及偏压提供装置，偏压提供装置与晶圆固定装置相连，用于对晶圆固定装置中的晶圆施加偏压。本发明实施例的刻蚀装置不受刻蚀材料种类限制，无论刻蚀反应产物的挥发性高低均可用持续地进行刻蚀，具有刻蚀速率高、适用范围广、工艺成本低的优点。

上述专利在刻蚀时就是通过一个刻蚀头不断动态调整来对一整个电子部件进行刻蚀，因此在刻蚀过程中会产生较大误差。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种通过多刻蚀头对一整个电子部件进行分级刻蚀，克服单个刻蚀头刻蚀一整个电子部件产生的偏差问题的用于滤波器生产的刻蚀装置，以解决现有技术中导致的上述多项缺陷。

为实现上述目的，本实用新型提供以下的技术方案：一种用于滤波器生产的刻蚀装置，包括刻蚀主机、喷淋装置、激光定位刻蚀头、装置外壳、传送带、从动轮、主动轮、控制主机和伺服电机，刻蚀主机设置在装置外壳上，多个激光定位刻蚀头设置在装置外壳上，与刻蚀主机连接，喷淋装置设置在装置外壳上，从动轮和主动轮设置在装置外壳内部下端，传送带嵌套在从动轮和主动轮上，主动轮与伺服电机连接，控制主机独立设置，与刻蚀主机及伺服电机信号连接。

优选的，所述激光定位刻蚀头包括激光定位装置和等离子刻蚀头，激光定位装置设置在等离子刻蚀头上，激光定位装置与控制主机信号连接。

优选的，所述传送带包括传送履带和安置槽，多个安置槽等距设置在传送履带上。

优选的，所述安置槽为阶梯型结构，其外最外层为四方结构凹槽，中间层为内凹型四方结构凹槽，最内层为圆形结构凹槽。

优选的，所述喷淋装置包括压力水箱、电磁信号控制阀、送水管和喷淋头，压力水箱设置在装置外壳的侧壁，送水管一端连接在压力水箱上，另一端设置在装置外壳上，位于传送带的正上方，多个喷淋头设置在送水管上，电磁信号控制阀设置在喷淋头与送水管连接的管路上。

优选的，所述装置外壳上设置有吸气装置，其包括装置本体、吸气管、风机、出气管和活性炭吸收装置，装置本体设置在装置外壳上，风机设置在装置本体的内部，吸气管设置在装置本体上，位于传送带上方，出气管设置在装置本体内，与活性炭吸收装置连接，吸气管、风机和出气管构成连同回路。

采用以上技术方案的有益效果是：本实用新型结构的用于滤波器生产的刻蚀装置，通过多刻蚀头对一整个电子部件进行分级刻蚀，克服单个刻蚀头刻蚀一整个电子部件产生的偏差问题，所述激光定位刻蚀头包括激光定位装置和等离子刻蚀头，激光定位装置设置在等离子刻蚀头上，激光定位装置与控制主机信号连接，该结构能够实现定位刻蚀的功能，所述传送带包括传送履带和安置槽，多个安置槽等距设置在传送履带上，所述安置槽为阶梯型结构，其外最外层为四方结构凹槽，中间层为内凹型四方结构凹槽，最内层为圆形结构凹槽，该结构能够稳定的对刻蚀的电子部件进行传送，所述喷淋装置包括压力水箱、电磁信号控制阀、送水管和喷淋头，压力水箱设置在装置外壳的侧壁，送水管一端连接在压力水箱上，另一端设置在装置外壳上，位于传送带的正上方，多个喷淋头设置在送水管上，电磁信号控制阀设置在喷淋头与送水管连接的管路上，该结构能够通过信号控制其根据刻蚀位置来进行局部喷淋，减少水资源的浪费，所述装置外壳上设置有吸气装置，其包括装置本体、吸气管、风机、出气管和活性炭吸收装置，装置本体设置在装置外壳上，风机设置在装置本体的内部，吸气管设置在装置本体上，位于传送带上方，出气管设置在装置本体内，与活性炭吸收装置连接，吸气管、风机和出气管构成连同回路，该结构能够对高温刻蚀产生的废气进行吸收，防止其污染环境。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是图1所示传送带的结构示意图；

图3是图1所示喷淋装置的结构示意图；

图4是图1所示吸气装置的结构示意图；

其中，1、刻蚀主机；2、喷淋装置；3、激光定位刻蚀头；4、装置外壳；5、传送带；6、从动轮；7、主动轮；8、控制主机；9、伺服电机；10、激光定位装置；11、等离子刻蚀头；12、传送履带；13、安置槽；14、压力水箱；15、电磁信号控制阀；16、送水管；17、喷淋头；18、吸气装置；19、装置本体；20、吸气管；21、风机；22、出气管；23、活性炭吸收装置。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本实用新型的优选实施方式。

图1-4出示本实用新型的具体实施方式：一种用于滤波器生产的刻蚀装置，包括刻蚀主机1、喷淋装置2、激光定位刻蚀头3、装置外壳4、传送带5、从动轮6、主动轮7、控制主机8和伺服电机9，刻蚀主机1设置在装置外壳4上，多个激光定位刻蚀头3设置在装置外壳4上，与刻蚀主机1连接，喷淋装置2设置在装置外壳4上，从动轮6和主动轮7设置在装置外壳4内部下端，传送带5嵌套在从动轮6和主动轮7上，主动轮7与伺服电机9连接，控制主机8独立设置，与刻蚀主机1及伺服电机9信号连接，所述激光定位刻蚀头3包括激光定位装置10和等离子刻蚀头11，激光定位装置10设置在等离子刻蚀头11上，激光定位装置10与控制主机8信号连接。

结合图2所示的传送带5包括传送履带12和安置槽13，多个安置槽13等距设置在传送履带12上，所述安置槽13为阶梯型结构，其外最外层为四方结构凹槽，中间层为内凹型四方结构凹槽，最内层为圆形结构凹槽。

结合图3所示的喷淋装置2包括压力水箱14、电磁信号控制阀15、送水管16和喷淋头17，压力水箱14设置在装置外壳4的侧壁，送水管16一端连接在压力水箱14上，另一端设置在装置外壳4上，位于传送带5的正上方，多个喷淋头17设置在送水管16上，电磁信号控制阀15设置在喷淋头17与送水管16连接的管路上。

结合图4所示的装置外壳4上设置有吸气装置18，其包括装置本体19、吸气管20、风机21、出气管22和活性炭吸收装置23，装置本体19设置在装置外壳4上，风机21设置在装置本体19的内部，吸气管20设置在装置本体19上，位于传送带5上方，出气管22设置在装置本体19内，与活性炭吸收装置23连接，吸气管20、风机21和出气管22构成连同回路。

本实用新型的实施过程为：待刻蚀的滤波器电子部件放置在传送带上的安置槽内，通过第一个激光定位刻蚀头时，其上的激光定位装置检测到电子部件，将信号反馈至控制主机，控制主机控制刻蚀主机，通过第一个等离子刻蚀头对电子部件进行局部刻蚀，刻蚀结束后继续传送到第二个激光定位刻蚀头按照同样程序进行二次刻蚀，直至完成所有分级的刻蚀程序；在刻蚀过程中，喷淋装置对刻蚀部件进行喷淋降温，同时吸气装置将因高温刻蚀产生的废气进行吸收。

采用以上技术方案的有益效果是：本实用新型结构的用于滤波器生产的刻蚀装置，通过多刻蚀头对一整个电子部件进行分级刻蚀，克服单个刻蚀头刻蚀一整个电子部件产生的偏差问题，所述激光定位刻蚀头包括激光定位装置和等离子刻蚀头，激光定位装置设置在等离子刻蚀头上，激光定位装置与控制主机信号连接，该结构能够实现定位刻蚀的功能，所述传送带包括传送履带和安置槽，多个安置槽等距设置在传送履带上，所述安置槽为阶梯型结构，其外最外层为四方结构凹槽，中间层为内凹型四方结构凹槽，最内层为圆形结构凹槽，该结构能够稳定的对刻蚀的电子部件进行传送，所述喷淋装置包括压力水箱、电磁信号控制阀、送水管和喷淋头，压力水箱设置在装置外壳的侧壁，送水管一端连接在压力水箱上，另一端设置在装置外壳上，位于传送带的正上方，多个喷淋头设置在送水管上，电磁信号控制阀设置在喷淋头与送水管连接的管路上，该结构能够通过信号控制其根据刻蚀位置来进行局部喷淋，减少水资源的浪费，所述装置外壳上设置有吸气装置，其包括装置本体、吸气管、风机、出气管和活性炭吸收装置，装置本体设置在装置外壳上，风机设置在装置本体的内部，吸气管设置在装置本体上，位于传送带上方，出气管设置在装置本体内，与活性炭吸收装置连接，吸气管、风机和出气管构成连同回路，该结构能够对高温刻蚀产生的废气进行吸收，防止其污染环境。

以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。