1.一种浅沟槽隔离结构，其特征在于，包括：
衬底，所述衬底中具有第一沟槽；
第一隔离层，位于所述第一沟槽的底部及侧壁，所述第一隔离层围成有第二沟槽，所述第二沟槽包括下槽部及与所述下槽部连通的上槽部，且所述上槽部的宽度大于所述下槽部的宽度；以及
第二隔离层，填充于所述第二沟槽中。
2.根据权利要求1所述的浅沟槽隔离结构，其特征在于：所述第二沟槽包括漏斗形结构。
3.根据权利要求1所述的浅沟槽隔离结构，其特征在于：所述上槽部包括相对的两弧形侧壁。
4.根据权利要求1所述的浅沟槽隔离结构，其特征在于：所述第二沟槽的上槽部的宽度介于所述第一沟槽的宽度的3/4～1之间。
5.根据权利要求1所述的浅沟槽隔离结构，其特征在于：所述浅沟槽隔离结构还包括形成于所述第一沟槽的底部及侧壁的氧化物衬垫层，且所述氧化物衬垫层位于所述衬底及所述第一隔离层之间。