显示模组及其制造方法、显示装置与流程

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示模组及其制造方法、显示装置。

背景技术：

随着显示技术的发展，透明显示模组作为一种新型的显示模组逐渐被应用于建筑物窗户、汽车车窗与商店橱窗等。透明显示模组包括透明显示面板，透明显示面板具有透明显示状态以使观看者能够观看到显示面板显示的图像以及位于显示面板背后的景象。例如，具有透明显示面板的商店橱窗能够使观看者观看到商店橱窗显示的图像以及商店内摆放的商品。

为了使透明显示面板适应不同的环境光，通常需要根据环境光调节透明显示面板的亮度，例如，在环境光较亮时，需要将透明显示面板的亮度调高，在环境光较暗时，需要将透明显示面板的亮度调低。目前，通常采用手动调节的方式对透明显示面板的亮度进行调节。但是手动调节的准确性较低。

技术实现要素：

本发明实施例提供了一种显示模组及其制造方法、显示装置，能够提高调节显示面板的亮度的准确性。本发明实施例的技术方案如下：

第一方面，提供了一种显示模组，所述显示模组包括：显示面板和亮度调节组件，所述显示面板包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的光电转换单元，所述显示面板具有透明区域，所述光电转换单元位于所述透明区域中，所述光电转换单元与所述亮度调节组件连接；

所述光电转换单元被配置为将所述显示面板所处环境中的环境光的光信号转换为电信号；

所述亮度调节组件被配置为基于所述光电转换单元转换得到的所述电信号调节所述显示面板的亮度。

可选的，所述显示面板还包括：设置在所述衬底基板上的开关单元，所述开关单元与所述光电转换单元连接。

可选的，所述显示面板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域包括非透明区域和所述透明区域，所述显示区域包括非透明区域，所述开关单元位于所述非显示区域的所述非透明区域中，或，所述开关单元位于所述显示区域的所述非透明区域中。

可选的，所述光电转换单元为光电二极管。

可选的，所述光电转换单元包括：沿远离所述衬底基板的方向依次叠加的第一电极、pin结构和第二电极，所述第一电极与所述开关单元连接。

可选的，所述开关单元为薄膜晶体管tft，所述tft的漏极与所述第一电极连接。

可选的，所述第一电极的材料、所述pin结构的材料和所述第二电极的材料均为透明材料。

可选的，所述第二电极包括叠加设置的下部电极和上部电极，所述显示面板还包括：设置在所述下部电极与所述上部电极之间的钝化层，所述钝化层上具有通孔，所述上部电极通过所述通孔与所述下部电极连接。

可选的，所述显示面板还包括：位于所述衬底基板上的显示单元，所述显示单元包括：沿远离所述衬底基板的方向依次设置的tft、阳极、像素定义层、发光层和阴极。

第二方面，提供了一种显示模组的制造方法，所述方法包括：

在衬底基板上形成光电转换单元，得到显示面板，所述显示面板具有透明区域，所述光电转换单元位于所述透明区域中；

形成亮度调节组件；

将所述亮度调节组件与所述光电转换单元连接，得到显示模组；

其中，所述光电转换单元被配置为将所述显示面板所处环境中的环境光的光信号转换为电信号；

所述亮度调节组件被配置为基于所述光电转换单元转换得到的所述电信号调节所述显示面板的亮度。

可选的，在衬底基板上形成光电转换单元之前，所述方法还包括：在衬底基板上形成开关单元；

所述在衬底基板上形成光电转换单元，包括：在形成有所述开关单元的衬底基板上形成光电转换单元，所述开关单元与所述光电转换单元连接。

可选的，所述光电转换单元为光电二极管，所述在形成有所述开关单元的衬底基板上形成光电转换单元，包括：

在形成有所述开关单元的衬底基板上依次形成第一电极和pin结构，所述第一电极与所述开关单元连接；

在形成有所述pin结构的衬底基板上形成第二电极，所述第一电极、所述pin结构和所述第二电极沿远离所述衬底基板的方向依次叠加。

可选的，所述在衬底基板上形成开关单元，包括：在衬底基板上形成tft，所述tft的漏极与所述第一电极连接。

可选的，所述在形成有所述pin结构的衬底基板上形成第二电极，包括：在形成有所述pin结构的衬底基板上形成下部电极；

所述方法还包括：在形成有所述下部电极的衬底基板上形成钝化层，所述钝化层具有通孔，所述下部电极通过所述通孔部分露出；

所述在形成有所述pin结构的衬底基板上形成第二电极，还包括：在形成有所述钝化层的衬底基板上形成上部电极，所述上部电极通过所述通孔与所述下部电极连接。

可选的，所述方法还包括：在所述衬底基板上形成显示单元。

第三方面，提供了一种显示装置，包括第一方面或第一方面的任一可选方式所述的显示模组。

本发明提供的技术方案可以包括以下有益效果：

本发明提供的显示模组及其制造方法、显示装置，显示模组包括显示面板和亮度调节组件，显示面板包括光电转换单元，光电转换单元设置在显示面板的透明区域，且光电转换单元与亮度调节组件连接，光电转换单元能够将显示面板所处环境中的环境光的光信号转换为电信号，亮度调节组件能够基于光电转换单元转换得到的电信号调节显示面板的亮度，由于该光电转换单元设置在显示面板中，因此基于光电转换单元转换得到的电信号调节显示面板的亮度的准确性较高。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本发明。

附图说明

为了更清楚地说明本发明的实施例，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例所涉及的一种显示面板的俯视图。

图2为本发明实施例提供的一种显示模组的俯视图。

图3为图2所示的显示模组的部分区域的放大图。

图4为本发明实施例提供的另一种显示模组的部分区域的放大图。

图5为图4所示的显示模组的a-b位置的截面示意图。

图6为本发明实施例提供的一种pin结构的示意图。

图7为图4所示的显示模组的c-d位置的截面示意图。

图8为本发明实施例提供的一种显示模组的制造方法的方法流程图。

图9为本发明实施例提供的另一种显示模组的制造方法的方法流程图。

图10为本发明实施例提供的一种形成光电转换单元的方法流程图。

图11为本发明实施例提供的一种形成第二电极的方法流程图。

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

请参考图1，图1为本发明实施例所涉及的一种显示面板10的俯视图，该显示面板10具有透明区域a和非透明区域b，非透明区域b设置有用于显示的像素单元11，像素单元11包括红色子像素单元111、绿色子像素单元112以及蓝色子像素单元113。

目前，当上述显示面板10应用于显示装置时，通常采用下述两种方法中的至少一种对上述显示面板10进行亮度调节：

第一种方法：显示装置中设置有亮度调节按钮，用户可以通过该亮度调节按钮手动调节显示面板的亮度。但是手动调节的准确性较低，且手动调节的过程较为复杂。

第二种方法：显示装置中设置有用于对环境光进行感测的感光区域，该感光区域位于显示面板之外，显示装置根据感光区域感测到的环境光的亮度调节显示面板的亮度。但是，由于感光区域位于显示面板之外，因此根据感光区域感测到的亮度调节显示面板的亮度的准确性较低，容易出现误调节的情况；此外，感光区域位于显示面板之外还会影响显示装置的外观设计。

本发明实施例提供了一种显示模组及其制造方法、显示装置，显示模组包括显示面板和亮度调节组件，显示面板的透明区域中设置有光电转换单元，光电转换单元可以将显示面板所处环境中的环境光的光信号转换为电信号，亮度调节组件可以基于光电转换单元转换得到的电信号调节显示面板的亮度。由于无需手动调节显示面板的亮度且光电转换单元位于显示面板中，因此，对显示面板进行亮度调节的准确性较高。此外，光电转换单元的材料为透明材料，将光电转换单元设置于透明区域中，且透明区域位于非显示区域中，因此该光电转换单元不会影响显示面板的开口率及分辨率，也即是，本发明实施例提供的方案在不影响显示面板的开口率及分辨率的前提下实现了对显示面板亮度的调节。本发明的详细方案请参考下述实施例的描述。

请参考图2和图3，图2为本发明实施例提供的一种显示模组2的俯视图，图3为图2所示的显示模组2的区域e的放大图，参见图2和图3，该显示面板20包括显示区域d和非显示区域c，显示区域d包括非透明区域(图2和图3中均未标出)，非显示区域c包括透明区域c1和非透明区域c2，显示区域d设置有阵列排布的多个像素单元(图2和图3中均未标出)，每个像素单元包括红色子像素(图2和图3中均未标出)、绿色子像素(图2和图3中均未标出)和蓝色子像素(图2和图3中均未标出)。

如图2和图3所示，该显示模组2包括：显示面板20和亮度调节组件30，该显示面板20包括衬底基板21以及设置在衬底基板21上的光电转换单元22，该显示面板20具有透明区域c1，光电转换单元22位于透明区域c1中，光电转换单元22与亮度调节组件30连接。

其中，光电转换单元22被配置为将显示面板20所处环境中的环境光的光信号转换为电信号，亮度调节组件30被配置为基于光电转换单元22转换得到的电信号调节显示面板20的亮度。

综上所述，本发明实施例提供的显示模组，包括显示面板和亮度调节组件，显示面板包括光电转换单元，光电转换单元设置在显示面板的透明区域，且光电转换单元与亮度调节组件连接，光电转换单元能够将显示面板所处环境中的环境光的光信号转换为电信号，亮度调节组件能够基于光电转换单元转换得到的电信号调节显示面板的亮度，由于该光电转换单元设置在显示面板中，因此基于光电转换单元转换得到的电信号调节显示面板的亮度的准确性较高。

可选的，上述衬底基板21可以为透明基板，例如，衬底基板可以为采用玻璃、石英或透明树脂等具有一定坚固性的导光且非金属材料制成的硬质基板；或者，衬底基板为采用聚酰亚胺(polyimide，pi)等柔性材料制成的柔性基板。显示模组2可以包括与显示面板20绑定的集成电路(integratedcircuit，ic)，该集成电路可以是驱动ic，亮度调节组件30可以为集成电路中的功能组件。

其中，光电转换单元22位于透明区域c1中，也即是该光电转换单元22位于非显示区域c中，这样，可以避免光电转换单元22对显示面板20的开口率以及分辨率的影响。本发明实施例提供的显示模组2可以在不影响显示面板20的开口率以及分辨率的情况下，提高显示面板20亮度调节的准确性。

可选的，请参考图4，图4为本发明实施例提供的另一种显示模组2的部分区域的放大图，在图3的基础上，显示面板20还包括：设置在衬底基板21上的开关单元23，开关单元23与光电转换单元22连接，开关单元23用于对光电转换单元22进行开关控制，换句话来讲，开关单元23用于控制光电转换单元22是否工作，在开关单元23导通时，光电转换单元22工作，光电转换单元22将光信号转换为电信号，在开关单元23截止时，光电转换单元22不工作，也即是，光电转换单元22不进行光信号与电信号的转换。可选的，如图4所示，上述开关单元23位于显示区域d中，且具体是位于显示区域d的非透明区域中。其中，图4是以该开关单元23位于显示区域d的非透明区域为例进行说明的，实际应用中，该开关单元23还可以位于非显示区域的非透明区域中，本发明实施例对此不做限定。由于开关单元23通常采用非透明材料制成，因此，将开关单元23设置在非透明区域中，能够避免开关单元23对透明区域c1的透明度的影响。

需要说明的是，图4所示的光电转换单元22和开关单元23在显示面板20中的位置只是一示意性说明，在实际应用时，光电转换单元22还可以设置在透明区域c1的其他位置，开关单元23可以设置在非透明区域的其他位置，只要保证开关单元23与光电转换单元22连接即可，本发明实施例对此不做限定。

请参考图5，图5为图4所示的显示模组2在ab位置的截面示意图。如图5所示，光电转换单元22为光电二极管，该光电转换单元22包括：沿远离衬底基板21的方向依次叠加的第一电极221、pin结构222和第二电极223，第一电极221与开关单元23连接。第一电极221的材料、pin结构222的材料和第二电极223的材料均可以为透明材料，以降低光电转换单元22对透明区域c1的透明度的影响，示例的，该第一电极221的材料和第二电极223的材料可以为氧化铟锡(indiumtinoxide，ito)。可选的，如图5所示，第二电极223包括叠加设置的下部电极2231和上部电极2232，该显示面板20还包括：设置在下部电极2231与上部电极2232之间的钝化层24，钝化层24上具有通孔241，上部电极2232通过通孔241与下部电极2231连接。其中，上部电极2232能够增大光电转换单元22的感光区域，便于光电转换单元22对环境光进行感测。请参考图6，图6为本发明实施例提供的一种pin结构222的示意图，该pin结构222包括：依次叠加的p型半导体层2221、本征半导体层2222和n型半导体层2223，p型半导体层2221相对于n型半导体层2223可以靠近第一电极221，或者p型半导体层2221相对于n型半导体层2223远离第一电极221，本发明实施例对此不做限定。其中，该p型半导体层2221可以为p型掺杂的非晶硅(a-si)薄膜，n型半导体层2223可以为n型掺杂的a-si薄膜，本征半导体层2222可以为a-si薄膜。可选的，该p型半导体层2221可以掺杂有硼(b)离子，n型半导体层2223可以掺杂有磷(p)离子。

上述具有pin结构222的光电二极管也可以称为pin结光电二极管，该pin结光电二极管可以基于光生伏特效应(photovoltaiceffect)进行光电转换，该结构的光电转换单元对光照十分敏感，能够准确的感测到环境光并将环境光的光信号转换为电信号，以便于亮度调节组件30对显示面板20的亮度进行准确调节。其中，pin结光电二极管的工作原理为：当光线照射到该pin结光电二极管上时，该光线的能量将p型半导体层2221和n型半导体层2223的电子从共价键中激发出来，从而在pin结光电二极管中产生电子-空穴对，pin结光电二极管中被激发出来的部分电子和空穴在未复合(即在pin结光电二极管被光线照射后，被激发出来的部分电子和空穴在该pin结光电二极管趋向稳定的过程中未被“复合中心”俘获从而消失)之前达到空间电荷区，在空间电荷区的内电场的作用下，电子向带有正电的n型半导体层2223移动，空穴向带有负电的p型半导体层2221移动，在一段时间后，由于n型半导体层2223存储了过剩的电子，其带负电，p型半导体层2221存储了过剩的空穴，其带正电，从而在n型半导体层2223和p型半导体层2221之间的本征半导体层2222上产生了电动势，相应产生了电流，该电流的逐渐累积使该pin结光电二极管具有光电转换功能。

需要说明的是，本发明实施例所描述的光电转换单元22的结构仅仅是示例性的，实际应用中，光电转换单元的结构也可以为其他结构，只要能够实现对显示面板所处环境的环境光的准确感测即可。

可选的，上述开关单元23可以为薄膜晶体管(thinfilmtransistor，tft)，则如图5所示，该开关单元23包括：沿远离衬底基板21的方向依次设置的栅极231、栅绝缘层232、有源层233、刻蚀阻挡层234以及源漏极层235，源漏极层235包括源极2351和漏极2352，源极2351与漏极2352不接触，漏极2352与第一电极221连接。需要说明的是，如图5所示，本发明实施例是以开关单元23为底栅结构的tft为例进行说明的，在实际应用中，该开关单元可以为顶栅结构的tft，只要能够实现对光电转换单元的开关控制即可，本发明实施例对此不做限定。实际应用中，该显示模组2还可以包括控制组件(图中未示出)，该控制组件可以与开关单元的源极2351连接，控制组件用于控制开关单元23是否导通，该控制组件可以为显示模组2的集成电路中的功能组件。此外，参见图5并结合图4，开关单元23的栅绝缘层232和刻蚀阻挡层234延伸至显示面板20的透明区域c1，光电转换单元22可以设置在刻蚀阻挡层234远离衬底基板21的一面上。

可选的，如上述图4所示，显示面板20还包括：位于衬底基板21上的显示单元25。则请参考图7，图7为图4所示的显示模组2在cd位置的截面示意图，该显示单元25包括：沿远离衬底基板21的方向依次设置的tft251、阳极252、像素定义层253、发光层254和阴极255。该tft251包括：沿远离衬底基板21的方向依次设置的栅极2511、栅绝缘层2512、有源层2513、刻蚀阻挡层2514以及源漏极层2515，源漏极层2515包括源极2515a和漏极2515b，源极2515a与漏极2515b不接触，漏极2515b与阳极252连接。其中，tft251的栅绝缘层2512与开关单元23的栅绝缘层232为同一膜层，tft251的刻蚀阻挡层2514与开关单元23的刻蚀阻挡层234为同一膜层。tft251可以与上述开关单元23同步制造，从而简化显示面板20的制造工艺，提高生产效率。需要说明的是，实际应用中，显示单元25可以覆盖开关单元23，以避免开关单元23的设置对显示单元25的开口率以及显示面板20的分辨率的影响，本发明实施例为了更清晰的描述开关单元23的完整结构以及开关单元23在衬底基板21上的位置，在图4中未示出显示单元25中覆盖开关单元23的部分，因此，从图4来看，显示单元25(也即是图4中的红色显示单元r和绿色显示单元g)具有缺口。

需要说明的是，根据以上描述不难理解，本发明实施例提供的显示模组2可以自动进行显示面板20的亮度调节，实际应用中，当显示模组2应用于显示装置时，可以在显示装置中设置亮度调整开关(或按钮)，用户可以通过亮度调整开关开启或关闭显示模组的亮度调节功能，当显示模组的亮度调节功能开启时，显示模组基于本发明实施例提供的方案对显示面板进行亮度调节，当显示模组的亮度调节功能关闭时，显示模组不自动对显示面板进行亮度调节。

还需要说明的是，本发明实施例提供的显示模组可以为有机发光二极管(organiclight-emittingdiode，oled)显示模组，本发明实施例中仅仅描述了该显示模组中与显示以及亮度调节相关的结构，实际应用中，该显示模组以及该显示模组中的显示面板还包括其他结构，例如显示面板还包括封装结构和盖板等结构，本发明实施例在此不再赘述。

综上所述，本发明实施例提供的显示模组，包括显示面板和亮度调节组件，显示面板包括光电转换单元，光电转换单元设置在显示面板的透明区域，且光电转换单元与亮度调节组件连接，光电转换单元能够将显示面板所处环境中的环境光的光信号转换为电信号，亮度调节组件能够基于光电转换单元转换得到的电信号调节显示面板的亮度，由于该光电转换单元设置在显示面板中，因此基于光电转换单元转换得到的电信号调节显示面板的亮度的准确性较高；此外，光电转换单元的材料为透明材料，将光电转换单元设置于透明区域中，且透明区域位于非显示区域中，因此该光电转换单元不会影响显示面板的开口率及分辨率。

请参考图8，图8为本发明实施例提供的一种显示模组的制造方法的方法流程图，该显示模组的制造方法可以用于制造上述实施例提供的显示模组2，该方法可以包括以下步骤：

步骤701、在衬底基板上形成光电转换单元，得到显示面板。

该显示面板具有透明区域，光电转换单元位于显示面板的透明区域中。

步骤702、形成亮度调节组件。

步骤703、将亮度调节组件与光电转换单元连接，得到显示模组。

其中，光电转换单元被配置为将显示面板所处环境中的环境光的光信号转换为电信号。亮度调节组件被配置为基于光电转换单元转换得到的电信号调节显示面板的亮度。

综上所述，本发明实施例提供的显示模组的制造方法，所制造的显示模组包括显示面板和亮度调节组件，显示面板包括光电转换单元，光电转换单元设置在显示面板的透明区域，且光电转换单元与亮度调节组件连接，光电转换单元能够将显示面板所处环境中的环境光的光信号转换为电信号，亮度调节组件能够基于光电转换单元转换得到的电信号调节显示面板的亮度，由于该光电转换单元设置在显示面板中，因此基于光电转换单元转换得到的电信号调节显示面板的亮度的准确性较高；此外，光电转换单元的材料为透明材料，将光电转换单元设置于透明区域中，且透明区域位于非显示区域中，因此该光电转换单元不会影响显示面板的开口率及分辨率。

请参考图9，图9为本发明实施例提供的另一种显示模组的制造方法的方法流程图，该显示模组的制造方法可以用于制造上述实施例提供的显示模组2，该方法可以包括以下步骤：

步骤801、在衬底基板上形成开关单元。

可选的，衬底基板可以为透明基板，例如，衬底基板可以为采用玻璃、石英或者透明树脂等具有一定坚固性的导光且非金属材料制成的硬质基板；或者，衬底基板为采用pi等柔性材料制成的柔性基板。

其中，开关单元可以为tft，在衬底基板上形成开关单元也即是在衬底基板上形成tft。如图5所示，在衬底基板21上形成开关单元23包括：在衬底基板21上依次形成栅极231、栅绝缘层232、有源层233、刻蚀阻挡层234以及源漏极层235，源漏极层235包括源极2351和漏极2352，源极2351与漏极2352不接触，刻蚀阻挡层234上形成有与源极2351对应的通孔以及与漏极2352对应的通孔，源极2351和漏极2352分别通过相应的通孔与有源层233接触。

示例的，在衬底基板21上形成开关单元23可以包括如下步骤：

步骤(1)、通过化学气相沉积(chemicalvapordeposition，cvd)、涂敷或者溅射等方式在衬底基板21上形成栅极材质层，通过一次构图工艺对栅极材质层进行处理得到栅极231。

步骤(2)、通过cvd、涂敷或者溅射等方式在形成有栅极231的衬底基板21上形成栅绝缘层232。

步骤(3)、通过cvd、涂敷或者溅射等方式在形成有栅绝缘层232的衬底基板21上形成有源层材质层，通过一次构图工艺对有源层材质层进行处理得到有源层233。

步骤(4)、通过cvd、涂敷或者溅射等方式在形成有源层233的衬底基板21上形成刻蚀材质层，通过一次构图工艺对刻蚀材质层进行处理得到刻蚀阻挡层234。

步骤(5)、通过cvd、涂敷或者溅射等方式在形成有刻蚀阻挡层234的衬底基板21上形成导电材质层，通过一次构图工艺对导电材质层进行处理得到源漏极层235，源漏极层235包括源极2351和漏极2352。其中，该导电材质层可以为金属材质层。

需要说明的是，如图2所示，显示面板20包括非透明区域(包括显示区域d的非透明区域和非显示区域c的非透明区域c2)，衬底基板21上具有与非透明区域对应的区域(也即是非透明区域在衬底基板21上的正投影区域)，开关单元23可以位于衬底基板21上与显示面板20的非透明区域对应的区域中。

步骤802、在形成有开关单元的衬底基板上形成光电转换单元。

其中，光电转换单元可以为pin结光电二极管，示例的，请参考图10，图10为本发明实施例提供的一种形成光电转换单元的方法流程图，该方法以光电转换单元为pin结光电二极管为例进行说明，该方法可以包括以下子步骤：

子步骤8021、在形成有开关单元的衬底基板上依次形成第一电极和pin结构。

如图5所示，第一电极221与开关单元23的漏极2352连接。此外，如图6所示，pin结构222包括：p型半导体层2221、本征半导体层2222和n型半导体层2223，示例的，在形成有开关单元23的衬底基板21上依次形成第一电极221和pin结构222可以包括如下步骤：

步骤(1)、通过cvd、涂敷或者溅射等方式在形成有开关单元23的衬底基板21上形成导电材质层，通过一次构图工艺对导电材质层进行处理得到第一电极221。其中，该导电材质层可以为ito材质层。

步骤(2)、在形成有第一电极221的衬底基板21上依次形成p型半导体材质层、本征半导体材质层和n型半导体材质层，然后通过一次构图工艺对p型半导体材质层、本征半导体材质层和n型半导体材质层进行处理得到p型半导体层2221、本征半导体层2222和n型半导体层2223，也即是得到pin结构222。其中，形成p型半导体材质层可以包括通过cvd、涂敷或者溅射等方式形成本征半导体材质层，然后对本征半导体材质层进行p型掺杂得到p型半导体材质层，形成n型半导体材质层可以包括通过cvd、涂敷或者溅射等方式形成本征半导体材质层，然后对本征半导体材质层进行n型掺杂得到n型半导体材质层。示例的，该p型半导体材质层的材料可以为p型a-si，本征半导体材质层的材料可以为本征a-si，n型半导体材质层的材料可以为n型a-si。

需要说明的是，本发明实施例是以同时形成p型半导体层2221、本征半导体层2222和n型半导体层2223为例进行说明的，实际应用中，可以在每形成一半导体材质层(例如p型半导体材质层)后，就通过一次构图工艺对该半导体材质层进行处理得到相应的半导体层(例如p型半导体层2221)。

子步骤8022、在形成有pin结构的衬底基板上形成第二电极。

如图5所示，第二电极223包括叠加设置的下部电极2231和上部电极2232，显示面板20还包括设置在下部电极2231与上部电极2232之间的钝化层24，钝化层24上具有通孔241，上部电极2232通过通孔241与下部电极2231连接。示例的，请参考图11，图11为本发明实施例提供的一种形成第二电极的方法流程图，该方法可以包括以下子步骤：

子步骤8022a、在形成有pin结构的衬底基板上形成下部电极。

示例的，可以通过cvd、涂敷或者溅射等方式在形成有pin结构222的衬底基板21上形成导电材质层，通过一次构图工艺对导电材质层进行处理得到下部电极2231。其中，该导电材质层可以为ito材质层。

子步骤8022b、在形成有下部电极的衬底基板上形成钝化层。

示例的，可以通过cvd、涂敷或者溅射等方式在形成下部电极2231的衬底基板21上形成钝化层材质层，通过一次构图工艺对钝化层材质层进行处理得到钝化层24，该钝化层24上具有通孔241。

子步骤8022c、在形成有钝化层的衬底基板上形成上部电极。

示例的，可以通过cvd、涂敷或者溅射等方式在形成有钝化层24的衬底基板21上形成导电材质层，通过一次构图工艺对导电材质层进行处理得到上部电极2232，上部电极2232通过钝化层24上的通孔241与下部电极2231连接。其中，该导电材质层可以为ito材质层。

需要说明的是，如图2所示，显示面板20包括透明区域c1，衬底基板21上具有与透明区域c1对应的区域(也即是透明区域c1在衬底基板21上的正投影区域)，光电转换单元22在衬底基板21上的正投影可以位于衬底基板21上与显示面板的透明区域对应的区域中。

步骤803、在衬底基板上形成显示单元，得到显示面板。

如图7所示，在衬底基板21上形成显示单元25包括：在衬底基板21上依次形成tft251、阳极252、像素定义层253、发光层254和阴极255。

示例的，在衬底基板21上形成显示单元25可以包括如下步骤：

步骤(1)、在衬底基板21上形成tft251，该步骤的实施过程可以参考上述步骤801中在衬底基板21上形成开关单元23的过程，本发明实施例在此不做赘述。需要说明的是，在实际应用时，该步骤(1)中形成tft251的过程可以与上述步骤801中形成开关单元23的过程同时进行，该显示单元中的tft251可以与开关单元23同层设置。

步骤(2)、通过cvd、涂敷或者溅射等方式在形成有tft251的衬底基板21上形成导电材质层，通过一次构图工艺对导电材质层进行处理得到阳极252。

步骤(3)、通过cvd、涂敷或者溅射等方式在形成有阳极252的衬底基板21上形成像素定义材质层，通过一次构图工艺对像素定义材质层进行处理得到像素定义层253。

步骤(4)、通过cvd、涂敷或者溅射等方式在形成有像素定义层253的衬底基板21上形成发光材质层，通过一次构图工艺对发光材质层进行处理得到发光层254。需要说明的是，该步骤(4)是以形成一种颜色的发光层为例进行说明的，实际应用中，显示面板包括不同颜色的发光层，每一种颜色的发光层形成过程可以参考该步骤(4)，本发明实施例在此不再赘述。

步骤(5)、通过cvd、涂敷或者溅射等方式在形成有发光层254的衬底基板21上形成导电材质层，通过一次构图工艺对导电材质层进行处理得到阴极255。

步骤804、形成亮度调节组件。

亮度调节组件可以为集成电路中的功能组件，形成亮度调节组件也即是形成集成电路，具体实现过程可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述。

步骤805、将亮度调节组件与光电转换单元连接，得到显示模组。

可选的，亮度调节组件可以为集成电路中的功能组件，如图2至图4所示，可以将集成电路与显示面板20绑定，以将亮度调节组件30与光电转换单元22连接。可选的，显示面板20和集成电路上均具有绑定区域，可以通过显示面板20上的绑定区域和集成电路上的绑定区域将显示面板20与集成电路绑定，使亮度调节组件30与光电转换单元22连接。

需要说明的是，本发明实施例中所描述的一次构图工艺通常包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离。

还需要说明的是，本发明实施例提供的显示模组的制造方法步骤的先后顺序可以进行适当调整，步骤也可以根据情况进行相应增减，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本发明的保护范围之内，因此不再赘述。例如，步骤804可以在步骤803与步骤805之间执行，或者步骤804可以在步骤801至步骤803之前执行；再例如，步骤801可以与步骤803中形成显示单元25中的tft的步骤同时执行。

综上所述，本发明实施例提供的显示模组的制造方法，所制造的显示模组包括显示面板和亮度调节组件，显示面板包括光电转换单元，光电转换单元设置在显示面板的透明区域，且光电转换单元与亮度调节组件连接，光电转换单元能够将显示面板所处环境中的环境光的光信号转换为电信号，亮度调节组件能够基于光电转换单元转换得到的电信号调节显示面板的亮度，由于该光电转换单元设置在显示面板中，因此基于光电转换单元转换得到的电信号调节显示面板的亮度的准确性较高；此外，光电转换单元的材料为透明材料，将光电转换单元设置于透明区域中，且透明区域位于非显示区域中，因此该光电转换单元不会影响显示面板的开口率及分辨率。

本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括本发明上述实施例提供的显示模组2。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由权利要求指出。

应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。